CN102883644A - 地板研磨和清洁体 - Google Patents

Abstract

本发明涉及用于对结构化地板(2)的基于机器的处理的地板研磨和清洁体(1)包括：基体(10)，其在第一侧(12)上具有弹性纹理化表面(14)；处理层(20)，其布置在基体(10)的纹理化表面(14)上；和钩环适配层(30)，其布置在基体(10)的与第一侧(12)相反的第二侧(16)上；其中纹理化表面(14)包括弹性突起结构，其中弹性突起结构的突起(18)设计成能够处理地板(2)的结构化表面(3)的深处区域(4)。

Description

地板研磨和清洁体

技术领域

本发明涉及用于结构化地板的基于机器的处理的地板研磨和清洁体。使用地板研磨和清洁体以对由聚合物制成的具有难以清洁的结构化表面的地板进行清洁。地板研磨和清洁体还可以用于对结构化地板进行研磨以使其再次被涂覆。

背景技术

由聚合物制成的地板用于很多应用领域中，例如，应用于医疗保健、工业和商业、机场、办公和行政大楼、以及住宅建筑中。除了具有平坦表面的由聚合物制成的地板之外，由聚合物制成的地板可具有独特(即，宏观的、产生触觉的和良好可见的)表面结构，该独特表面结构使得地板显得更自然或降低滑倒风险。例如，已知地板具有页岩(shale)结构、木质结构、锤击表面或具有圆形突起。这种地板的结构可以包括从约0.3mm到高达几毫米的高度，并因此显著地不同于具有通常微观表面粗糙度的基本平衡地板。

对具有独特表面结构的这种地板的彻底清洁或研磨造成至今仍未适宜地解决的大问题。已知的清洁产品和系统(例如，与研磨或清洁垫结合使用的具有刷滚筒的刷式机器或单盘机器、三辊机器或自动清洁机)不能到达纹理化表面的更深区域，以致于不能实现对整个表面的彻底清洁或处理。具体地，仅能够不充分地去除来自纹理化表面的更深区域的污物，因为研磨或清洁工具仅能到达地板的结构化表面的高起区域。从US5,458,532可获知这种类型的具有相应抛光垫的单盘机器。

当使用软刷滚筒时，确实达到地板的表面结构的更深区域，但是整体清洁效果非常低。

为了提高聚合物地板的使用寿命并改进地板的光学外观，由聚合物制成的地板还涂覆有PU漆。在该PU涂覆地板的重新磨亮工作期间，在使地板被再次涂覆之前，需要磨掉旧的PU涂层。但是，现有技术中没有可以用于彻底研磨结构化地板的已知研磨产品。此外，弹性研磨盘总是仅研磨地板的高起部分，而深入部分未被处理。

从DE 202 15 389U1，已知具体用于清洁表面的研磨体，其包括基体，基体在一侧上至少包括研磨工具，而基体在存在研磨工具的一侧上包括高起部分。由此，可以有利地实现使从待研磨或抛光表面去除的物质或研磨体的磨蚀物聚集在由高起部分所产生的凹处中。此外，高起部分具有增加研磨体的磨蚀物的效果。嵌入在附加工具中的介质将以更加选择性的方式被高起部分分散。但是，不清楚这种清洁体应用于结构化地板的基于机器的处理会怎么样。

从US 2008/0318506A1可获知由粘合元件制成的载体层和第二层的磨蚀片状研磨工具。第二层涂覆有磨蚀材料。采用这种布置，在处理表面上轨道的网络将形成于第二层的元件之间，在研磨期间空气和灰尘颗粒经过该网络被排出。

此外，已知用于清洁壶和盘子的海绵，该海绵包括弹性的略微纹理化表面。这些用于清洁壶和盘子的海绵用于手动清洁盘子。它们没有定义的去除率，并且原则上不适合于对地板的基于机器的处理。

