CN102943243B - 一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线,包括真空镀膜腔体和多个腔体支架,所述的真空镀膜腔体安装在多个腔体支架上,内部设有内传送系统,真空镀膜腔体依次分为进口真空段、进口缓冲真空段、进口过渡真空段、工艺镀膜真空段、出口过渡真空段、出口缓冲真空段和出口真空段七段;每段均设有抽气系统。本发明真空腔体之间采用插板阀隔开,可以实现有效隔断,稳定工艺气体;传送系统采用磁导向,平稳性好;本发明实现了电容式触摸屏连续批量生产,生产效率高。
Description
技术领域
本发明涉及一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线。
背景技术
电容式触摸屏是在玻璃表面镀上一层透明的特殊导电物质。当手指触摸在玻璃上时,触点的电容就会发生变化,使得与之相连的振荡器频率发生变化,通过测量频率变化可以获得确定的触摸位置信息。电容屏的工作原理是:电容式触摸屏在触摸屏四边均镀上狭长的电极,在导电体内形成一个低电压交流电场。在触摸屏幕时,由于人体电场,手指与导体层间会形成一个耦合电容,四边电极发出的电流会流向触点,而电流强弱与手指到电极的距离成正比,位于触摸屏幕后的控制器便会计算电流的比例及强弱,准确算出触摸点的位置。电容触摸屏的双玻璃不但能保护导体及感应器,更有效地防止外在环境因素对触摸屏造成影响,就算屏幕沾有污秽、尘埃或油渍,电容式触摸屏依然能准确算出触摸位置。
近年来,由于电容式触摸屏具有抗损伤、耐划伤、易清洁、灵敏度高、可以实现多触点工作和可开发性强的特点;美国苹果公司(Apple)、韩国三星公司(Samsung)、芬兰诺基亚(Nokia)、中国联想(Lenovo)和中国中兴(ZTE)等手机厂商大量采用触摸屏技术。触摸屏的需求量巨大,而现有的生产触摸屏镀膜玻璃的生产线大都不能批量化连续的生产,生产效率低下,难以满足市场需求。
触摸屏结构内具有以下几种薄膜和相应的镀膜方式:
1、氧化铟锡(ITO)透明导电层,采用直流磁控溅射镀膜方式;
2、钼铝钼(MoAlMo)复合金属电极层,采用直流磁控溅射镀膜方式;
3、氧化铌(Nb2O5)光学介质层,采用中频磁控溅射镀膜方式;
4、氧化硅(SiO2)光学介质层,采用中频磁控溅射镀膜方式。
现有的生产触摸屏镀膜玻璃的生产线大都只能满足一种薄膜材料的镀膜,而不能同时满足多种薄膜材料镀膜的不同工艺的要求,因此生产不同的镀膜触摸屏,需要不同的生产线,成本高。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供了一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线,实现了电容式触摸屏批量连续生产,且一条生产线可满足不同种类的薄膜材料的触摸屏的生产。
本发明采用的技术方案是:包括真空镀膜腔体和多个腔体支架,所述的真空镀膜腔体安装在多个腔体支架上,内部设有内传送系统,真空镀膜腔体依次分为进口真空段、进口缓冲真空段、进口过渡真空段、工艺镀膜真空段、出口过渡真空段、出口缓冲真空段和出口真空段七段;
所述的进口真空段,进口处设有翻板阀,一侧设有腔体维修门,附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统,前级抽气系统通过抽气管道与进口真空段的底部连接;
所述的进口缓冲真空段与进口真空段连接处设有插板阀,进口缓冲真空段一侧设有六位三装分子泵高真空抽气系统,进口缓冲真空段的底部通过分子泵抽气连接耦合器分别与前级抽气连接管道和六位三装分子泵高真空抽气系统连接;进口缓冲真空段附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统,前级抽气系统通过抽气管道与前级抽气连接管道连接;
所述的进口过渡真空段与进口缓冲真空段连接处设有插板阀,进口过渡真空段的一侧安装有六位二装分子泵高真空抽气系统,进口过渡真空段的底部通过分子泵抽气连接耦合器分别与六位二装分子泵高真空抽气系统和抽气连接管道连接;
所述的工艺镀膜真空段包括多个工艺真空模块及至少一个工艺隔离真空模块,每个工艺真空模块的一侧均安装有三位二装分子泵门和双阴极门,底部通过分子泵抽气连接耦合器分别与三位二装分子泵门和抽气连接管道连接;工艺镀膜真空段附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统;前级抽气系统通过抽气管道与抽气连接管道连通;所述的分子泵抽气连接耦合器上设有三位三装分子泵门;所述真空隔离模块的一侧安装有六位五装分子泵门;
所述的出口过渡真空段与工艺镀膜真空段连接处设有插板阀,出口过渡真空段一侧设有六位二装分子泵高真空抽气系统,出口过渡真空段的底部通过分子泵抽气连接耦合器分别与六位二装分子泵高真空抽气系统和抽气连接管道连接;
