CN103108692A - 用于分布蒸气和液相的装置和方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开用于分布蒸气-液体流动的装置和方法。由于分布器盘定位不水平导致分布不均匀的问题通过改变泡罩和/或其开口的高度以控制由液面上升导致的液体流动形态(分布)从而得以解决。

Description

用于分布蒸气和液相的装置和方法

在先国家申请的优先权要求

本申请要求在2010年9月27日提交的美国申请12/890,988的优先权。

发明领域

本发明涉及用于分布蒸气和液体的装置以及使用该装置的方法。在该装置中，用于流体流过不同长形泡罩的各最高或最低开口(例如顶开口和/或侧开口)在泡罩从此延伸的盘上方的不同高度。例如在盘不完全水平时的流体分布不均匀由此减小或消除。

背景技术

用于分布蒸气和液相的设备广泛用于包括炼油和石化产品加工的工业应用中。例如，用于分布向下流动的分别主要包括氢和烃的蒸气和液相的设备经常用于炼油加氢操作中，特别是在加氢裂化和加氢处理反应器中。

在许多涉及蒸气和液相的流动的应用中，在垂直于流动方向的横截面上维持均匀的流速(例如活塞流)和温度形态对于例如涉及流动的蒸气和液体在催化剂颗粒的固定床存在下的反应的总过程是极其重要的。另外，这些流速和温度形态可以相互作用，因为蒸气或液体流的不均匀分布可以导致温度形态的变化，反之亦然。这一相互作用对于炼油加氢操作反应器或希望长期使用单一催化剂装料的其他类型的反应器的长时间成功操作是高度关键的。加氢裂化和其他加氢操作反应，包括加氢处理(例如加氢脱硫)反应是大量放热的，以致向下流动的蒸气和液体反应物的温度随着反应完成程度显著增加。另外，催化剂性能，特别是其促进在可能的最高的产率下向所希望的产物的转化的能力，高度依赖于其操作温度。因此，反应的放热性质影响催化剂和总过程的性能。

反应的蒸气和液相的不均匀分布和/或不充分混合可能引起局部温度偏差(“热点(hot spot)”)，其由于非选择性产物(例如非常轻的、低价值的烃如甲烷和保持沉积在催化剂上并使其失活的非常重的烃如焦炭和焦炭前体)的生成，导致所希望的产物产率和催化剂稳定性的的无法控制的损失。因此，蒸气和/或液体流的不均匀分布可能导致对所希望的产物的总选择性和/或催化剂活性(即在给定温度下的转化率)的下降，以致可能需要在更高的温度下操作反应器以获得所希望的转化率(以选择性为代价)或者限制至反应器的进料的流速已获得所希望的产物产率。在任一情况下，过程对于所希望的产物的总能力下降，总过程经济性变差。

另外，由于局部温度偏差导致的加快的催化剂焦炭形成将过早减少催化剂的寿命，可能需要更经常地中断操作以将废催化剂更换为新鲜催化剂或再生催化剂。这对过程经济性产生进一步的负面影响，因为加氢操作反应器的停机、重新装填和重新开机都是复杂而耗费时间的操作，其不仅能使加氢操作从操作中被移除，还将使上游或下游单元被移除。整个炼油装置的产量可能受到负面影响。除反应器的过早停机外，非最佳的产品质量和/或操作能力都对炼油操作的经济性产生负面影响。

鉴于以上与流体流动分布不均匀相联系的显著缺点，现有技术中已经进行了大量努力以提供用于均匀混合蒸气和液相并使其均匀分布(例如在加氢操作反应器或其他烃转化反应器、特别是向下流动反应器的横截面上)的装置。各种用于分布和/或混合料流的装置，特别是其中关于其中该装置在催化剂床上游或在催化机床之间使用的催化反应器的，是有利的，例如US 3,824,080、US 3,824,081、US 4,140,625、US 5,158,714、US 5,232,283、US 5,690,896、US 5,837,208、US 5,942,162、US 6,183,702和US 6,769,672中的。这样的分布器通常可包括分布盘(板)，其具有多个通道，其装有例如圆柱状管和泡罩(其引导流体以特定方式流动，其目的是使分布和/或混合最大化)的分布器组件。