此外，例如从US 5,185,964，已知具有弹性纹理化表面的抛光海绵，其与用于抛光汽车喷漆表面的液体抛光工具结合使用。抛光海绵自身没有研磨或清洁效果。

因此，本发明解决提供用于对结构化地板的基于机器的处理的研磨和清洁体的问题。

发明内容

通过根据专利权利要求1和6的用于对结构化地板的基于机器的处理的地板研磨和清洁体、根据权利要求20使用这种地板研磨和清洁体、以及根据权利要求18对结构化地板的基于机器的处理的方法，来解决上述问题。

具体地，通过用于对结构化地板的基于机器的处理的地板研磨和清洁体来解决上述问题，该地板研磨和清洁体包括：基体，其在第一侧上具有弹性纹理化表面；处理层，其布置在基体的纹理化表面上；和钩环适配层，其布置在基体的与第一侧相反的第二侧上，其中纹理化表面包括弹性突起结构，其中弹性突起结构的突起设计成能够处理地板的结构化表面的深处区域。

因为处理层布置在基体的弹性纹理化表面上，所以还能够由地板研磨和清洁体到达结构化地板的结构的深处区域，并因此还能够以基于机器的方式研磨或清洁该深处区域。弹性纹理还将处理层压入到地板结构的深处区域中，以执行对这些深处区域的底部的处理，即清洁或研磨。借助于布置在基体的与第一侧相反的第二侧上的钩环适配层，地板研磨和清洁体可以容易地且安全地连接到相应机器，从而提供从机器至地板研磨和清洁体的良好力传递。

基体的纹理化表面包括弹性突起结构。由于突起结构，在基体上产生高起部分，在处理层上也产生相应高起部分，以使得处理层被基体按压到地板的结构化表面的更深区域中，并且还可以处理结构化表面的更深区域。由于基体的弹性，各个突起的顶端分别被按压在地板的表面结构的深入部分的底部上，并且可以在该处进行清洁或研磨。此外，基体的弹性确保相对于地板移动的地板研磨和清洁体中的各个突起执行经过结构化表面的凹入部分和凸起部分的过山车式移动。相应地，突起总是保持与底板的结构化表面接触，并因此基本以相同的方式处理地板的全部表面区域(即，凹入部分、凸起部分、以及凸起部分和凹入部分之间的过渡部分)。此外，通过地板研磨和清洁体的结构化表面，在研磨处理期间空气被夹带并引导至研磨表面，以使得研磨表面受到冷却，这防止地板研磨和清洁体被堵塞并增强研磨结构。此外，从研磨表面去除产生的研磨灰尘。

优选地，纹理化表面包括弹性突起结构，该弹性突起结构适应于待处理的地板的纹理化表面。通过使突起结构适应于地板的纹理化表面，由单一突起将充分的研磨压力施加到地板的深处区域，尽管其他突起放置在地板的高起区域上并因此被更强烈地压缩。例如，可考虑到突起结构的突起的弹性、形状、布置、距离和尺寸而执行使突起结构适应于待处理的地板。

优选地，处理层包括嵌入在树脂中的磨蚀颗粒。这种磨蚀颗粒例如由砂岩、浮石、石英、刚玉、碳化硅或类似的硬质材料组成。这些磨蚀颗粒引起地板研磨和清洁体的实际研磨或清洁效果。为确保将磨蚀颗粒固定到基体，这些磨蚀颗粒嵌入在树脂中。通常，磨蚀颗粒包括限定的颗粒尺寸，以使得地板研磨和清洁体的研磨效果可以适应于待研磨的材料和期望的表面粗糙度、以及去除率。

在另一优选实施例中，处理层包括分别不具有磨蚀颗粒或不具有清洁粉末的树脂涂层。如果地板将不进行研磨而是清除掉紧密粘附的污物，处理层只需要包括不具有清洁粉末和磨蚀颗粒的树脂涂层。例如，这种无粉末树脂涂层可以实现为开放式泡体或绒头织物状。由此，通过树脂涂层实现良好的清洁效果，其中，地板的表面不受影响并因此受到保护。具体地，从而可以容易地去除紧密粘附的蜡层。