所述的出口缓冲真空段与出口过渡真空段连接处设有插板阀,出口缓冲真空段的一侧设有六位三装分子泵高真空抽气系统,出口缓冲真空段的底部通过分子泵抽气连接耦合器分别与六位三装分子泵高真空抽气系统和前级抽气连接管道连接;出口缓冲真空段附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统,前级抽气系统通过抽气管道与前级抽气连接管道连通;
所述的出口真空段与出口缓冲真空段连接处设有插板阀,出口真空段出口处设有翻板阀,一侧设有腔体维修门,附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统,前级抽气系统通过抽气管道与出口真空段的底部连接。
上述的电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线中,还包括进片架、出片架和回片架,进片架设在进口真空段的进口附近,进片架附近设有进片平移台;出片架设在出口真空段的出口附近,出片架附近设有出片平移台;所述回片架与真空镀膜腔体平行,设置在真空镀膜腔体附近;所述进片架、出片架和回片架上设有外传送系统;
上述的电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线中,所述前级抽气系统连接的抽气管道上设有蝶阀。
上述的电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线中,所述真空镀膜腔体采用SUS304不锈钢焊接而成。
上述的电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线中,所述内传送系统由内摩擦R轮和磁导向组成。
上述的电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线中,所述外传送系统由外摩擦R轮、磁导向和安装支架组成。
上述的电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线中,还包括纯水冷却供给系统、压缩空气供给系统,设置在真空镀膜腔体的下方。
上述的电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线中,真空镀膜腔体的上端还设有安装线槽。
本发明的技术效果在于:本发明的真空腔体之间采用插板阀隔开,可以实现有效隔断,稳定工艺气体,密封性更好,更耐用;本发明传动装置采用磁导向,传送平稳性好;本发明适用于电容式触摸屏用的钼铝钼(MoAlMo)复合膜层、透明氧化铟锡薄膜(ITO)、氧化铌(Nb2O5)膜和氧化硅(SiO2)膜的连续批量生产,生产效率高,且生产不同镀膜材料的触摸屏,不需要另行建设新的生产线,节约了成本。
附图说明
图1是本发明的进口真空段的主视图。
图2是本发明的进口真空段的俯视图。
图3是本发明的进口缓冲真空段的主视图。
图4是本发明的进口缓冲真空段的俯视图。
图5是本发明的进口过渡真空段的主视图。
图6是本发明的进口过渡真空段的俯视图。
图7是本发明的工艺镀膜真空段的主视图。
图8是本发明的工艺镀膜真空段的俯视图。
图9是本发明的出口过渡真空段的主视图。
图10是本发明的出口过渡真空段的俯视图。
图11是本发明的出口缓冲真空段的主视图。
图12是本发明的出口缓冲真空段的俯视图。
图13是本发明的出口真空段的主视图。
图14是本发明的出口真空段的俯视图。
图15是本发明的出口真空段和进口真空段的左视图。
图16是进口缓冲真空段、工艺镀膜真空段和出口缓冲真空段的左视图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步的说明。
由图1~16所示,本发明包括真空镀膜腔体1、多个腔体支架2和回片架3,所述的真空镀膜腔体1安装在多个腔体支架2上,内部设有内传送系统,真空镀膜腔体1依次分为进口真空段11、进口缓冲真空段12、进口过渡真空段13、工艺镀膜真空段14、出口过渡真空段15、出口缓冲真空段16和出口真空段17七段,进口真空段11的进口附近设有进片架,进片架附近设有进片平移台;出口真空段17的出口附近设有出片架,出片架附近设有出片平移台;所述回片架与真空镀膜腔体1平行,设置在真空镀膜腔体1附近;所述进片架、出片架和回片架3上设有外传送系统;所述的真空镀膜腔体1采用SUS304不锈钢焊接而成。
如图1、2所示,所述的进口真空段11,进口处设有翻板阀1-1,一侧设有腔体维修门1-2,如图15所示,附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统1-6,前级抽气系统1-6通过抽气管道1-3与进口真空段11的底部连接,抽气管道1-3上设有蝶阀1-5。