在理想条件下，这些现有技术装置通常在临近盘的横截面上提供相当均匀的蒸气和/或液相的分布。该理想条件包括例如水平的盘，每一分布器组件在相同高度安装，并且使用相同的周围液体深度、在设计的相对于盘的蒸气和液体流速下操作。但是，相对于理想条件的偏差在实践中不可避免，特别是在盘不是完全水平的和可以相对于水平面有从盘的一侧到另一侧1.3cm(0.5英寸)或更大的偏差进行安装的商业操作中。

安装不一致性，其中分布器位置偏离水平面，可以导致盘上不均匀的液面。另外，在操作中流动的蒸气和液相产生的力可类似地产生分布器盘上的液面的不均匀性。例如在加氢操作反应器中，这些因素与高雅和高温相结合，倾向于在载体上和其他反应器内部部件上产生显著的压力。尽管压力通常被反应器和/或混合器的支撑梁吸收，盘的某些缺陷仍可发生。当下降的液体仅在几个分离的点上落到盘上，以致该液体的撞击引起液面的局部扰动和不均一时，也可能导致液体高度梯度。重要的是，当均匀配置的流体流径分布组件被施以盘上不同的液面时，蒸气和液体使用的流径不再是均匀的。例如，在较低高度处的围绕一个组件的液体必须移动更远的距离才能到达允许其通过组件上的开口离开的高度。因此，在这种条件下，每一组件，尽管均匀配置，并不如期望的传递相同流速的蒸气和液体。蒸气和液体在盘下面的横截面上的不均匀分布(例如在催化剂床中)由于盘上液面的不均匀而增加了。

不均匀分布的另一原因与超出分布器和混合器特定设计有效的范围之外的蒸气和/或液体流速的使用有关。尽管这样的装置的设计在其正常操作条件下被用来最佳地起作用，例如通过加氢操作反应器的蒸气和液体流速将经常作为反应器操作温度(或其他操作条件)、进料组成、产品规格和/或不同催化剂的使用的函数随时间变化。例如，随着产物分子量的减小和由此变得更具挥发性，加氢裂化反应器转化率的增加导致烃的增加的气化。在此情况下，盘上的平均液面可能降低。一般而言，取决于其设计，导致至分布器盘的液体的流速的改变的操作变化可能导致容留在盘上的液体的高度的变化。除了液面外，在蒸气和液体流量为用于特定装置的设计值之外的值时，可能导致液体不平均分布。

因此，理想地，用于分布蒸气和液体的方法和装置应能够有效补偿围绕盘的不同部分上各个分布器组件的液体的深度的不同。这些方法和装置还应对蒸气和/或液体的流量变化相对不敏感。

发明内容

本发明与发现因使用相对于盘表面非均一高度的在所述表面上方延伸的长形泡罩开口带来的优点相关。相比使用均一开口高度的操作，例如盘上的液体有利于对应于该开口的高度处平衡的趋势减小，该开口用于蒸气和液体通过泡罩。一般而言，随着液面上升到给定开口的高度并覆盖它，通过盘的压降增加。鉴于大反应器的板一般具有水平面的偏移，宽范围的液体流速将导致滞留在反应器一侧上的开口高度处或其附近的平衡液相以不均衡的量运行，由此造成流动分布不均匀。

