CN103162159A - 一种led洗墙灯的光学系统 - Google Patents

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王�琦
宋毅
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Abstract

本发明公开了一种LED洗墙灯的光学系统,包括散热板,所述散热板上侧设置有铝基板,所述铝基板上侧设置有反射板,所述反射板上设置有多个安装孔,所述安装孔内设置有LED芯片;所述LED芯片外侧设置有二次光学配光透镜;所述散热板下侧设置有多个用于散热的梳齿状翅片。本发明具有以下特点:设计合理,结构简单,具有良好的配光曲线,且光效高,均匀性好,整体散热效果好,使用寿命长,生产成本低,适用范围广泛,便于推广使用。

Description

一种LED洗墙灯的光学系统
技术领域
本发明属于照明技术领域,涉及一种灯具的光学系统,具体涉及一种LED洗墙灯的光学系统。
背景技术
在建筑物上,人们通常会使用灯具将灯光投射到建筑物的墙壁上,使建筑物能在夜晚显示出梦幻般的效果,这种就用于建筑物亮化工程的灯具,一般称之为洗墙灯。
目前洗墙灯被广泛的应用在各种照明场所,特别是建筑外墙照明、大楼内光外透照明、室内局部照明、绿化景观照明、广告牌照明、医疗文化等专门设施照明,在需要多个LED洗墙灯协同工作时,往往需要进行集中控制。但是在某些场合需要使用的LED洗墙灯数目很多,因而布置起来非常繁琐。另外一般洗墙灯的主机安装在灯体外部,这样散热效果虽好,但存在防尘、防水效果较差等缺点。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术中的不足,提供一种LED洗墙灯的光学系统,其设计合理,结构简单,具有良好的配光曲线,且光效高,均匀性好,整体散热效果好,使用寿命长,生产成本低,适用范围广泛,便于推广使用。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案是:一种LED洗墙灯的光学系统,包括散热板,其特征在于:所述散热板上侧设置有铝基板,所述铝基板上侧设置有反射板,所述反射板上设置有多个安装孔,所述安装孔内设置有LED芯片;所述LED芯片外侧设置有二次光学配光透镜;所述散热板下侧设置有多个用于散热的梳齿状翅片。
所述反射板为高纯度铝板。
本发明与现有技术相比具有以下优点:
(1)该LED洗墙灯的光学系统设计合理,结构非常简单。
(2)该LED洗墙灯的光学系统体积小,重量轻,便于搬运、布置。
(3)该LED洗墙灯的光学系统具有良好的配光曲线,且光效高、均匀性好,可满足洗墙灯的光学照明要求。
(4)该LED洗墙灯的光学系统内部设置有用于散热的梳齿状翅片,整体散热效果好,使用寿命长。
(5)该LED洗墙灯的光学系统生产工艺简单,因而其生产成本很低,且使用范围广泛,便于推广使用。
下面通过附图和实施例,对本发明做进一步的详细描述。
附图说明
图1为本发明的整体结构示意图。
附图标记说明:
1-LED芯片;    2-二次光学配光透镜;    3-反射板;
4-铝基板;     5-散热板;              5-1-翅片。
具体实施方式
如图1所示的一种LED洗墙灯的光学系统,包括散热板5,所述散热板5上侧设置有铝基板4,所述铝基板4上侧设置有反射板3,所述反射板3为高纯度铝板,高纯度铝板的表面反射率高,同时其导热效果好。所述反射板3上设置有多个安装孔,所述安装孔内设置有LED芯片1。
如图1所示,所述LED芯片1外侧设置有二次光学配光透镜2,二次光学配光透镜2可以使LED芯片1散发的光线以一定倾斜角度射出,重新分配光线到指定区域,使用效果更佳。
如图1所示,所述散热板5下侧设置有多个用于散热的梳齿状翅片5-1,梳齿状翅片5-1可以大大增加散热板5的散热面积,实现对LED芯片1的良好散热,极大的延长了洗墙灯LED芯片1的使用寿命。
本发明LED洗墙灯的光学系统的工作过程是:首先将该LED洗墙灯的光学系统安装好,LED芯片1接通电源后发光,LED芯片1向下发射的光线经过反射板3反射后向前射出,向前的光线经二次光学配光透镜2后以一定倾斜角度射出,重新分配光线到指定区域,使用效果更佳。LED芯片1在发光时产生的热量经铝基板4导热后,通过散热板5散发到空气中,导热效果非常好。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例,并非对本发明作任何限制,凡是根据本发明技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、变更以及等效结构变换,均仍属于本发明技术方案的保护范围内。

Claims (2)

1.一种LED洗墙灯的光学系统,包括散热板(5),其特征在于:所述散热板(5)上侧设置有铝基板(4),所述铝基板(4)上侧设置有反射板(3),所述反射板(3)上设置有多个安装孔,所述安装孔内设置有LED芯片(1);所述LED芯片(1)外侧设置有二次光学配光透镜(2);所述散热板(5)下侧设置有多个用于散热的梳齿状翅片(5-1)。
2.按照权利要求1所述的一种LED洗墙灯的光学系统,其特征在于:所述反射板(3)为高纯度铝板。
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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
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