如图3、4所示,所述的进口缓冲真空段12与进口真空段11连接处设有插板阀2-1,进口缓冲真空段12一侧设有六位三装分子泵高真空抽气系统2-4,进口缓冲真空段12的底部通过分子泵抽气连接耦合器2-3分别与前级抽气连接管道2-2和六位三装分子泵高真空抽气系统2-4连接;进口缓冲真空段12附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统1-6,前级抽气系统1-6通过抽气管道1-3与前级抽气连接管道2-2连接。
如图5、6所示,所述的进口过渡真空段13与进口缓冲真空段12连接处设有插板阀2-1,进口过渡真空段13的一侧安装有六位二装分子泵高真空抽气系统3-1,进口过渡真空段13的底部通过分子泵抽气连接耦合器2-3分别与六位二装分子泵高真空抽气系统3-1和抽气连接管道3-2连接。
如图7、8所示,所述的工艺镀膜真空段14包括五个工艺真空模块14-1及一个工艺隔离真空模块14-2,每个工艺真空模块14-1的一侧均安装有三位二装分子泵门4-2和双阴极门4-1,底部通过分子泵抽气连接耦合器2-3分别与三位二装分子泵门4-2和抽气连接管道3-2连接;工艺镀膜真空段14附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统1-6;前级抽气系统1-6通过抽气管道1-3与抽气连接管道3-2连通,抽气管道1-3上设有蝶阀1-5;所述的分子泵抽气连接耦合器2-3上设有三位三装分子泵门4-3,所述工艺隔离真空模块14-2的一侧安装有六位五装分子泵门。
如图9、10所示,所述的出口过渡真空段15与工艺镀膜真空段14连接处设有插板阀2-1,出口过渡真空段15一侧设有六位二装分子泵高真空抽气系统3-1,出口过渡真空段15底部通过分子泵抽气连接耦合器2-3分别与六位二装分子泵高真空抽气系统3-1和抽气连接管道3-2连接。
如图11、12所示,所述的出口缓冲真空段16与出口过渡真空段15连接处设有插板阀2-1,出口缓冲真空段16的一侧设有六位三装分子泵高真空抽气系统2-4,出口缓冲真空段16的底部通过分子泵抽气连接耦合器2-3分别与六位三装分子泵高真空抽气系统2-4和前级抽气连接管道2-2连接;出口缓冲真空段16附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统1-6,前级抽气系统1-6通过抽气管道1-3与前级抽气连接管道2-2连通;抽气管道1-3上设有蝶阀1-5。
如图13、14所示,所述的出口真空段17与出口缓冲真空段16连接处设有插板阀2-1,出口真空段17的出口处设有翻板阀1-1,一侧设有腔体维修门1-2,附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统1-6,前级抽气系统1-6通过抽气管道1-3与出口真空段17的底部连接,抽气管道1-3上设有蝶阀1-5。
如图15、16所示,上述的所述内传送系统由内摩擦R轮10和磁导向21组成,外传送系统由外摩擦R轮22、磁导向21和安装支架23组成。所述真空镀膜腔体1的上端还设有安装线槽20,本发明还包括纯水冷却供给系统8、压缩空气供给系统9,设置在真空镀膜腔体1的下方。
本发明玻璃的装在方式为立式装载,尤其适合生产厚度在0.33mm到1.1mm之间的触摸屏玻璃镀膜。
Claims (8)
1.一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线,其特征是:包括真空镀膜腔体和多个腔体支架,所述的真空镀膜腔体安装在多个腔体支架上,内部设有内传送系统,真空镀膜腔体依次分为进口真空段、进口缓冲真空段、进口过渡真空段、工艺镀膜真空段、出口过渡真空段、出口缓冲真空段和出口真空段七段;
所述的进口真空段,进口处设有翻板阀,一侧设有腔体维修门,附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统,前级抽气系统通过抽气管道与进口真空段的底部连接;
所述的进口缓冲真空段与进口真空段连接处设有插板阀,进口缓冲真空段一侧设有六位三装分子泵高真空抽气系统,进口缓冲真空段的底部通过分子泵抽气连接耦合器分别与前级抽气连接管道和六位三装分子泵高真空抽气系统连接;进口缓冲真空段附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统,前级抽气系统通过抽气管道与前级抽气连接管道连接;
所述的进口过渡真空段与进口缓冲真空段连接处设有插板阀,进口过渡真空段的一侧安装有六位二装分子泵高真空抽气系统,进口过渡真空段的底部通过分子泵抽气连接耦合器分别与六位二装分子泵高真空抽气系统和抽气连接管道连接;
所述的工艺镀膜真空段包括多个工艺真空模块及至少一个工艺隔离真空模块,每个工艺真空模块的一侧均安装有三位二装分子泵门和双阴极门,底部通过分子泵抽气连接耦合器分别与三位二装分子泵门和抽气连接管道连接;工艺镀膜真空段附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统;前级抽气系统通过抽气管道与抽气连接管道连通;所述的分子泵抽气连接耦合器上设有三位三装分子泵门;所述真空隔离模块的一侧安装有六位五装分子泵门;