该问题可以在正通过的蒸气和液体流过从覆盖蒸气-液体接触装置如反应器的横截面的分布器盘延伸的多个长形泡罩时观察到。当液体流速足以引起液面到达泡罩的最高开口，并且这些最高开口全部处于盘表面上方的相同高度时，处于较低绝对高度的泡罩(例如由于盘安装得不水平)比处于较高绝对高度的泡罩通过明显更大的液体流。而且，给定液体流速下液面覆盖开口增加通过盘的总压降，使得液体流量的进一步增加并不必定导致液面明显的进一步上升。换句话说，增加的压降和液体流速趋于稳定或平衡盘较低区域的泡罩的开口附近的液面。当液体流速改变时该问题并不容易补救，因为更高的流速并不导致更高的液面，而更高的液面导致覆盖盘较高区域的泡罩开口。

因此，蒸气和液体分布体系的趋势仍保持在运行状态，其中液面仅或至少主要覆盖在盘局部较低区域或盘侧的泡罩的开口。由于以上讨论的压降变化引起的内在“惯性”，该问题难以通过改变液面来矫正。即使在一起使用泡罩的底部液体出料开口以及顶开口和侧开口以帮助流体通过的情况下，仍观察到相同行为。由于容器内部构件往往安装得不水平或往往变得不水平，从盘的最低部分或侧至最高部分或侧存在至少1.3cm(0.5英寸)的偏移，因此当液面在泡罩内开口的高度处或附近时，高比例的液体残留在较低区域并流过此区域。因此，无论使用底部液体出料开口与否，液体在盘较低区域的不均衡的流动导致蒸气和液体流分布不均匀，从而对整个工艺(例如加氢处理或加氢裂化)不利。

根据本发明的装置和方法通过改变泡罩和/或其开口高度来控制随着液面升高产生的液体流动形态(分布)，从而有利地克服这些缺陷。例如，根据一些实施方案，具有顶开口的泡罩(即在开放式泡罩情况下)的高度在盘上表面上方变化。在其它实施方案中，封闭式泡罩的最高开口如侧开口的高度变化。还可以使用开放式和封闭式泡罩组合，主要的担心对于所有泡罩，对于自盘上表面的距离而言，它们的最高的开口(例如顶开口或侧开口)不均一。该不均一性可以通过随机或非随机地变化最高开口来实现。在后一情形中，改变最高开口、最高开口的样式或最高开口的一般对称性构造(例如随着自盘中心的径向距离增加而逐步增加或减少最高开口的高度)是可能的。为了缓解随着液面上升到开口高度蒸气和液体在盘上分布不均匀的可能并缓和压降和流速的突然变化，可以采用任何这些措施。上述“惯性”，其在液面一旦达到开口高度时趋于阻止液面变化，也被泡罩的最高开口的不同高度减小。

因此，本发明的实施方案涉及用于分布蒸气和液体的方法。代表性的方法包括使蒸气和液体通过在盘上表面上方延伸的多个长形泡罩。泡罩可以是开放式或封闭式的，并且可以使用这些类型的组合。任何情形下，在开放式泡罩的顶部或在封闭式泡罩的侧面，泡罩具有最高开口。为提供不同的开口高度，至少第一泡罩(即升高的泡罩)的最高开口在相比至少第二泡罩(即降低的泡罩)的最高开口高的高度处。开口高度是相对于盘上表面而言，而盘上表面如上讨论的可以不水平，以使相对于盘表面高度不同的开口可以实际上在相对于地面标高(grade level)基本相同的垂直位置。

根据其它实施方案，泡罩可以以上文针对最高开口讨论的方式具有相对于盘上表面高度可以不同的最低开口(但不一定是底部液体出料开口)。

本发明的其它实施方案涉及蒸气-液体接触装置(例如加氢处理反应器)，包括其内设置有覆盖容器全部或部分横截面如圆形横截面的盘并包括如上述在盘上表面上方延伸且具有不同开口高度的多个泡罩的垂直长形容器。