优选地，处理层进行植绒，特别是利用人造或天然纤维进行植绒，或者处理层利用三聚氰胺树脂泡沫的颗粒进行植绒。利用人造或天然纤维进行植绒、或利用三聚氰胺树脂泡沫的颗粒进行植绒还增加研磨和清洁体的清洁效果，具体地还到达地板的非常精细的深处结构的底部，而不损坏地板。从而，还可以从底板的深入部分分别去除紧密粘附的污物或旧蜡层，而不影响地板的表面。

在优选实施例中，基体和处理层由至少一种弹性橡胶状材料组成，其中，处理层和基体由磨蚀颗粒进行点缀。由此，具体地，可以制造具有相对小突起的地板研磨和清洁体，其中磨蚀材料是“以橡胶限界的”，即，被嵌入在橡胶状弹性材料中。具体地，这种地板研磨和清洁体适合于对具有低表面结构(例如锤击结构)的地板的处理。有利的是以橡胶限界的地板研磨和清洁体包括非常长的使用寿命。除此之外，该地板研磨和清洁体可以容易地通过注入成型来生产，而不需要任意其他必须的涂覆处理。

还通过用于对结构化地板的基于机器的处理的地板研磨和清洁体来解决上述问题，该地板研磨和清洁体包括：基体，其在第一侧上具有弹性纹理化表面；处理层，其布置在基体的纹理化表面上，其中处理层包括嵌入在树脂中的磨蚀颗粒，其中纹理化表面包括弹性突起结构，其中弹性突起结构的突起设计成能够处理地板的结构化表面的深处区域。

因为处理层布置在基体的弹性纹理化表面上，所以同样能够利用地板研磨和清洁体到达结构化地板的更深区域，并因此以基于机器的方式对这些更深区域进行研磨或清洁。弹性纹理将处理层压入到地板结构的深处区域中。借助于嵌入在树脂材料(或类似材料)中的磨蚀颗粒，实现限定的清洁或研磨效果，该效果精确地适应于相应材料和期望的研磨或清洁任务。此外，由于弹性纹理化表面和侵入较低结构中，通过嵌入来确保磨蚀颗粒即使在动态载荷期间也安全地粘附，从而确保地板研磨和清洁体的良好使用寿命。具体地，这种地板研磨和清洁体适合于包括刚毛盘的大而重的地板处理机。这里，地板研磨和清洁体简单地放置在地板上，然后地板处理机被放置在地板研磨和清洁体的顶部上。然后，刚毛盘经由摩擦配合使得地板研磨和清洁体随着该刚毛盘一起运动。这里，不需要钩环连接。

优选地，突起包括棱锥体形状、接头棱锥体形状、圆锥体形状、接头圆锥体形状或在截面中是波形。对于棱锥体形状和圆锥体形状产生突起的相对尖的高起部分，以使得能够以更好的方式处理精细结构化的地板。截头棱锥体形状和截头圆锥体形状产生平坦的顶端，这对于更粗糙结构化的地板是有利的，特别是对于突起地板。此外，这种突起形状的去除率比尖锐形状更好。包括在截面图中观察为波形的突起包括圆角顶端，然后变成更钝的突起区域。因此，突起适合于精细地板以及适合于更粗糙的结构化地板。波形对于制造来说特别简单。

优选地，突起包括2mm-50mm的高度，更优选为10mm-20mm的高度。这种尺寸产生清洁效果所必须的在突起的柔性和突起的刚性之间的良好比率。

优选地，突起包括彼此之间3mm-50mm的距离，更优选为10mm-20mm。采用这种距离，使用的地板研磨和清洁体可以最优化地适应于特定地板。由此，一方面，确保还可以处理地板的精细深入部分，另一方面，确保还提供对表面的高去除率。

优选地，突起由弹性泡沫材料组成。这种弹性泡沫材料可以容易地制造成具有期望的硬度并且具有期望的纹理化表面。此外，弹性泡沫材料可以非常好地提供或涂覆有处理层。

优选地，泡沫材料包括根据DIN 53577和ISO 3386分别20至60的耐压性(在40％材料压缩下的2-6kPa)。因此，一方面，泡沫材料足够软以将具有处理层的突起压入到地板的深入部分中，另一方面，这种耐压性确保充分的向下力并因此确保良好的去除率。

