CN102837528B - 多色移装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种具有法布里－珀罗结构的色移防伪装置，其中电介质层被设置在反射器和吸收层之间。吸收器层和反射器层可以是适形的，并且它们之间的电介质层是非适形的，该电介质层填充相邻于吸收层或反射层的微结构内的区域，吸收层或反射层中的至少一个之内或之上具有微结构。通过使电介质层与其邻近的微结构不相适形，电介质层的截面的厚度在变化，从而可以在厚度不同的地方看见不同颜色。

Description

多色移装置

技术领域

本发明一般涉及薄膜色移装置，更特别地，涉及一种具有非适形（non-conforming）电介质隔离层的多层色移装置，该隔离层具有变化的厚度。

背景技术

防伪装置被越来越多地用于保护货币和其它有价值的证件（诸如护照、驾驶执照、绿卡、身份证等）。这些防伪装置同样用于诸如药品、化妆品、香烟、酒类、电子媒体、服装、玩具以及汽车和飞机的备件的商品的防伪。实际上，据估计，伪造品目前占世界贸易的5%到7%。附着在这些物品上的全息图已经是阻止伪造的传统方法。

色移颜料和着色剂已经被用在各种应用中，范围包括从汽车涂料到用于防伪文件和货币的防伪油墨。这些颜料和着色剂显具有根据入射角的变化或随着观察者视角的变化而改变颜色的特性。用于实现这种色移着色剂的基本方法是在诸如涂料或油墨的介质中扩散通常由具有特殊光学特性的多层薄膜组成的小薄片，然后将所述介质施加到物体表面。

美国专利US6,761,959公开了一种其上具有Chromagram^TM商标的防伪物品，该专利由菲利普等人转让给JDS尤尼弗思公司，在此通过参考将其并入本申请。该Chromagram^TM防伪物品给观察者提供色移和全息双重效应。在‘959专利中，将色移多层膜涂敷在印有全息光栅或图案的有机基底上。

美国专利US7,630,109公开了一种示出图案的更复杂类型的Chromagram^TM防伪物品，该专利由菲利普等人转让给JDS尤尼弗思公司，在此通过参考将其并入本申请。在一些区域，示出全息效应，而在其它区域只能看见色移效应。在菲利普的‘109专利中，公开了一种多层薄膜滤光器，起到隔离层作用的有机电介质层位于法布里-珀罗结构中。该电介质层具有厚度变化的浮雕区域，其中该区域内的厚度是基本上均匀的。不同厚度的每个不同区域产生不同色移。被压印（embossed）的相邻区域中的一个区域的尺寸是使得所述一个区域的颜色是相同的，并且不能被人眼看成是与其相邻区域的均匀颜色不同的颜色，并且其中该区域内的颜色在放大至少10：1的情况下才可以被看见。菲利普教导了一种法布里－珀罗装置，通过将电介质材料压印成不同厚度而使该装置具有厚度变化的电介质层。由于如‘109专利的图1所示的区域a、b、c中的电介质被有目的地压印成不同厚度，在碰撞反射器之后被反射回观察者的光将呈现三个明显不同的颜色。然而，由于区域a、b、c的小尺寸，眼睛将趋于看成一体，并且如果能够看见包括由（a）到（d）限定的像素或区域，将只能察觉到单一颜色。通过充分放大，可以看到不同的单个区域（a）、（b）和（c）并且可以察觉到不同的颜色。

另一件是Holmes等人的美国专利US 7,054,042，其公开了具有色移涂层的衍射光栅，但偏离菲利普等人的教导，在此通过参考将其并入本申请。美国专利'042表现出偏离菲利普教导的原因在于其教导了使用一种退耦层将衍射光栅效应和色移效应分开。Holmes建议在浮雕结构和薄膜反射滤光器之间放置退耦层，该退耦层被描述为薄膜反射滤光器。

在上述所有防伪结构中，都建议涂层的惯常应用，例如，通过真空沉积以产生适形层（conforming layer）。现有技术中，首先教导压印（stamp）基底，并且随后涂敷所需涂层，以产生反射和色移涂层的期望图案。

发明内容

本发明通过在其上具有结构的基底上使用适形涂层和非适形涂层来偏离现有技术。在优选实施例中，在基底层上压印或形成的结构相当小，为了它们的效应可见，放大是必需的，然而在其它较不优选的实施例中，所述结构可以足够大，以致当涂敷时不用放大也能够看到上述效应。作为例子，标识和其它可读可识别标记被设置在这些基底上，并且通过提供与特定区域形成对照的薄膜涂层而变得显著。

本发明提供一种涂敷在基底上的薄膜结构，其中电介质隔离层具有变化的厚度。具有变化的厚度的电介质层的供应不仅已经在菲利普的7,630,109专利中公开，而且更早地已经在通过参考结合于此的以Shaw等人名义于1999年3月2日授权的美国专利US 5,877,895中公开，Shaw等人公开了通过变化地施加热以产生厚度变化的电介质层。

与现有技术中利用压印基底作为隔离层（其中所述隔离层被涂敷在具有反射器一侧和具有吸收层的另一侧上）的技术相比，本发明的实施例利用涂敷在微结构基底的相同侧上的非适形电介质层作为反射层和吸收层。因此，法布里-珀罗结构由基底支撑。这提供几个优点。一个优点是如果涂敷有释放层，涂层能够从基底移除。此外，如果仔细地从基底移除涂层，这种被移除的涂层能够被制成呈一定形状的薄片。