本发明的其它实施方案涉及包括盘和在盘上表面上方延伸的泡罩的蒸气-液体分布器。如上述泡罩具有不同的开口高度。

本发明的其它实施方案涉及用于分布蒸气和液体的方法，包括使蒸气和液体或并流或逆流通过如上述的蒸气-液体接触装置或蒸气-液体分布器。

这些和其它实施方案以及有关本发明的方面从下面的详细描述中将明了。

附图说明

图1是蒸气-液体分布器的2个代表性泡罩的侧视图。封闭式泡罩的最高开口在盘上表面上方的相同高度延伸，而盘相对于地面(grade)不水平。

图2是根据本发明实施方案的蒸气-液体分布器的2个代表性泡罩的侧视图，其中在盘较低区域的泡罩的最高开口在盘上表面上方相比在盘较高区域的泡罩的最高开口高的高度。

图3是表示盘上表面附近非随机变化的泡罩的最高开口的构造的侧视图。

图4是具有多个泡罩的盘的俯视图，表示与液面不均衡覆盖盘较低区域的泡罩开口有关的流动分布不均匀。

图5是具有多个泡罩的盘的俯视图，表示与在不同高度具有开口的泡罩有关的改善的流动分布。

图1-5中所提到的特征并不一定按比例绘制，而应理解为用于说明本发明和/或所涉的原理。为方便解释和理解，所示的某些特征相对于其它已放大或变形。如本文所公开的蒸气-液体分布器、使用该分布器的蒸气-液体接触装置和利用该分布器或装置的蒸气-液体分布或接触方法将具有部分由目标应用以及它们所用的环境所确定的构造、部件和操作参数。

详细描述

本文特别针对其中反应混合物的蒸气和液体反应物均匀分布关键的应用描述用于蒸气-液体分布和接触的装置和方法。这种应用包括加氢处理，其涵盖一般非常放热并要求很注意避免“热点”和甚至失控反应(往往与流动分布不均匀有关)的加氢裂化和氢化处理工艺。但是，本文所述的装置和方法广泛适用于任何包括蒸气和液体的接触的应用，无论这些相之间发生反应形成新产物与否。这种应用包括炼油厂和石化生产操作，包括重整、异构化、氢化、脱氢、烷基化、环化、歧化、聚合等。其它应用包括依赖于蒸气-液体接触，但不一定反应的那些，如蒸馏、吸收和气提。

本发明装置和方法尤其适用在涉及蒸气和液相之间并流接触的应用，尤其是这两相都从盘上表面向下流过多个长形泡罩。如下文更详细描述的，向下流动为针对在盘上表面上向方向上延伸的泡罩而言。在加氢处理应用中，蒸气一般包含氢气，并且可以主要是氢气，而液体一般包含烃类，尤其是从原油得到的那些如直馏原油的常压或减压馏分。但是，根据其它实施方案的分布和/或接触可以包括蒸气和液相沿与泡罩从盘表面延伸的方向相反的方向并流流动。其它实施方案(例如涉及蒸馏)可以包括蒸气与液相之间逆流接触，其中蒸气向上流动而液相向下流动，反之亦然。因此，“顶(部)”、“底(部)”、“较高”、“较低”、“上升”、“下降”、“最高”、“最低”等意在根据各具体实施方案表示相对位置和方向以及帮助理解，但这些术语并非意在限制本发明。

在图1所示的分布器中，蒸气和液相如箭头10的方向所示向下流动。蒸气和液体通过可以是开放式(即具有顶开口)或者如图1实施方案所示是封闭式的第一和第二长形泡罩12a、12b。第一和第二泡罩12a、12b延伸在覆盖反应器或其它类型蒸气-液体接触装置的横截面(例如圆形横截面)的盘16的上表面14上方。盘16一般覆盖整个横截面，但在某些实施方案中可以仅部分覆盖该横截面。如图1所示封闭式的第一和第二泡罩12a、12b具有最高和最低侧开口18a、18b、20a、20b，其中第一和第二泡罩12a、12b在盘16上表面14上方基本相同的高度分别具有最高侧开口18a、18b。