优选地，基体包括10mm-60mm的厚度，优选为15mm-30mm，更优选为20mm-25mm。通过基体的这种厚度，提供需要的地板研磨和清洁体弹性，这确保利用需要的压力使处理层能够深入到结构化表面的更深区域中，而处理层的其他结构化表面区域能够处理地板的更高起的区域。

优选地，基体由弹性聚合物材料组成。代替泡沫材料，弹性聚合物材料也可以用于具有轮廓表明的基体。然后，突起可以优选地具有弹性波纹部分。

优选地，钩环适配层包括钩环绒面织物层。钩环绒面织物层非常好地连接钩环系统的钩层，并因此提供从机器到地板研磨和清洁体的良好无偏差的力传递。

在优选实施例中，处理层包括弹性磨蚀颗粒载体，特别是纤维绒头织物，弹性磨蚀颗粒载体覆盖突起并且涂覆有磨蚀颗粒。通过使用弹性磨蚀颗粒载体，具体地，如果使用相对软的泡沫材料用于基体，地板研磨和清洁体的使用寿命增长。

在优选实施例中，地板研磨和清洁体实现为圆形盘、矩形坯件或出于三角形形式。因此，地板研磨和清洁体可以适应于与其结合使用的每个机器。

还通过用于对结构化地板的基于机器的处理的方法来解决上述问题，该方法包括如下步骤：

a.提供地板清洁机或地板研磨机；

b.提供具有基体的地板研磨和清洁体，基体在第一侧上具有包括突起结构的弹性纹理化表面，地板研磨和清洁体包括处理层，处理层布置在基体的纹理化表面上，其中弹性纹理化表面包括突起结构，其中弹性突起结构的突起设计成能够处理地板的结构化表面的深处区域；

c.将地板研磨和清洁体固定到地板清洁机或地板研磨机；以及

d.利用地板清洁机或地板研磨机来处理结构化地板，其中地板研磨和清洁体的弹性突起结构的突起深入到结构化地板的深处区域中以在该处对深处区域进行处理。

同样地，因为处理层布置在基体的结构化弹性表面上，由地板研磨和清洁体可以到达结构化地板的深处区域，因此可以利用地板处理机队地板的整个表面(特别是还有低至底部的结构的凹入部分)进行研磨或机器清洁。因此，具有结构化表面的地板也可以被彻底清洁和完全研磨，这在之前还只对于地板的高起区域是可行的。

优选地，将地板研磨和清洁体固定到地板清洁机或地板研磨机的步骤包括：仅将地板清洁机或地板研磨机放置在位于地板上的地板研磨和清洁体的顶部的步骤。通过仅将机器放置在地板研磨和清洁体上可以完成将地板研磨和清洁体固定到地板清洁机，因为地板清洁机通常足够重而通过摩擦配合使得地板研磨和清洁体与该地板清洁机一起移动。地板清洁机的可能存在的刚毛盘通过摩擦配合来支持该固定。这里不需要钩环系统。

