CN103018902B - 一种光学薄膜膜系设计的方法 - Google Patents
一种光学薄膜膜系设计的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103018902B CN103018902B CN201310020700.2A CN201310020700A CN103018902B CN 103018902 B CN103018902 B CN 103018902B CN 201310020700 A CN201310020700 A CN 201310020700A CN 103018902 B CN103018902 B CN 103018902B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- thin film
- theoretical
- substrate
- thickness
- design
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
本发明提供一种光学薄膜膜系设计的方法，该方法主要步骤有：计算并记录不同厚度不同材质的基片的基础光学常数和不同单层薄膜材料的基础光学常数，使用基片和单层薄膜的基础光学常数进行膜系设计，以目标物的实测光谱数据为标准计算出所述膜系设计的理论性能，或者以目标物实测颜色值为标准计算出所述膜系设计的理论性能，按上述任意一种膜系设计制备出新产品，通过Lambda950仪器测量新产品的光谱，根据新产品的光谱计算出新产品的第一性能，对比第一性能与理论性能，选择合理的膜系设计的结果来生产光学薄膜。本发明的步骤简洁有效，加快了膜系设计的速度，提高了膜系设计的准确性。
Description
技术领域
本发明属于膜系设计领域，尤其是涉及一种光学薄膜膜系设计的方法。
背景技术
目前，在镀膜领域采用的在线光学模拟指导生产的方法，所需数据没有记录，模拟原理主要是生搬硬套已有的折射率数据，该方法的拟合效果不理想，在调试新结构产品的过程中，特别是涉及新型靶材的应用膜系设计方面，该方法的调试时间长，模拟的准确性不高，造成了人力物力的大量浪费。
发明内容
本发明要解决的问题是提供一种光学薄膜膜系设计的方法，尤其能够快速准确的完成光学薄膜膜系设计。
为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：一种光学薄膜膜系设计的方法，该方法包括如下步骤：
1)对不同厚度不同材质的基片的基础光学常数进行计算，记录计算所得的基片基础光学常数；
2)对不同单层薄膜材料的光学常数进行计算，记录计算所得的单层薄膜基础光学常数；
3)以目标物的实测光谱数据为标准，使用所述步骤1)和步骤2)中的所述的基片基础光学常数和单层薄膜基础光学常数进行第一次的膜系设计；
所述膜系设计为：
S01选择所述步骤1)和步骤2)中的一个基片和一个以上的单层薄膜材料；
S02通过设定所选基片和单层薄膜材料的第一厚度，再使用光折射公式和比尔定律推导出所选基片和单层薄膜材料在第一厚度下的理论光谱，然后利用光干涉原理得出所述第一厚度下的膜层结构的第一理论光谱；
S03对比所述第一理论光谱与所述目标物的实测光谱，在所述第一理论光谱与所述目标物的实测光谱达到基本一致的情况下，选择所述第一厚度；
S04当所述第一理论光谱与所述目标物的实测光谱之间的差值大于所述设计要求时，设定所选基片和单层薄膜材料的第二厚度，并用所述第二厚度取代所述第一厚度，然后再依次完成所述步骤S02至S04；在多次厚度设定情况下，所述第一理论光谱与所述实测光谱之间的差值仍大于所述设计要求时，依次完成步骤S01至S04；
4)通过色彩空间理论计算出所述第一次的膜系设计的理论颜色值、理论性能及不同观察角度下的干扰色评估；
5)按照上述步骤3)的第一次的膜系设计制备出新产品，通过Lambda950仪器测量所述新产品在300-2500nm波长的光照射下的第一实测光谱，根据所述第一实测光谱计算出所述新产品的第一性能，将所述第一性能与步骤4)中的所述理论性能进行对比，在所述第一性能与所述理论性能基本一致的情况下，选择第一次的膜系设计的结果来生产光学薄膜；
在所述第一性能与所述理论性能的差值大于设计要求的情况下，进入步骤3)中进行第二次的膜系设计，并用第二次的膜系设计取代第一次的膜系设计，并依次完成步骤3)至步骤5)；
6)制备按上述步骤设计出的光学薄膜；
一种光学薄膜膜系设计的方法，该方法还可以是如下的步骤：
1)对不同厚度不同材质的基片的基础光学常数进行计算，记录计算所得的基片基础光学常数；