所述的出口过渡真空段与工艺镀膜真空段连接处设有插板阀,出口过渡真空段一侧设有六位二装分子泵高真空抽气系统,出口过渡真空段的底部通过分子泵抽气连接耦合器分别与六位二装分子泵高真空抽气系统和抽气连接管道连接;
所述的出口缓冲真空段与出口过渡真空段连接处设有插板阀,出口缓冲真空段的一侧设有六位三装分子泵高真空抽气系统,出口缓冲真空段的底部通过分子泵抽气连接耦合器分别与六位三装分子泵高真空抽气系统和前级抽气连接管道连接;出口缓冲真空段附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统,前级抽气系统通过抽气管道与前级抽气连接管道连通;
所述的出口真空段与出口缓冲真空段连接处设有插板阀,出口真空段出口处设有翻板阀,一侧设有腔体维修门,附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统,前级抽气系统通过抽气管道与出口真空段的底部连接。
2.如权利要求1所述的电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线,其特征是:还包括进片架、出片架和回片架,进片架设在进口真空段的进口附近,进片架附近设有进片平移台;出片架设在出口真空段的出口附近,出片架附近设有出片平移台;所述回片架与真空镀膜腔体平行,设置在真空镀膜腔体附近;所述进片架、出片架和回片架上设有外传送系统。
3.如权利要求1所述的电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线,其特征是:所述前级抽气系统连接的抽气管道上设有蝶阀。
4.如权利要求1所述的电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线,其特征是:所述真空镀膜腔体采用SUS304不锈钢焊接而成。
5.如权利要求1所述的电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线,其特征是:所述内传送系统由内摩擦R轮和磁导向组成。
6.如权利要求1所述的电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线,其特征是:真空镀膜腔体的上端还设有安装线槽。
7.如权利要求2所述的电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线,其特征是:所述外传送系统由外摩擦R轮、磁导向和安装支架组成。
8.如权利要求1、2、3、4、5、6或7所述的电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线,其特征是:还包括纯水冷却供给系统、压缩空气供给系统,设置在真空镀膜腔体的下方。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201210488658.2A CN102943243B (zh) | 2012-11-27 | 2012-11-27 | 一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201210488658.2A CN102943243B (zh) | 2012-11-27 | 2012-11-27 | 一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102943243A CN102943243A (zh) | 2013-02-27 |
CN102943243B true CN102943243B (zh) | 2014-06-25 |
Family
ID=47726225
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201210488658.2A Active CN102943243B (zh) | 2012-11-27 | 2012-11-27 | 一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102943243B (zh) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104711518A (zh) * | 2013-12-16 | 2015-06-17 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 一种真空镀膜生产线用管道耦合装置 |