优选地，借助于地板处理机或手动研磨机使用用于对结构化地板进行基于机器的处理的上述地板研磨和清洁体。

附图说明

在下文中，借助于附图来说明本发明的优选实施例，其中：

图1以透视图示出根据本发明的地板研磨和清洁体；

图2示出图1的根据本发明的地板研磨和清洁体的截面图；

图3示出根据本发明的地板研磨和清洁体的另一实施例的截面图；

图4示出具有植绒的图1的地板研磨和清洁体的截面图；

图5示出具有弹性磨蚀颗粒载体的根据本发明的地板研磨和清洁体的另一实施例的截面图；

图6示出具有包括波纹部分的突起的根据本发明的地板研磨和清洁体的另一实施例的截面图；

图7A至图7E示出根据本发明的地板研磨和清洁体的不同突起形状；

图8示出在处理第一示例性结构化地板期间根据本发明的地板研磨和清洁体的单一突起的截面图；和

图9示出在处理另一示例性结构化地板期间根据本发明的地板研磨和清洁体的单一突起的截面图。

具体实施方式

在下文中，借助于附图来描述本发明的优选实施例。单一实施例的特征可以与其他实施例的特征组合，即使没有明确说明。

图1和图2示出根据第一实施例的地板研磨和清洁体。地板研磨和清洁体1包括基体10，基体10在第一侧12上具有弹性纹理化表面14。在表面14上，布置处理层20，处理层20在使用期间与地板的表面接触并产生实际的清洁和研磨效果。在与基体的第一侧12相反的第二层16上，在本实施例中，固定钩环适配层30。借助于该钩环适配层，地板研磨和清洁体1可以被紧密而可拆卸地固定到研磨或清洁机。

如图2示意性所示，纹理化表面14由大量的弹性突起18组成。这些弹性突起18优选地由与基体10的剩余部分相同的材料组成，并且实现为与基体10的剩余部分形成整体。但是，这些弹性突起18还可以由其他材料制成。优选地，弹性泡沫材料可用作基体10的材料。例如，弹性泡沫材料可以由泡沫状软聚氨酯或泡沫状生橡胶组成。泡沫材料是弹性的，并且分别根据DIN 53577或ISO 3386包括20-60的耐压性。这对应于泡沫材料在40％压缩下的2-6kPa压力。

突起18的形状可以根据使用情况而不同。本领域技术人员将涉及地板研磨和清洁体，以使得突起结构适应于地板的表面结构并且可以实现有效、优化和完全的地板处理。因此，本领域技术人员将根据相应的地板结构来选择突起的形状、突起的基体的弹性、突起彼此的布置、突起彼此的距离和尺寸等。

在图1中，突起在横截面中的形状是波形。图7A-图7E示出其他突起形状，其中，图7A示出具有圆锥体形状的突起18的基体10，图7B示出具有截头圆锥体形状的突起18的基体10，图7C示出具有棱锥体形状的突起18的基体10，图7D示出具有截头棱锥体形状的突起18的基体10，图7E再次示出在横截面中具有波形突起18的基体10。但是，突起18还可以包括其他形状和所示形状和组合形状。对于具有页岩结构的聚合物地板的处理，将有利地选择表现为更尖的突起结构，例如尖头棱锥体结构或圆锥体结构，而对于对于具有锤击结构或圆形突起结构的地板的处理，最好使用包括更为圆形的顶端的突起。如果对于地板研磨和清洁体1需要高去除率，应选择具有平顶端的突起形状，例如，截头圆锥体或截头棱锥体形状。由此，与尖头突起形状相比，涂覆有磨蚀颗粒的突起18与地板的接触面积更大，因此掩模更强烈。

突起18的普遍高度h在从2mm-50mm的范围内，优选为10mm-20mm。另一方面，这种高度提供突起18的必要弹性和柔性，但是该高度选择为使得同时提供突起18的刚性和稳定性，这是清洁和研磨效果所必要的。优选地，如图1所示，突起18在表面14处布置成规则图案，其中突起彼此的距离a优选在从3mm-50mm的范围内。选择的距离a越小，地板研磨和清洁体1的去除率越高。此外，10mm-20mm的距离a被证实为对于具体研磨和清洁任务效果好。

基体10的普遍厚度D在从10mm-60mm的范围内，优选为15mm-30mm，更优选地为20mm-25mm。基体10的厚度D、突起18的高度h以及突起18的距离a经选择，以使得在使用地板研磨和清洁体1期间突起18的压缩在适于将机器朝着地板(或者一般来讲位于工件上)的必要下压的范围内，这一方面允许有充分高的材料去除，另一方面还允许充分深入到表面结构的深处区域中。测试表明30％-70％的突起压缩向结构化聚合物地板提供充分的研磨和清洁结果。因此，地板研磨和清洁体1的纹理化表面14可以使得其自身适应于地板的结构，以使得研磨压力在整个研磨表面上近似相等，整个研磨表面意味着考虑到表面结构的高起部分、凹入部分和过渡部分。

钩环适配层30可以由利用适当的粘结剂被胶结到基体10的第二侧16的钩环绒面织物或钩环绒头织物制成。地板研磨和清洁体1可以经由钩环适配层30而固定到研磨盘或研磨工具支承物。