在图1中，盘16安装不水平的特性通过地面虚线25与盘16上表面14、下表面15之间的角度表示，而安装不水平在工业实践中由于不完美的安装和/或操作中出现的机械应力是普遍的。如所示，泡罩12a和其最高侧开口18a在绝对高度上相对于泡罩12b和其最高侧开口18b略微下降。液面24(平行于地面虚线25)，由于它在盘16的上表面14上形成，因此相比它在上升区域覆盖泡罩12b的最高侧开口18b，更完全在下降区域覆盖第一泡罩12a的最高侧开口18a。根据盘不水平的程度，液面可能在下降区域全部覆盖泡罩的最高开口，而在上升区域没有覆盖泡罩的任何最高开口。

任何情况下，即使盘16距完全水平仅稍许偏差都可以明显影响在盘16横截面上的流动分布，尤其是液流分布。具体而言，液体明显的不均衡流动可以出现在盘16的下降区域(例如多于75%的液体流过盘16的横截面下降的一半)。如上讨论的，就更差的产物产率、处理能力和/或催化剂使用寿命而言，所伴随的液流和/或气流在盘16下方(例如加氢裂化催化剂床)分布不均匀可以不利地影响整个工艺。所有这些后果对整个工艺的经济性都具有相当大的影响。此外，由于以上讨论的原因，调节液面也没有表明能容易地补救分布不均匀的问题。例如，可以使用任选的底部液体出料开口30a、30b以提高液体通过泡罩12a、12b的流速，从而下降液面24。使用图1所示的蒸气-液体分布器，例如增大底部液体出料开口30a、30b的直径可以使液面24下降至接近最低侧开口20a、20b。但是，在此观察到液体流动同样分布不均匀，以致于相比它在上升区域覆盖第二泡罩12b的最低侧开口20b，更完全地在下降区域覆盖第一泡罩12a的最低侧开口20a。此外，由于如上讨论的与通过盘的压降有关的体系“惯性”，在此液面对任何针对液体流速的其它调节相对不敏感。

本发明的方面涉及通过改变盘上表面上方最高开口的高度来改善分布。这种变化高度示于图2中，所示的第一泡罩12的最高开口18现在处在相比盘16上表面14上方第二泡罩12b的最高开口18b更高的高度。在该情况下，“升高”泡罩12虽然在盘16的下降区域，但并不通过其最高开口18接收液流，尽管液面24接近“降低”泡罩12b的最高开口18b。

相对于另一泡罩“升高”或“降低”的泡罩的表征基于比较各泡罩的最高开口的高度。最高开口指开口(例如圆形或椭圆形孔，或轴向或周向细长的缝)在盘上表面上方达到的高度。根据某些实施方案，升高的第一泡罩的最高开口可以延伸(例如在缝形开口的情况下)至盘上表面上方比降低的第二泡罩的最高开口高的高度。根据其它实施方案，升高的第一泡罩的最高开口可以完全(例如在孔状开口的情况下)在盘上表面上方比降低的第二泡罩的最高开口高的高度。在开放式泡罩情况下，最高开口通常在泡罩顶部，而沿泡罩侧可以具有一个或多个其它开口包括最低开口。在封闭式泡罩情况下，最高开口可以是完全在泡罩垂直高度内(即没有从泡罩底部向上延伸或没有从泡罩顶部向下延伸)的不连续开口如孔。

根据本发明的其它实施方案，相对于另一泡罩“升高”或“降低”的泡罩的表征基于该泡罩最低开口的相对高度。最低开口通常是侧开口，并且在许多情况下泡罩具有最高开口(例如在开放式泡罩的情况下是顶开口)和最低侧开口。这种泡罩往往设计成使得在分布气流和液流的操作过程中，液面保持在至少对于一些泡罩(例如至少25%的泡罩)而言这些最高开口和最低开口之间，以获得通过盘的期望流速。