2)对不同单层薄膜材料的光学常数进行计算，记录计算所得的单层薄膜基础光学常数；
3)测量目标物的实测颜色值，使用所述步骤1)和步骤2)中的所述的基片基础光学常数和单层薄膜基础光学常数进行第一次的膜系设计；
所述膜系设计为：
S01选择所述步骤1)和步骤2)中的一个基片和一个以上的单层薄膜材料；
S02通过设定所选基片和单层薄膜材料的第一厚度，再使用光折射公式、比尔定律和彩色空间理论推导出所选基片和单层薄膜材料在所述第一厚度下的理论颜色值，然后利用光干涉原理得出所述第一厚度下的膜层结构的第一理论颜色值；
S03对比所述第一理论颜色值与所述实测颜色值，在所述第一理论颜色值与所述实测颜色值达到基本一致的情况下，选择所述第一厚度；
S04当所述第一理论颜色值与所述实测颜色值之间的差值大于所述设计要求时，设定所选基片和单层薄膜材料的第二厚度，并用所述第二厚度取代所述第一厚度，然后再依次完成所述步骤S02至S04；在多次厚度设定情况下，所述第一理论颜色值与所述实测颜色值之间的差值仍大于所述设计要求时，依次完成步骤S01至S04；
4)计算步骤3)中所述第一次的膜系设计的理论光谱、理论性能和不同观察角度下的干扰色评估；
5)按照所述第一次的膜系设计制备出新产品，通过Lambda950仪器测量所述新产品在300-2500nm波长的光照射下的第一实测光谱，根据所述第一实测光谱计算出所述新产品的第一性能，将所述第一性能与步骤4)中的所述理论性能进行对比，在所述第一性能与所述理论性能基本一致的情况下，选择第一次的膜系设计的结果来生产光学薄膜；
在所述第一性能与所述理论性能的差值大于设计要求的情况下，进入步骤3)中进行第二次的膜系设计，并用第二次的膜系设计取代第一次的膜系设计，并依次完成步骤3)至步骤5)；
6)制备按上述步骤设计出的光学薄膜；
进一步的，所述步骤1)中的基础光学常数为所述基片的折射率和消光系数，所述步骤1)中的计算内容为使用Lambda950仪器或分光光度计或datacolor550仪器测试所述基片在波长为300-2500nm的光波照射下的折射和反射的数据，再使用所述数据通过光的折射公式计算出所述基片的折射率，使用所述数据通过比尔定律计算出所述基片的消光系数；
进一步的，所述步骤2)中的光学常数为所述单层薄膜材料的折射率和消光系数，所述步骤2)中的计算内容为使用Lambda950仪器或分光光度计或datacolor550仪器测试所述基片在波长为300-2500nm的光波照射下的折射和反射的数据，再使用所述数据通过光的折射公式计算出所述单层薄膜材料的折射率，使用所述数据通过比尔定律计算出所述单层薄膜材料的消光系数；所述步骤2)中的单层薄膜材料的厚度为10-500nm，所述单层薄膜材料镀在玻璃基片上；
本发明所涉及的光谱包括透射光谱、玻面反射光谱和膜面反射光谱；所述颜色值为CIE1932年规定的L、a*、b*和Y；所述性能包括辐射率(U)、遮阳系数(Sc)和太阳能总透射比(SHGC)；所述干扰色评估为通过光干涉原理得出不同观察角度下颜色值。
本发明具有的优点和积极效果是：由于采用上述技术方案，可以直接采用位置测量物的实测光谱来进行膜系设计，也可以使用其颜色值作为参照标准，通过改变所选基片和一个以上的单层膜的厚度即可相应的得出膜系设计的结果以及所设计出的膜结构下的理论光谱及光学性能光谱；根据所设计出的膜结构制备出新产品并测量新产品光谱，然后将新产品光谱与理论光谱进行对比，从而实现了对膜系设计的反复修订，本发明的步骤简洁有效，加快了膜系设计的速度，提高了膜系设计的准确性。
附图说明
图1是未知膜层结构样品的实测光谱的透过光谱
图2是未知膜层结构样品的实测光谱的膜面反射光谱
图3是未知膜层结构样品的实测光谱的玻面反射光谱
图4第一次膜系设计的第一光谱与样品实测光谱的透过光谱
图5第一次膜系设计的第一光谱与样品实测光谱的膜面反射光谱
图6第一次膜系设计的第一光谱与样品实测光谱的玻面反射光谱
图7多次膜系设计后的第一光谱与样品实测光谱的透过光谱
图8多次膜系设计后的第一光谱与样品实测光谱的膜面反射光谱
图9多次膜系设计后的第一光谱与样品实测光谱的玻面反射光谱
图10新一轮膜系设计后的第一光谱与实测光谱的透过光谱
图11新一轮膜系设计后的第一光谱与实测光谱的膜面反射光谱
图12新一轮膜系设计后的第一光谱与实测光谱的玻面反射光谱
图13最终确定的膜系设计的第一光谱与实测光谱的透过光谱
图14最终确定的膜系设计的第一光谱与实测光谱的膜面反射光谱
图15最终确定的膜系设计的第一光谱与实测光谱的玻面反射光谱
具体实施方式
实施例1
本实施例为一种光学薄膜膜系设计的方法，其内容包括如下步骤：