在图1所示的实施例中，处理层20由尖锐边缘磨蚀颗粒22组成，磨蚀颗粒22嵌入在覆盖突起18的树脂或其他足够的粘结剂中。这些磨蚀颗粒22例如由砂岩、浮石、石英、刚玉、碳化硅、金刚石或类似的硬质材料组成。根据本发明的地板研磨和清洁体1的研磨和清洁效果可以由磨蚀颗粒的尺寸改变。对于来自聚合物地板的旧PU涂层的研磨，使用颗粒尺寸K120-K150的相应粗糙磨蚀颗粒22，对于几乎没有脚印并且强烈地被过度维护的聚合物地板的清洁，使用具有K180-K400颗粒尺寸的相对细磨蚀颗粒22或者甚至更细的颗粒。对于由天然石制成的地板(例如，由大理石制成的地板)，金刚石被证实可作为有利的覆盖工具。

当地板将仅被清洁或抛光时，根据本发明的地板研磨和清洁体1在纹理化和相应突起的表面12上还可以具有不带磨蚀颗粒的涂层24。该涂层24例如可以是不带磨蚀颗粒的树脂涂层。可以以开放式泡体方式或以绒头织物状方式实现该涂层24。还可以例如利用聚酯或聚酰胺纤维对表面12进行植绒，以对地板进行清洁或抛光。利用由三聚氰胺树脂泡沫制成的开放式泡体颗粒进行的植绒还可改进地板研磨和清洁体的清洁效果。从而，突起还到达地板的精细结构的底部。采用这些涂层，还可以非常好地从地板的深入部分分别去除强烈粘附的污物和旧蜡层，而不影响地板的表面。

如图5所示，还可以利用适合的磨蚀颗粒载体26来涂覆基体10的纹理化表面14，转而利用磨蚀颗粒22来涂覆磨蚀颗粒载体26。本实施例特别用于强烈清洁或研磨任务，对于该任务需要相对粗糙的磨蚀颗粒22。粗糙磨蚀颗粒22可以更好地固定到磨蚀颗粒载体26，而不是固定到基体10本身。此外，磨蚀颗粒载体26提供在研磨表面处具有更好稳定性的地板研磨和清洁体1。优选地，纤维绒头织物被用作磨蚀颗粒载体26。

图6示出地板研磨和清洁体1，其中基体10由弹性聚合物材料组成。这里，例如通过具有弹性波纹部分19的空心吹塑成型的聚合物材料来实现突起18。如上所述，这些突起18可以涂覆有不同的处理层20、有或没有磨蚀颗粒22、植绒24以及分别有和没有磨蚀颗粒载体26。对于这种地板研磨和清洁体1，考虑到弹性、形状和在待处理地板的表面结构上的布置，单一突起18可以是最适合的。此外，这里确保在地板的全部表面区域上的恒定研磨压力。

此外，基体10和处理层20还可以由弹性橡胶状材料组成。基体10的橡胶状材料可以不同于处理层20的材料。但是两个层也可以由相同的橡胶状材料制成。优选的材料是橡胶状聚氨酯。具体地，处理层20自身或者处理层20与基体10可以完全由磨蚀颗粒22点缀。因此，磨蚀颗粒22是“以橡胶限界的”，这意味着被直接插入和嵌入在橡胶状弹性材料中，以致于可以省略涂覆处理。

应当注意，根据本发明的地板研磨和清洁体1当然也以同样的方式适合于对结构化平坦聚合物、生橡胶和木地板的处理，特别是毛地板、大理石和细石地板。地板研磨和清洁体1的其他应用是例如在飞机制造中对不平整的结构化表面的研磨。

图3示出根据本发明的地板研磨和清洁体1的另一实施例。在此实施例中，第二侧16不具有钩环适配层30。本实施例因此特别适合于包括一个或多个旋转盘的地板处理机。因此，地板处理机(特别是地板清洁机)可以简单地放置在位于地板上的地板研磨和清洁体1的顶部上，以使得地板研磨和清洁体1通过相应旋转盘的摩擦配合而一起移动。为了改进摩擦，旋转盘可以设置成在其底部侧具有刚毛，刚毛侵入到基体10的第二侧16中。在这种情况下不需要经由钩环系统的固定。