因此，根据特定实施方案，升高的泡罩可以具有最低侧开口，并且除了最高开口外，该侧开口在盘上表面上方具有比降低的泡罩的最低侧开口和最高开口都高的高度。为表征升高的或降低的泡罩的目的，最低开口的意思并不包括一般正好位于最低侧开口下方的底部液体出料开口。在升高的或降低的泡罩的情况下，这些液体出料开口一般但并不是必须具有比最高和/或最低侧开口大的表面积。

因此，最低开口指泡罩的一般不会存在于(或不会延伸进)泡罩底部10%总长中，通常不会存在于底部25%总长中，往往不会存在于底部50%总长中的侧开口。在多个泡罩的情况下，升高的泡罩的最高(或最低)开口在盘上表面上方的高度可以超过有效抵消以上提到的与盘不水平有关的问题的降低的泡罩的最高(或最低)开口的高度。因此，根据某些实施方案，升高的泡罩的最高(或最低)开口在盘上表面上方一般相比降低的泡罩的最高(或最低)开口在盘上表面上方的高度为至少0.2cm(0.08英寸)，通常至少0.5cm(0.20英寸)，往往至少1cm(0.39英寸)。

图2描绘仅2个代表性泡罩，并且要认识到一般并非盘较低区域的所有泡罩都被升高。但是由于它们随机或非随机地变化或定位在较低区域中而存在至少一些这样的升高的泡罩，而且在较高区域存在至少一些降低的泡罩，这都起到作为液面的函数调节通过盘的压降变化的作用。更重要地，使用升高的和降低的泡罩显著缓解流动分布问题，尤其是与分布器盘不水平相关的那些问题。因此，根据本发明的特定实施方案，相比多个降低的泡罩的最高(或最低)开口，多个升高的泡罩在盘上表面上方在更高的高度具有最高(或最低)的开口。对于如本文所述用于蒸气-液体分布的给定盘，所述多个升高的泡罩，正如所述多个降低的泡罩，一般数量至少为5，通常至少为10，往往至少为20。

升高的和降低的泡罩可以随机位于盘的横截面上，但更通常的是它们非随机地分布，例如以盘至少部分上表面的图案分布，例如作为该上表面的交替行状分布。在开放式泡罩情况下，相对于较短的降低的泡罩，升高的泡罩可以仅是更长。由此，使用较长和较短开放式泡罩的交替行提供其中升高的和降低的泡罩非随机定位的一个具体实施方案。此外，例如在封闭式泡罩情况下，较长和较短泡罩(即如上定义相对于它们最高或最低开口而言)的交替行类似地实现非随机定位。一般而言，期望的是在盘周边(例如安装时接近容器壁)具有升高的泡罩，以解决如上讨论的降低的区域中液流分布不均匀的有害作用。

根据其它这种其中升高的和降低的泡罩非随机定位的实施方案，多个泡罩的最高(或最低)开口在盘上表面上方的高度通常逐步地增加或减小。例如，在盘至少部分的上表面，高度的增加或减小可以相对于距盘(例如具有圆形横截面)中心增加的径向距离(或可以是该距离的函数)。在增加高度的情况下，泡罩的最高(或最低)开口的高度可以在盘中心或附近是最小的值，并随着距盘中心的径向距离增加而增加。例如，最高(或最低)开口可以界定倒穹顶形。在另一例举泡罩非随机定位的特定实施方案中，界定倒穹顶形的最高(或最低)开口可以在径向上在界定倒穹顶形的所有开口的高度的上方的恒定高度上插入最高(或最低)开口。该特定实施方案的例子示于图3，并且最高开口18的这种构造是期望的，因为由不水平盘引起的流动分布问题已缓解，不管液面平面沿哪个方向接近开口。泡罩的最高开口的高度之间的最大距离A，其可交替地适用于最低开口，一般具有在以上针对升高的和降低的泡罩之间高度差给出的范围内的值。