CN105543801B (zh) * | 2013-12-16 | 2018-12-21 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 一种用于手机盖板保护屏连续镀膜生产线 |
CN103820762B (zh) * | 2014-02-20 | 2016-07-20 | 江西沃格光电股份有限公司 | 磁控溅射镀膜系统 |
CN103849845B (zh) * | 2014-03-07 | 2016-01-27 | 东莞鑫泰玻璃科技有限公司 | 磁控溅射镀膜生产线 |
CN104018131A (zh) * | 2014-05-05 | 2014-09-03 | 红安华州光电科技有限公司 | 双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产线 |
CN106011769B (zh) * | 2016-07-29 | 2019-01-22 | 江苏宇天港玻新材料有限公司 | 一种多功能立式连续磁控溅射镀膜系统 |
CN106319467A (zh) * | 2016-10-20 | 2017-01-11 | 湖南省霖辉高新材料科技有限公司 | 一种适用于涂膜表面的真空镀膜设备 |
CN109957771A (zh) * | 2017-12-14 | 2019-07-02 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 手机盖板颜色膜卧式镀膜生产线 |
CN109957782A (zh) * | 2017-12-14 | 2019-07-02 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 手机玻璃盖板金属标志真空镀膜生产线 |
CN108677160B (zh) * | 2018-08-13 | 2020-12-29 | 武汉科瑞达真空科技有限公司 | 一种基于公自转装载托盘的连续镀膜生产线 |
CN109055905B (zh) * | 2018-08-13 | 2020-08-25 | 武汉科瑞达真空科技有限公司 | 一种卧式移动阴极镀膜机 |
CN108977783A (zh) * | 2018-08-13 | 2018-12-11 | 武汉科瑞达真空科技有限公司 | 一种钕铁硼陶瓷表面金属化磁控溅射镀膜生产线 |
CN109136857B (zh) * | 2018-09-18 | 2020-10-02 | 武汉科瑞达真空科技有限公司 | 一种新型连续蒸发镀膜生产线 |
CN109207966A (zh) * | 2018-10-23 | 2019-01-15 | 杭州海莱德智能科技有限公司 | 一种积木式平板pecvd镀膜系统 |
CN114086133A (zh) * | 2020-12-17 | 2022-02-25 | 福建金石能源有限公司 | 一种集成原子层沉积功能的磁控溅射镀膜系统及其镀膜方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2613391B2 (ja) * | 1987-04-21 | 1997-05-28 | セイコー電子工業株式会社 | 半導体結晶成長装置 |
US5303671A (en) * | 1992-02-07 | 1994-04-19 | Tokyo Electron Limited | System for continuously washing and film-forming a semiconductor wafer |
CN201447502U (zh) * | 2009-05-11 | 2010-05-05 | 钟肇兰 | 多室连续真空镀膜装置 |
CN202415378U (zh) * | 2011-12-31 | 2012-09-05 | 肇庆市腾胜真空技术工程有限公司 | 双片或双面镀膜系统 |
CN102560408A (zh) * | 2012-01-20 | 2012-07-11 | 纳峰真空镀膜(上海)有限公司 | 连续真空镀膜装置 |
CN202945322U (zh) * | 2012-11-27 | 2013-05-22 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 一种电容式触摸屏磁控溅射镀膜生产线 |
-
2012
- 2012-11-27 CN CN201210488658.2A patent/CN102943243B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102943243A (zh) | 2013-02-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |