CN102942388B - 防结垢v形下料溜槽 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种用于磷肥生产中喷浆造粒窑下料口的防结垢V形下料溜槽，溜槽本体四个侧壁上分别设有若干平行设置的进气口，每个进气口上方的溜槽壁向溜槽内侧倾斜延伸形成格栅；每个侧壁上的格栅平行设置，格栅上表面形成倾斜的物料导流面，格栅下表面形成气流导流面；围绕溜槽本体四个侧壁的外侧设有密闭的气室，气室上开有与气源相通的进气口。采用热风对溜槽内壁吹扫，可防止潮湿粒子粘滞在溜槽内壁，可有效避免结垢，提高系统生产效率，降低生产成本和劳动强度。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于磷肥生产中喷浆造粒窑下料口的V形下料溜槽，具体地说是一种防结垢V形下料溜槽。
背景技术
在磷酸二铵的造粒过程中，造粒窑尾下料口一般采用V形下料溜槽下料。由于造粒窑排出的粒子含水率较高，含水率一般达到4%，很容易产生结垢，潮湿的粒子经过溜槽时会粘在溜槽内壁上形成结垢而影响下料，甚至被完全堵塞，基本上每一班不得不都要停车20～30分钟停车清理溜槽，既影响了系统的稳定运行又给生产人员增加了工作量。
发明内容
本发明的目的是提供一种用于喷浆造粒窑下料口的防结垢V形下料溜槽，可以有效缓解溜槽的结垢，提高系统生产效率。
本发明采用的技术方案是：包括溜槽本体，溜槽本体四个侧壁上分别设有若干平行设置的进气口，每个进气口上方的溜槽壁向溜槽内侧倾斜延伸形成格栅，格栅下缘在铅垂面上的投影至少覆盖下方的进气口；每个侧壁上的格栅平行设置，格栅上表面形成倾斜的物料导流面，格栅下表面形成气流导流面，将进气口流入的气流导至下方格栅上表面；围绕溜槽本体四个侧壁的外侧设有密闭的气室，气室上开有与气源相通的进气口。
工作时，将温度在50℃～70℃的热风通入气室，再经溜槽侧壁上的格栅进入溜槽内，上一格栅下表面将气流导向下一格栅上表面，对粘接在格栅上表面的粒子进行吹扫，可以有效防止磷肥粒子在其表面结垢；并且热风与粒子接触还可对粒子进一步干燥，提高粒子质量。
为防止粒子由溜槽侧壁进气口外溢，每个格栅下缘至下方进气口的垂直距离不超过10cm。
考虑到溜槽四个侧壁均设置吹扫的进气口，采用一个密闭气室会造成不同侧壁进气口的气流压力不均，导致对不同侧壁吹扫效果不同，本发明的一个优选方案是：四个侧壁的外侧分别设有密闭的独立气室，每个独立气室上分别开有与气源相通的进气口。
由上述技术方案可知，本发明采用热风对溜槽内壁吹扫，可防止潮湿粒子粘滞在溜槽内壁，可有效避免结垢沉积而造成的溜槽堵塞。采用本技术方案后，停车清理时间延长至10天左右，系统生产效率大幅提高，可以降低生产成本，同时还可降低劳动强度。选用热风还可以防止粒子由于温度过低而结块，并且可以对粒子进一步干燥，提高粒子质量。
附图说明
图1是本发明结构示意图；
图2是图1的俯视图；
图3是图1中A处局部放大示意图。
具体实施方式
如图1至图3所示，溜槽本体四个侧壁1上分别设有若干平行设置的进气口4，每个进气口4上方的溜槽壁向溜槽内侧倾斜延伸形成格栅5，格栅5下缘在铅垂面上的投影至少覆盖下方的进气口4；每个侧壁1上的格栅5平行设置，格栅上表面51形成倾斜的物料导流面，格栅下表面52形成气流导流面，将进气口4流入的气流导至下方格栅表面52。围绕溜槽本体四个侧壁1的外侧设有密闭的气室2，气室2上开有与气源相通的进气口3。
每个格栅5下缘至下方进气口4的垂直距离不超过10cm。
优选方案如图2所示，四个侧壁1的外侧分别设有密闭的独立气室21、22、23和24，每个独立气室上分别开有与气源相通的进气口。
其工作原理如下：工作时，来自造粒窑的粒子经溜槽上方进料口11落入溜槽内，经格栅上表面51导流，由下端出料口12排出。同时，将温度在50℃～70℃的热风分别通入气室21、22、23和24，再经溜槽侧壁1上的格栅5进入溜槽内，上一格栅下表面52将气流导向下一格栅上表面51，对粘接在格栅上表面51的粒子进行吹扫，以防止磷肥粒子在其表面粘结；热风随粒子由出料口12排出，热风与粒子接触的同时对粒子进一步干燥，可以提高粒子质量。
Claims (2)
1.防结垢V形下料溜槽，包括溜槽本体，其特征在于：溜槽本体四个侧壁(1)上分别设有若干平行设置的进气口(4)，每个进气口(4)上方的溜槽壁向溜槽内侧倾斜延伸形成格栅(5)，格栅(5)下缘在铅垂面上的投影至少覆盖下方的进气口(4)，每个格栅(5)下缘至下方进气口(4)的垂直距离不超过10cm；每个侧壁(1)上的格栅(5)平行设置，格栅上表面(51)形成倾斜的物料导流面，格栅下表面(52)形成气流导流面，将进气口(4)流入的气流导至下方格栅上表面(51)；围绕溜槽本体四个侧壁(1)的外侧设有密闭的气室(2)，气室(2)上开有与气源相通的进气口(3)。
2.根据权利要求1所述的防结垢V形下料溜槽，其特征在于：四个侧壁(1)的外侧分别设有密闭的独立气室(21、22、23、24)，每个独立气室上分别开有与气源相通的进气口。
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