1)对不同厚度不同材质的基片的基础光学常数进行计算，记录计算所得的基片基础光学常数，上述基片的材质为玻璃、陶瓷、塑料、木材等，透光性分别为透明、半透明、不透明，基片的厚度可以为3、4、5、6、8、10、12、15或19mm，其中玻璃基片的种类有超白、普白、绿、灰、茶、蓝、浅蓝色玻璃等。
2)对不同单层薄膜材料的光学常数进行计算，记录计算所得的单层薄膜基础光学常数，所述单侧薄膜材料按靶材的不同可分为：SiAl靶材、ZnSn靶、ZnAl靶、AZO靶、Ag、Cu、NiCr、Ti、Cr、Zr、Nb等材质，其中SiNx薄膜材料是在SiAl靶材料组成为：Si/Al＝90/10，在Ar/N2气体流量比例分别为400/600、600/600、600/800、600/1000sccm条件下制备的薄膜；又如Ag材料薄膜是用纯度为99.99％的Ag靶，在Ar气体流量为800、1000、1200、1500、1800sccm条件下制备的薄膜；ZnAlOx薄膜是由ZnAl靶材料按Zn/Al＝98/2的组成，在Ar/O2气体流量比为500/500、500/800、500/1000、500/1300sccm条件下制备的薄膜；其它的薄膜材料还有ZnSnOx、Cu、Au、NiCr、Ti、TiVx、TiOx、SiOx等；
3)对一个膜层结构未知的样品进行光谱测量，以得出的实测光谱(如图1-3所示)标准，使用上述步骤1)和步骤2)中的基片基础光学常数和单层薄膜基础光学常数进行第一次的膜系设计，此处的膜系设计主要内容有：
S01选择所述步骤1)和步骤2)中的玻璃基片和十一个单层薄膜材料，设计膜层结构为：
Glass/ZnSn/NiCrAg/NiCr/AZO/ZnSn/AZO/Ag/NiCr/AZO/ZnSn/SiNx；
S02设定所选基片和单层薄膜材料的第一厚度为37.3nm/8nm/12.6nm/2.9nm/14.1nm/50nm/14.8nm/12.9nm/1.7nm/18nm/6.2nm/8.6nm，使用光折射公式和比尔定律推导出所选基片和单层薄膜材料在第一厚度下的理论光谱，然后利用光干涉原理得出所述第一厚度下的膜层结构的第一理论光谱(如图4-6所示)；
S03对比所述第一理论光谱与所述目标物的实测光谱，在所述第一理论光谱与所述目标物的实测光谱达到基本一致的情况下，选择所述第一厚度；
S04当所述第一理论光谱与所述目标物的实测光谱之间的差值大于所述设计要求时，设定所选基片和单层薄膜材料的第二厚度，并用所述第二厚度取代所述第一厚度，然后再依次完成所述步骤S02至S04；
经过多次膜系设计后在各膜层厚度为28.4nm/1.8nm/11.9nm/0.0nm/11.9nm/42.2nm/20.3nm/13.5nm/0.2nm/19.7nm/7.9nm/4.6nm的情况下，所述第一理论光谱与所述目标物的实测光谱之间的差值仍然大于设计要求(如图7-9所示)；
再次进入步骤S01进行新一轮的膜系设计，设计膜层结构为：
Glass/SiNx/ZnSn/Ag_/Cu/NiCr/AZO/SiNx/ZnSn/Ag/NiCr/AZO/SiNx/ZnSn/Ag//NiCr/ZnSn/SiNx，
设定第一厚度为：
6mm/20nm/10nm/9nm/3nm/0.5nm/5nm/50nm/10nm/10nm/0.8nm/10nm/40nm/10nm/14nm/0.5nm/10nm/20nm，并得到第一厚度下的第一光谱与实测光谱进行对比(如图10-12所示)。
经过多次膜层厚度设计，最终确定第一膜层厚度为6mm/0.0nm/31.1nm/10.4nm/1.9nm/0.0nm/8.9nm/46.2nm/7.5nm/9.8nm/0.0nm/15.1nm/39.5nm/10.1nm/13.2nm/0.0nm/14.5nm/20.3nm，此时第一理论光谱与所述目标物的实测光谱达到基本一致(如图13-15所述)，两条光谱线之间吻合度非常高，完全可以达到预期效果，该膜层结构及在该结构下的膜层厚度便可实现此实测光谱，完成膜系结构的设计。
4)通过色彩空间理论计算出第一次的膜系设计的理论颜色值、理论性能及不同观察角度下的干扰色评估；
5)按照上述步骤3)的第一次的膜系设计制备出新产品，通过Lambda950仪器测量所述新产品在300-2500nm波长的光照射下的第一实测光谱，根据所述第一实测光谱计算出新产品的性能，将所述性能与步骤4)中的理论性能进行对比，在新产品的性能与理论性能基本一致的情况下，选择第一次的膜系设计的结果来生产光学薄膜。
6)按上述步骤得出的膜系结构来生产光学薄膜。
