CN102990535A - 一种抛光垫 - Google Patents

一种抛光垫 Download PDF

Info

Publication number
CN102990535A
CN102990535A CN2012104898310A CN201210489831A CN102990535A CN 102990535 A CN102990535 A CN 102990535A CN 2012104898310 A CN2012104898310 A CN 2012104898310A CN 201210489831 A CN201210489831 A CN 201210489831A CN 102990535 A CN102990535 A CN 102990535A
Authority
CN
China
Prior art keywords
pad
groove
contact pad
polishing pad
contact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2012104898310A
Other languages
English (en)
Inventor
倪俊芳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuxi Caiyun Machinery and Equipment Co Ltd
Original Assignee
Wuxi Caiyun Machinery and Equipment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuxi Caiyun Machinery and Equipment Co Ltd filed Critical Wuxi Caiyun Machinery and Equipment Co Ltd
Priority to CN2012104898310A priority Critical patent/CN102990535A/zh
Publication of CN102990535A publication Critical patent/CN102990535A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

本发明公开了一种抛光垫,包括基垫和基垫上部的接触垫,所述基垫采用硬质材料制造,所述接触垫采用柔性橡胶材料制造,所述基垫为一圆形的板状结构,所述接触垫的上部为圆形的平面,下部中心设有凹槽,环绕所述凹槽设有凹环,所述凹槽为圆形,凹环与凹槽同心设置,基垫和接触垫之间密封连接,并且凹槽与凹环之间不相通。通过上述设计的抛光垫,通过凹槽、凹环与基垫之间形成密封的气垫结构,气垫可以有效的缓冲压力,变形更小,并且使用寿命更长,当表面的接触垫损坏的时候,可以直接更换接触垫,而不需要整体更换,节省使用成本。

Description

一种抛光垫
技术领域
本发明涉及一种抛光垫,属于抛光设备。
背景技术
现有技术的抛光垫要承受稳定的压力,并且不能有较大的弹性变形,常用的抛光垫都是实心结构的橡胶垫,在使用一段时间以后,由于持续承受压力作用,橡胶材质容易变质。
发明内容
为了解决现有技术中抛光垫的橡胶材料持续承压容易变质的问题,本发明提供一种抛光垫。
本发明的目的通过以下技术方案来具体实现:
一种抛光垫,包括基垫和基垫上部的接触垫,所述基垫采用硬质材料制造,所述接触垫采用柔性橡胶材料制造,所述基垫为一圆形的板状结构,所述接触垫的上部为圆形的平面,下部中心设有凹槽,环绕所述凹槽设有凹环,所述凹槽为圆形,凹环与凹槽同心设置,基垫和接触垫之间密封连接,并且凹槽与凹环之间不相通。
所述凹环的宽度等于凹槽的直径。
通过上述设计的抛光垫,通过凹槽、凹环与基垫之间形成密封的气垫结构,气垫可以有效的缓冲压力,变形更小,并且使用寿命更长,当表面的接触垫损坏的时候,可以直接更换接触垫,而不需要整体更换,节省使用成本。
附图说明
下面根据附图和实施例对本发明作进一步详细说明。
图1是本发明实施例所述抛光垫的结构图。
图2是剖视图。
具体实施方式
如图1-2所示,本发明实施例所述的抛光垫,包括基垫1和基垫1上部的接触垫2,所述基垫1采用硬质材料制造,所述接触垫2采用柔性橡胶材料制造,所述基垫1为一圆形的板状结构,所述接触垫2的上部为圆形的平面,下部中心设有凹槽21,环绕所述凹槽21设有凹环22,所述凹槽21为圆形,凹环22与凹槽21同心设置,基垫1和接触垫2之间密封连接,并且凹槽21与凹环22之间不相通。
所述凹环22的宽度等于凹槽21的直径。
通过上述设计的抛光垫,通过凹槽、凹环与基垫之间形成密封的气垫结构,气垫可以有效的缓冲压力,变形更小,并且使用寿命更长,当表面的接触垫损坏的时候,可以直接更换接触垫,而不需要整体更换,节省使用成本。

Claims (2)