根据本发明的地板研磨和清洁体1特别适合于与这种地板处理机一起使用，但是地板研磨和清洁体1还可以与其他研磨机(例如手工研磨机)一起使用。在每种情况下，地板研磨和清洁体1的外形适合于研磨机的特定工件支架的形状。通常的形状是圆形、矩形或所谓的三角形形式。位于单盘地板处理机一起使用，地板研磨和清洁体1包括圆形形状以及与机器相对应的370mm-500mm的直径。

图8和图9的截面图示出在处理地板2期间地板研磨和清洁体1的突起18的物理过程。因此，图8示出可能处于页岩或木质表面形式的具有非稳定的结构化表面3的地板2。结构化表面的结构的高度h_s取决于结构，例如在0.5-3.0mm范围内。结构化表面3包括凹入部分4、凸起部分5和过渡部分6。

如图8所示，突起18、18′、18″的顶端19、19′、19″总是接触地板2的表面3，而突起18实际上经过凸起部分5，突起18′同时处理过渡部分6，突起18″接触凹入部分4的底部。基体10的弹性和突起形状使得突起18、18′、18″的顶端17、17′、17″自身能够适应具体表面结构并借助于处理层20来完全处理表面3。这里，顶端17、17′、17″以某种乘坐过山车形式沿着结构化表面3的轮廓移动。一般地，普通平台研磨或清洁体将与此相反，即使这些普通平台研磨或清洁体是以弹性方式实现的，也不能到达凹入部分4的底部并因此仅可以处理凸起部分5的顶部。

图9示出地板2，其中凸起部分5表现为圆形突起，而凹入部分是圆形突起之间的平坦区域，过渡部分6一般地是圆形突起的圆锥形状表面。圆形突起的高度h_R例如在0.5-2.0mm的范围内。如图所示，突起18的顶端17实际上相对于圆形突起5处理过渡部分6，其中同时，突起18′的顶端17′处理凹入部分4的底部，突起18″的顶端17″处理圆形突起5的上平坦部分。在地板研磨和清洁体1相对于结构化地板2相对移动期间，突起18、18′、18″在以过山车方式经过表面3时被不同程度地强烈压缩并且使处理层20总是与结构化表面3接触，以使得不仅凸起部分5的顶部还有凹入部分4可以被处理直到它们的底部以及过渡部分6。

附图标记列表

Claims (21)

1.一种地板研磨和清洁体(1)，其用于对结构化地板(2)的基于机器的处理并且包括：

a.基体(10)，其在第一侧(12)上具有弹性纹理化表面(14)；

b.处理层(20)，其布置在所述基体(10)的所述纹理化表面(14)上；和

c.钩环适配层(30)，其布置在所述基体(10)的与所述第一侧(12)相反的第二侧(16)上；其中

d.所述纹理化表面(14)包括弹性突起结构，其中，所述弹性突起结构的突起(18)设计成能够处理地板(2)的结构化表面(3)的深处区域(4)。

2.根据权利要求1所述的地板研磨和清洁体，其中，所述处理层(20)包括嵌入在树脂中的磨蚀颗粒(22)。

3.根据权利要求1所述的地板研磨和清洁体，其中，所述处理层(20)包括不具有磨蚀颗粒的树脂涂层(24)。

4.根据权利要求1或3所述的地板研磨和清洁体，其中，所述处理层(20)进行植绒，特别是利用人造或天然纤维(24)进行植绒，或者其中，所述处理层(20)利用由三聚氰胺树脂泡沫制成的颗粒进行植绒。

5.根据权利要求1所述的地板研磨和清洁体，其中，所述基体(10)和所述处理层(20)由至少一种弹性橡胶状材料组成，其中，所述处理层(20)和所述基体(10)由磨蚀颗粒进行点缀。