本实施例中用到的基础光学常数分别为基片和单层薄膜材料的折射率和消光系数，步骤1)中的计算内容为使用Lambda950仪器或分光光度计或datacolor550仪器测试所述基片在波长为300-2500nm的光波照射下的折射和反射的数据，再使用该数据通过光的折射公式计算出所述基片的折射率，使用所述数据通过比尔定律计算出所述基片的消光系数，单层薄膜材料镀在玻璃基片上，其厚度为10-500nm。
实施例2
本实施例为一种光学薄膜膜系设计的方法，其内容包括如下步骤：
1)对不同厚度不同材质的基片的基础光学常数进行计算，记录计算所得的基片基础光学常数，上述基片的材质为玻璃、陶瓷、塑料、木材等，透光性分别为透明、半透明、不透明，基片的厚度可以为3、4、5、6、8、10、12、15或19mm，其中玻璃基片的种类有超白、普白、绿、灰、茶、蓝、浅蓝色玻璃等。
2)对不同单层薄膜材料的光学常数进行计算，记录计算所得的单层薄膜基础光学常数，所述单侧薄膜材料按靶材的不同可分为：SiAl靶材、ZnSn靶、ZnAl靶、AZO靶、Ag、Cu、NiCr、Ti、Cr、Zr、Nb等材质，其中SiNx薄膜材料是在SiAl靶材料组成为：Si/Al＝90/10，在Ar/N2气体流量比例分别为400/600、600/600、600/800、600/1000sccm条件下制备的薄膜；又如Ag材料薄膜是用纯度为99.99％的Ag靶，在Ar气体流量为800、1000、1200、1500、1800sccm条件下制备的薄膜；ZnAlOx薄膜是由ZnAl靶材料按Zn/Al＝98/2的组成，在Ar/O2气体流量比为500/500、500/800、500/1000、500/1300sccm条件下制备的薄膜；其它的薄膜材料还有ZnSnOx、Cu、Au、NiCr、Ti、TiVx、TiOx、SiOx等；
3)对一个膜层结构未知的样品进行测量，以得出来的实测颜色值(如表1所示)为标准，使用上述步骤1)和步骤2)中的基片基础光学常数和单层薄膜基础光学常数进行第一次的膜系设计，此处的膜系设计主要内容有：
S01选择上述步骤1)和步骤2)中的玻璃基片和六个单层薄膜材料，设计膜层结构为：Glass/ZnSn/NiCr/Ag/NiCr/ZnSn/SiNx；
S02设定所选基片和单层薄膜材料的第一厚度为6mm/35.3nm/5.0nm/18.6nm/5.9nm/17.2nm/19.6nm，再使用光折射公式、比尔定律和彩色空间理论推导出所选基片和单层薄膜材料在所述第一厚度下的理论颜色值，然后利用光干涉原理得出所述第一厚度下的膜层结构的第一理论颜色值(如表1所示)；
S03对比所述第一理论颜色值与所述实测颜色值，在所述第一理论颜色值与所述实测颜色值达到基本一致的情况下，选择所述第一厚度；
S04当所述第一理论颜色值与所述实测颜色值之间的差值大于所述设计要求时，设定所选基片和单层薄膜材料的第二厚度，并用所述第二厚度取代所述第一厚度，然后再依次完成所述步骤S02至S04；
最终将膜层厚度设定为6mm/29.8nm/4.2nm/12.4nm/7.2nm/9.7nm/23.6nm，其第一理论颜色值与实测颜色值之间的差值仍然大于设计要求(如表1所示)，一般来讲，玻面颜色及透过色的均方差ΔE<2.0，膜面颜色ΔE<4.0即可认为可以达到目标，ΔE＝(ΔL2+Δa2+Δb2)1/2。
再次进入步骤S01进行第一次的膜系设计，设计膜层结构为：Glass/ZnSn/Ag/NiCr/ZnSn/Ag/NiCr/SiNx，第一厚度为：28.7nm/9.7nm/5.5nm/67nm/10.8nm/3.8nm/32.5nm，并依次完成步骤S01至S04，最终得到的膜层厚度为38.2nm/10.1nm/3.2nm/72.3nm/8.6nm/5.4nm/34.7nm，该厚度下的膜层结构的第一理论颜色值与所述实测颜色值达到基本一致的情况(如表2所示)。
表1 第一理论颜色值和实测颜色值
表2 最终设计的膜层结构的第一理论颜色值
4)利用光折射公式和比尔定律计算计算步骤3)中所述第一次的膜系设计的理论光谱、理论性能和不同观察角度下的干扰色评估；
5)按照所述第一次的膜系设计制备出新产品，通过Lambda950仪器测量所述新产品在300-2500nm波长的光照射下的第一实测光谱，根据所述第一实测光谱计算出所述新产品的第一性能，将所述第一性能与步骤4)中的所述理论性能进行对比，在所述第一性能与所述理论性能基本一致的情况下，选择第一次的膜系设计的结果来生产光学薄膜；
在所述第一性能与所述理论性能的差值大于设计要求的情况下，进入步骤3)中进行第二次的膜系设计，并用第二次的膜系设计取代第一次的膜系设计，并依次完成步骤3)至步骤5)；
6)制备按上述步骤设计出的光学薄膜。