图4和5说明使用非随机定位(在此情形中按图5的交替行状设置)的升高的和降低的泡罩引起通过盘的流动分布改善。该图模拟在代表性盘上上升的液面，该盘具有在其上表面均一设置的泡罩1至37。该模拟涉及盘不水平，左侧的泡罩在盘的较低区域。泡罩数字周围的阴影线框用于表示被上升液面覆盖的那些泡罩。图4中，泡罩开口都在盘上表面上方的相同高度，结果由于盘放置不水平而在地面标高上方的不同高度。在覆盖近一半的泡罩开口的液面处，从图4可看到所有被覆盖的开口都在盘的较低区域，结果液流限制在该区域，导致明显的流动分布不均匀。但是在图5中，通过使用如上定义的交替行的升高的和降低的泡罩来改变泡罩开口的高度，结果流动分布显著改善。如所示的，在覆盖一半开口的液面处，液流恰当地分布在整个盘横截面上，尽管盘距水平有偏差。

总之，本发明的方面涉及用于改进蒸气-液体接触装置(例如反应器或蒸馏塔)中蒸气和液体流分布的装置和方法。具体装置包括其内设置有如本文所述蒸气-液体分布器的垂直细长的容器。蒸气-液体分布器包括基本或完全覆盖容器横截面(例如圆形)、并且还包括多个长形的开放式或封闭式泡罩的盘，所述泡罩在盘上表面(与下表面相反)上方延伸并具有顶开口或至少一个侧开口。至少第一(升高的)泡罩在盘上表面上方相比至少第二(降低的)泡罩的最高(或最低)开口高的高度具有最高(或最低)开口。具体方法包括使蒸气和液体或者并流或者逆流通过该装置。鉴于本公开内容，将看到可以实现若干优点并可以获得其它有利结果。本领域技术人员获取本公开内容后将认识到在不脱离本发明范围的情况下可以对以上装置和方法进行各种改变。用于解释理论或所观察的现象或结果的机理应解释为仅用于举例说明，一点也没有限制所附权利要求的范围。

Claims (10)

1.一种用于分布蒸气和液体的方法，所述方法包括：使蒸气和液体通过在盘上表面上方延伸且具有顶开口或至少一个侧开口的多个长形泡罩，其中至少第一泡罩的最高开口在盘上表面上方相比至少第二泡罩的最高开口更高的高度处，第一泡罩的最高开口和第二泡罩的最高开口或者是顶开口或者是不连续侧开口。

2.根据权利要求1的方法，其中第一泡罩的最高开口在盘上表面上方延伸至相比第二泡罩的最高开口更高的高度。

3.根据权利要求1或2的方法，其中第一泡罩的最高开口完全在盘上表面上方相比第二泡罩的最高开口更高的高度。

4.根据权利要求1至3中任一项的方法，其中多个升高的泡罩具有在盘上表面上方位于相比多个降低的泡罩的最高开口更高的高度的最高开口。

5.根据权利要求4的方法，其中多个升高的泡罩和多个降低的泡罩在盘至少部分上表面上成图案设置。

6.根据权利要求5的方法，其中多个升高的泡罩和多个降低的泡罩在盘至少部分上表面上成交替行状设置。

7.根据权利要求1的方法，其中多个泡罩具有在盘上表面上方随距盘中心的径向距离增加而减小或增加的在盘至少部分上表面上的高度的最高开口。

8.根据权利要求1至7中任一项的方法，其中多个泡罩的最高开口的在盘至少部分上表面上的高度在盘上表面上方随距盘中心的径向距离增加而增加。

9.根据权利要求8的方法，其中多个升高的泡罩的在盘至少部分上表面上的最高开口界定倒穹顶形。

10.一种蒸气-液体接触装置，包括其内设置有盘的垂直细长的容器，所述盘覆盖容器的横截面，并且还包括多个长形泡罩，所述泡罩在盘上表面上方延伸并具有顶开口或至少一个侧开口，其中至少第一泡罩在盘上表面上方在相比至少第二泡罩的最高开口更高的高度具有最高开口，第一泡罩的最高开口和第二泡罩的最高开口或者是顶开口或者是不连续侧开口。

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