6.一种地板研磨和清洁体(1)，其用于对结构化地板(2)的基于机器的处理并且包括：

a.基体(10)，其在第一侧(12)上具有弹性纹理化表面(14)；

b.处理层(20)，其布置在所述基体(10)的所述纹理化表面(14)上；和

c.所述处理层(20)包括嵌入在树脂中的磨蚀颗粒(22)，其中

d.所述纹理化表面(14)包括弹性突起结构，其中，所述弹性突起结构的突起(18)设计成能够处理地板(2)的结构化表面(3)的深处区域(4)。

7.根据权利要求1至6中任一者所述的地板研磨和清洁体，其中，所述突起(18)包括棱锥体形状、接头棱锥体形状、圆锥体形状、接头圆锥体形状或在截面中是波形。

8.根据权利要求1至7中任一者所述的地板研磨和清洁体，其中，所述突起(18)包括2mm-50mm的高度(h)，优选为10mm-20mm。

9.根据权利要求1至8中任一者所述的地板研磨和清洁体，其中，所述突起(18)包括彼此之间3mm-50mm的距离(a)，优选为10mm-20mm。

10.根据权利要求1至9中任一者所述的地板研磨和清洁体，其中，所述突起(18)适应于待处理的所述地板(2)的结构化表面(3)。

11.根据权利要求1至4和6至10中任一者所述的地板研磨和清洁体，其中，所述基体(10)由弹性泡沫材料组成。

12.根据权利要求11所述的地板研磨和清洁体，其中，所述泡沫材料包括根据DIN 53577和ISO 3386分别20至60的耐压性。

13.根据权利要求1至12中任一者所述的地板研磨和清洁体，其中，所述基体(10)包括10mm-60mm的厚度，优选为15mm-30mm，更优选为20mm-25mm。

14.根据权利要求1至4、6至10和13中任一者所述的地板研磨和清洁体，其中，所述基体(10)由弹性聚合物材料组成。

15.根据权利要求14所述的地板研磨和清洁体，包括具有弹性波纹部分(19)的突起(18)。

16.根据权利要求1至15中任一者所述的地板研磨和清洁体，其中，钩环适配层(30)包括钩环绒面织物层。

17.根据权利要求1至16中任一者所述的地板研磨和清洁体，其中，所述处理层(20)包括弹性磨蚀颗粒载体(26)，特别是纤维绒头织物，所述弹性磨蚀颗粒载体(26)覆盖所述突起(18)并且涂覆有磨蚀颗粒(22)。

18.根据权利要求1至17中任一者所述的地板研磨和清洁体，其中，所述地板研磨和清洁体实现为圆形盘、矩形坯件或出于三角形形式。

19.一种用于对结构化地板的基于机器的处理的方法，其包括下列步骤：

a.提供地板清洁机或地板研磨机；

b.提供具有基体(10)的地板研磨和清洁体(1)，所述基体(10)在第一侧(12)上具有包括突起结构的弹性纹理化表面(14)，所述地板研磨和清洁体(1)包括处理层(20)，所述处理层(20)布置在所述基体(10)的所述纹理化表面(14)上，其中，所述纹理化表面(14)包括突起结构，其中，所述弹性突起结构的突起(18)设计成能够处理地板(2)的结构化表面(3)的深处区域(4)；

c.将所述地板研磨和清洁体(1)固定到所述地板清洁机或所述地板研磨机；以及

d.利用所述地板清洁机或所述地板研磨机来处理所述结构化地板，其中，所述地板研磨和清洁体(1)的所述弹性突起结构(14)的所述突起(18)深入到所述结构化地板(2)的深处区域(4)中以在该处对所述深处区域进行处理。

20.根据权利要求19所述的方法，其中，将所述地板研磨和清洁体(1)固定到所述地板清洁机或所述地板研磨机的步骤包括：仅将所述地板清洁机或所述地板研磨机放置在位于地板上的所述地板研磨和清洁体(1)的顶部的步骤。

21.一种借助于地板处理机或手工研磨机使用根据权利要求1至18中任一者所述的地板研磨和清洁体(1)以进行对结构化地板的基于机器的处理的方法。

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