本实施例中用到的基础光学常数分别为基片和单层薄膜材料的折射率和消光系数，步骤1)中的计算内容为使用Lambda950仪器或分光光度计或datacolor550仪器测试所述基片在波长为300-2500nm的光波照射下的折射和反射的数据，再使用该数据通过光的折射公式计算出所述基片的折射率，使用所述数据通过比尔定律计算出所述基片的消光系数，单层薄膜材料镀在玻璃基片上，其厚度为10-500nm。
以上对本发明的一个实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本发明的较佳实施例，不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依本发明申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本发明的专利涵盖范围之内。
Claims (4)
1.一种光学薄膜膜系设计的方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：
1)对不同厚度不同材质的基片的基础光学常数进行计算，记录计算所得的基片基础光学常数；
2)对不同单层薄膜材料的光学常数进行计算，记录计算所得的单层薄膜光学常数；
3)以目标物的实测光谱数据为标准，使用所述步骤1)和步骤2)中的所述的基片基础光学常数和单层薄膜基础光学常数进行第一次的膜系设计；
4)通过色彩空间理论计算出所述第一次的膜系设计的理论颜色值、理论性能及不同观察角度下的干扰色评估；
5)按照上述步骤3)的第一次的膜系设计制备出新产品，通过Lambda950仪器测量所述新产品在300-2500nm波长的光照射下的第一实测光谱，根据所述第一实测光谱计算出所述新产品的第一性能，将所述第一性能与步骤4)中的所述理论性能进行对比，在所述第一性能与所述理论性能基本一致的情况下，选择第一次的膜系设计的结果来生产光学薄膜；
在所述第一性能与所述理论性能的差值大于设计要求的情况下，进入步骤3)中进行第二次的膜系设计，并用第二次的膜系设计取代第一次的膜系设计，并依次完成步骤3)至步骤5)；
6)制备按上述步骤5)设计出的光学薄膜；
所述膜系设计为：
S01选择所述步骤1)和步骤2)中的一个基片和一个以上的单层薄膜材料；
S02通过设定所选基片和单层薄膜材料的第一厚度，再使用光折射公式和比尔定律推导出所选基片和单层薄膜材料在第一厚度下的理论光谱，然后利用光干涉原理得出所述第一厚度下的膜层结构的第一理论光谱；
S03对比所述第一理论光谱与所述目标物的实测光谱，在所述第一理论光谱与所述目标物的实测光谱达到基本一致的情况下，选择所述第一厚度；
S04当所述第一理论光谱与所述目标物的实测光谱之间的差值大于所述设计要求时，设定所选基片和单层薄膜材料的第二厚度，并用所述第二厚度取代所述第一厚度，然后再依次完成所述步骤S02至S04。
2.一种光学薄膜膜系设计的方法，其特征在于，该方法包括如下的步骤：
1)对不同厚度不同材质的基片的基础光学常数进行计算，记录计算所得的基片基础光学常数；
2)对不同单层薄膜材料的光学常数进行计算，记录计算所得的单层薄膜光学常数；
3)测量目标物的实测颜色值，使用所述步骤1)和步骤2)中的所述的基片基础光学常数和单层薄膜基础光学常数进行第一次的膜系设计；
4)计算步骤3)中所述第一次的膜系设计的理论光谱、理论性能和不同观察角度下的干扰色评估；
5)按照所述第一次的膜系设计制备出新产品，通过Lambda950仪器测量所述新产品在300-2500nm波长的光照射下的第一实测光谱，根据所述第一实测光谱计算出所述新产品的第一性能，将所述第一性能与步骤4)中的所述理论性能进行对比，在所述第一性能与所述理论性能基本一致的情况下，选择第一次的膜系设计的结果来生产光学薄膜；
在所述第一性能与所述理论性能的差值大于设计要求的情况下，进入步骤3)中进行第二次的膜系设计，并用第二次的膜系设计取代第一次的膜系设计，并依次完成步骤3)至步骤5)；
6)制备按上述步骤5)设计出的光学薄膜；
所述膜系设计为：
S01选择所述步骤1)和步骤2)中的一个基片和一个以上的单层薄膜材料；
S02通过设定所选基片和单层薄膜材料的第一厚度，再使用光折射公式、比尔定律和彩色空间理论推导出所选基片和单层薄膜材料在所述第一厚度下的理论颜色值，然后利用光干涉原理得出所述第一厚度下的膜层结构的第一理论颜色值；
S03对比所述第一理论颜色值与所述实测颜色值，在所述第一理论颜色值与所述实测颜色值达到基本一致的情况下，选择所述第一厚度；
S04当所述第一理论颜色值与所述实测颜色值之间的差值大于所述设计要求时，设定所选基片和单层薄膜材料的第二厚度，并用所述第二厚度取代所述第一厚度，然后再依次完成所述步骤S02至S04。