1.一种抛光垫,其特征在于,包括基垫和基垫上部的接触垫,所述基垫采用硬质材料制造,所述接触垫采用柔性橡胶材料制造,所述基垫为一圆形的板状结构,所述接触垫的上部为圆形的平面,下部中心设有凹槽,环绕所述凹槽设有凹环,所述凹槽为圆形,凹环与凹槽同心设置,基垫和接触垫之间密封连接,并且凹槽与凹环之间不相通。
2.如权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,所述凹环的宽度等于凹槽的直径。
CN2012104898310A 2012-11-27 2012-11-27 一种抛光垫 Pending CN102990535A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2012104898310A CN102990535A (zh) 2012-11-27 2012-11-27 一种抛光垫

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2012104898310A CN102990535A (zh) 2012-11-27 2012-11-27 一种抛光垫

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN102990535A true CN102990535A (zh) 2013-03-27

Family

ID=47919926

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2012104898310A Pending CN102990535A (zh) 2012-11-27 2012-11-27 一种抛光垫

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102990535A (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5913713A (en) * 1997-07-31 1999-06-22 International Business Machines Corporation CMP polishing pad backside modifications for advantageous polishing results
CN2419246Y (zh) * 1999-07-12 2001-02-14 周石镭 拱形橡胶减震垫
US6561873B2 (en) * 2000-02-17 2003-05-13 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for enhanced CMP using metals having reductive properties
CN1482958A (zh) * 2000-12-27 2004-03-17 拉姆研究公司 用于制造增强晶片研磨垫的方法以及实施该方法的装置
TW200414966A (en) * 2002-11-11 2004-08-16 Ebara Corp Polishing apparatus
US20050095958A1 (en) * 2003-11-04 2005-05-05 Yun Hyun J. Chemical mechanical polishing apparatus and methods using a polishing surface with non-uniform rigidity
CN101119829A (zh) * 2004-12-29 2008-02-06 东邦工程株式会社 抛光垫

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5913713A (en) * 1997-07-31 1999-06-22 International Business Machines Corporation CMP polishing pad backside modifications for advantageous polishing results
CN2419246Y (zh) * 1999-07-12 2001-02-14 周石镭 拱形橡胶减震垫
US6561873B2 (en) * 2000-02-17 2003-05-13 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for enhanced CMP using metals having reductive properties
CN1482958A (zh) * 2000-12-27 2004-03-17 拉姆研究公司 用于制造增强晶片研磨垫的方法以及实施该方法的装置
TW200414966A (en) * 2002-11-11 2004-08-16 Ebara Corp Polishing apparatus
US20050095958A1 (en) * 2003-11-04 2005-05-05 Yun Hyun J. Chemical mechanical polishing apparatus and methods using a polishing surface with non-uniform rigidity
CN101119829A (zh) * 2004-12-29 2008-02-06 东邦工程株式会社 抛光垫

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104747642A (zh) 囊式空气弹簧
CN204196130U (zh) 一种具有定位针装置的新型模具
CN201836388U (zh) Y型密封圈
CN202158187U (zh) 防挤压变形垫圈
CN102990535A (zh) 一种抛光垫
CN204720751U (zh) 一种换向器排片模具
CN201644100U (zh) 一种单孔梅花柱形催化剂载体
CN203335602U (zh) 机械弹簧垫圈
CN204366722U (zh) 一种浮动支撑架
CN202674045U (zh) 喷油泵用轴承盖
CN203384244U (zh) 一种可补偿支承环间隙结构的离合器盖总成
CN203219924U (zh) 一种卷烟机的平整盘
CN101569475B (zh) 应用橡胶圈作弹性体的床垫
CN201644102U (zh) 一种催化剂载体
CN105673842A (zh) 一种耐压缓冲封头
CN201644101U (zh) 一种多孔梅花柱形催化剂载体
CN202946674U (zh) 组合密封结构防尘垫
CN104565162A (zh) 自调节防震垫片
CN201866316U (zh) 球阀
CN203839196U (zh) 电容器上的防爆板
CN202349447U (zh) 自密封弹性金属环形垫片
CN106558377A (zh) 一种绝缘橡胶垫圈
CN203214435U (zh) 一种改进压壳支撑筋的增压器
CN203067507U (zh) 用于微调零件间隙的波浪形弹簧垫片
CN203717752U (zh) 减震弹簧垫

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20130327