3.根据权利要求1或2所述的一种光学薄膜膜系设计的方法，其特征在于：所述步骤1)中的基础光学常数为所述基片的折射率和消光系数，所述步骤1)中的计算内容为使用Lambda950仪器或分光光度计或datacolor550仪器测试所述基片在波长为300-2500nm的光波照射下的折射和反射的数据，再使用所述数据通过光的折射公式计算出所述基片的折射率，使用所述数据通过比尔定律计算出所述基片的消光系数。
4.根据权利要求1或2所述的一种光学薄膜膜系设计的方法，其特征在于：所述步骤2)中的光学常数为所述单层薄膜材料的折射率和消光系数，所述步骤2)中的计算内容为使用Lambda950仪器或分光光度计或datacolor550仪器测试所述基片在波长为300-2500nm的光波照射下的折射和反射的数据，再使用所述数据通过光的折射公式计算出所述单层薄膜材料的折射率，使用所述数据通过比尔定律计算出所述单层薄膜材料的消光系数；所述步骤2)中的单层薄膜材料的厚度为10-500nm，所述单层薄膜材料镀在玻璃基片上。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310020700.2A CN103018902B (zh) | 2013-01-21 | 2013-01-21 | 一种光学薄膜膜系设计的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310020700.2A CN103018902B (zh) | 2013-01-21 | 2013-01-21 | 一种光学薄膜膜系设计的方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN103018902A CN103018902A (zh) | 2013-04-03 |
| CN103018902B true CN103018902B (zh) | 2015-02-25 |
Family
ID=47967692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201310020700.2A Active CN103018902B (zh) | 2013-01-21 | 2013-01-21 | 一种光学薄膜膜系设计的方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN103018902B (zh) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105092039B (zh) * | 2015-08-04 | 2017-04-12 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 多频分光光度计的修正值的获取方法 |
| CN106199952B (zh) * | 2016-07-05 | 2019-01-08 | 中国建筑材料科学研究总院 | 一种减少观察角度变化产生色差的膜系设计及制备方法 |
| CN106154544B (zh) * | 2016-08-31 | 2019-01-08 | 中国建筑材料科学研究总院 | 膜系多角度光谱敏感性分析方法及其应用 |
| CN106441126A (zh) * | 2016-10-26 | 2017-02-22 | 电子科技大学 | 一种基于反射率光谱测量光学薄膜厚度的方法及系统 |
| CN109254332A (zh) * | 2017-07-14 | 2019-01-22 | 翼芯红外传感技术（上海）有限公司 | 宽角度宽波段增透膜及其制备方法和应用 |
| CN109373918B (zh) * | 2018-12-18 | 2020-08-28 | 哈尔滨工业大学 | 一种用于二维材料薄膜厚度测量的高效光学测量方法 |
| CN110687681B (zh) * | 2019-09-10 | 2020-08-28 | 华中科技大学 | 一种光学膜系优化设计方法及产品 |
| CN111025632B (zh) * | 2019-12-27 | 2022-05-10 | 宜昌南玻显示器件有限公司 | 组合显示系统的简易设计方法 |
| CN113568074B (zh) * | 2021-09-24 | 2022-01-04 | 深圳汝原科技有限公司 | 颜色镀膜方法、系统、存储介质、辐射源组件和干燥设备 |
| CN114136896B (zh) * | 2021-11-25 | 2023-07-21 | 天津津航技术物理研究所 | 一种光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法 |
| CN114107898A (zh) * | 2021-12-03 | 2022-03-01 | 杭州美迪凯光电科技股份有限公司 | 一种颜色膜膜系设计镀膜工艺 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4985737A (en) * | 1988-11-16 | 1991-01-15 | Georgia Tech Research Corporation | Solid state quantum mechanical electron and hole wave devices |
| CN1786790A (zh) * | 2004-12-08 | 2006-06-14 | 台湾薄膜电晶体液晶显示器产业协会 | 多功能整合型偏光膜/光学膜结构及制程方法 |
| CN1862297A (zh) * | 2006-06-08 | 2006-11-15 | 上海欧菲尔光电技术有限公司 | 光学滤光片薄膜厚度的监控方法 |
| CN101887140A (zh) * | 2010-05-26 | 2010-11-17 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 宽带全介质多层膜反射衍射光栅及其设计方法 |
| CN102191475A (zh) * | 2011-04-15 | 2011-09-21 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 提高薄膜光谱性能的膜厚监控方法 |
| CN102620664A (zh) * | 2011-01-28 | 2012-08-01 | 中国科学院理化技术研究所 | 一种检测光学镀膜机镀膜膜厚均匀性的方法 |
-
2013
- 2013-01-21 CN CN201310020700.2A patent/CN103018902B/zh active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4985737A (en) * | 1988-11-16 | 1991-01-15 | Georgia Tech Research Corporation | Solid state quantum mechanical electron and hole wave devices |
| CN1786790A (zh) * | 2004-12-08 | 2006-06-14 | 台湾薄膜电晶体液晶显示器产业协会 | 多功能整合型偏光膜/光学膜结构及制程方法 |
| CN1862297A (zh) * | 2006-06-08 | 2006-11-15 | 上海欧菲尔光电技术有限公司 | 光学滤光片薄膜厚度的监控方法 |
| CN101887140A (zh) * | 2010-05-26 | 2010-11-17 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 宽带全介质多层膜反射衍射光栅及其设计方法 |
| CN102620664A (zh) * | 2011-01-28 | 2012-08-01 | 中国科学院理化技术研究所 | 一种检测光学镀膜机镀膜膜厚均匀性的方法 |
| CN102191475A (zh) * | 2011-04-15 | 2011-09-21 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 提高薄膜光谱性能的膜厚监控方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN103018902A (zh) | 2013-04-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103018902B (zh) | 一种光学薄膜膜系设计的方法 | |
| CN103852815B (zh) | 一种变饱和度的光学干涉变色防伪薄膜及其制作方法 | |
| JP2009078458A (ja) | 干渉色膜を有する機器用筐体及び機器用装飾体 | |
| CN105157585A (zh) | 一种同时获取薄膜厚度与折射率的标准干涉片拟合法 | |
| CN103673905B (zh) | 一种磁控溅射镀光学膜膜厚监控方法 | |
| CN111960693B (zh) | 一种氧化硅/氧化钛基室内装饰用多反射色镀膜玻璃的制备方法 | |
| CN103777264A (zh) | 一种适用于任意光的超高透射率减色滤波器及其制备方法 | |
| CN106435497B (zh) | 一种金色低辐射节能窗膜及其制备方法 | |
| CN104834024A (zh) | 一种双消短波通膜系以及分色合色器 | |
| Frey et al. | Thin film characterization for modeling and optimization of silver-dielectric color filters | |
| CN101900848B (zh) | 一种树脂基底窄带负滤光膜膜系、滤光片及其制备方法 | |
| JP2009075324A (ja) | 光学薄膜積層体 | |
| Feng et al. | Symmetric Thin Films Based on Silicon Materials for Angle‐Insensitive Full‐Color Structural Colors | |
| Deparis et al. | Structurally tuned iridescent surfaces inspired by nature | |
| Rahman et al. | Realization of structural colors via capped Cu-based F− P cavity structure | |
| Nur-E-Alam et al. | Dielectric/metal/dielectric (DMD) multilayers: growth and stability of ultra-thin metal layers for transparent heat regulation (THR) | |
| Lin et al. | The simulation and fabrication of Ag/SiO2/Ag thin films color filter | |
| CN109596532A (zh) | 一种光学基底材料光学常数的测试方法 | |
| Karar et al. | Design and fabrication of multilayer dichroic beam splitter | |
| Priscilla et al. | Optical Janus effect in large area multilayer plasmonic films | |
| CN203217108U (zh) | 一种基于同色异谱效应的金属介质光变防伪薄膜 | |
| CN105645783A (zh) | 一种高透光的低辐射镀膜玻璃及其制备方法 | |
| Amotchkina et al. | Design of multilayer coatings containing metal island films | |
| Sun et al. | All-dielectric metasurface for polarization-insensitive color printing | |
| CN203688835U (zh) | 一种适用于任意光的超高透射率减色滤波器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20160218 Address after: 300000 Tianjin New Development Zone, Wuqing New Development Zone, Wuqing 12 Patentee after: Tianjin Nanbo Energy-saving Glass Co., Ltd. Patentee after: CSG Holding Co., Ltd. Address before: 300000 Tianjin New Development Zone, Wuqing New Development Zone, Wuqing 12 Patentee before: Tianjin Nanbo Energy-saving Glass Co., Ltd. Patentee before: Tianjin Nanbo Engineering Glass Co., Ltd. Patentee before: CSG Holding Co., Ltd. |