本发明的法布里－珀罗结构提供彼此相邻的不同色移区域，优选地，彼此之间的颜色差异△E值至少为10。

本发明的一个方面是提供一种装置，其通过放大可见，表现出不同色移区域，其中由于具有厚度变化的电介质隔离层，相邻色移区域提供两个明显不同的颜色之间的色移。

本发明的一个方面是提供一种基底，该基底具有横跨其表面的浮雕结构，使得其横截面具有变化的厚度，并且为了反映该变化的厚度，本发明通过施加利用电介质材料的非适形层来填充凹陷处、谷和槽，从而提供具有隔离层的法布里－珀罗结构，该隔离层提供与基底厚度相对应的色移差。

本发明的一个方面是提供至少一个适形层和非适形层，以制造法布里－珀罗色移滤光器，并且其中支撑法布里－珀罗滤光器的基底被以预定图案有目的地压印，从而提供将在滤光器内形成色移标记的编码。

本发明的再一个方面是提供一种薄片，该薄片具有非适形电介质层和至少一个适形层，以及另一适形或非适形层，其中该薄片是色移装置。根据本发明，提供一种色移防伪装置，包括：具有微结构表面的第一吸收或反射层；第二吸收或反射层；以及设置在所述第一吸收或反射层和所述第二吸收或反射层之间的非适形电介质层，所述非适形电介质层具有与所述微结构表面接触和互补的表面，其中所述第一吸收或反射层和第二吸收或反射层中的至少一个是吸收层，并且其中所述非适形电介质层的横截面具有变化的厚度，使得所述非适形电介质层的至少一个区域基本上比所述非适形电介质层的较薄的相邻区域更厚，并且其中在光入射到所述色移防伪装置上时，从相同位置穿过该个区域和该个区域的相邻区域同时观察所述色移防伪装置，能看见可见的色差。

在本发明的优选实施例中，所述第一吸收或反射层，或者第二吸收或反射层，具有基本相同的厚度，其变化不超过20％，和或所述非适形电介质层的横截面的厚度差超过可见光波长的1/8，并且小于可见光波长的2倍（8quarter）。

在一个特定实施例中，对应于特定微结构的装置的区域形成通过放大能够被看见的可见标记，并且其中一些微结构的高度或深度至少为50nm。

根据本发明，提供一种防伪装置，包括：法布里－珀罗腔，所述法布里－珀罗腔包括：具有微结构化的上表面的第一层，第二层，以及设置在所述第一层的微结构化的上表面和第二层的微结构化的上表面之间的具有上表面和下表面的沉积的非适形电介质层，其中所述非适形电介质层的下表面与所述第一层的微结构化的上表面适形，并且所述非适形电介质层的上表面与所述第一层的微结构化的表面不适形，其中所述非适形电介质层的横截面具有变化的厚度，使得至少一个区域基本上比该区域的相邻区域更厚，并且所述第一层和第二层是吸收层，或者所述第一层和第二层中的一个是反射层而另一个是吸收层。

根据本发明，提供一种色移防伪装置，其从相同观察位置表现出两种不同颜色，包括一个或多个形成微结构的沉积层，其中至少一层是反射或吸收层，将非适形电介质材料填充到微结构内的凹槽中，以在该微结构的连续区域上形成平坦表面；该防伪装置还包括吸收或反射的覆盖层，所述覆盖层覆盖至少一部分所述连续区域，其中所述一个或多个沉积层或所述覆盖层是吸收层。

根据本发明的另一方面，提供一种制造防伪装置的方法，所述方法包括：提供微结构化的基底；利用与所述微结构化的基底适形的第一反射或吸收涂层涂敷所述微结构化的基底；利用非适形电介质整平涂层（non-conforming dielectric leveling coating）涂敷所述反射或吸收涂层，所述非适形电介质整平涂层至少部分地填充微结构化的涂层内的空隙；以及利用第二吸收涂层或反射涂层涂敷所述非适形电介质整平涂层，其中第一涂层和第二涂层中的一个是吸收涂层。

在特定实施例中，上述色移结构是薄片。

附图说明

下面将参考附图描述本发明的示例性实施例，其中：

图1是现有技术中的三层法布里－珀罗腔的横截面图。

图2a是现有技术中的基底的横截面图，该基底具有如同从基底表面延伸的直立壁和直立标识的浮雕形式的框架。

图2b是图2a的现有技术中的基底结构的等轴测视图。

图2c是图2b的现有技术中的基底结构的平面图。

图3a是具有凹槽框架和凹槽标识的现有技术中的基底的横截面图。

图3b是图3a的现有技术中的基底结构的等轴测视图。

图3c是图3b的现有技术中的基底结构的平面图。

图4a是现有技术中的基底的横截面图，该基底具有凹槽框架和横跨其表面的凹槽光栅。

图4b是图4a的现有技术中的基底结构的等轴测视图。

图4c是图4b所示的现有技术中的基底结构的平面图。

图4d是基底的横截面图，该基底具有峰和谷的正方形阵列。

图4e是图4d的现有技术中的基底结构的等轴测视图。

图4f是图4d的现有技术中的基底结构的平面图。

图5a是现有技术中的微结构化的箔的横截面图，其中符号具有相同深度，而且涂层具有均匀厚度。

图5b是现有技术中的微结构化的箔的横截面图，其中符号具有相同深度，而且涂层具有非均匀厚度。

图6是现有技术中的微结构化的基底，其内具有凹槽，凹槽涂敷有形成法布里－珀罗色移涂层的三层适形的层。

图7是微结构化的基底结构的横截面图，该基底结构具有适形的反射层、非适形的电介质层、和吸收层，它们一起形成根据本发明的法布里－珀罗结构，其中由于非适形电介质层的厚度差异而具有两个不同的交替的色移区域。

图8是微结构化的基底结构的横截面图，该基底结构具有适形的反射层、非适形的电介质层、和吸收层，它们一起形成根据本发明的法布里－珀罗结构，其中由于非适形电介质层的厚度差异而具有三个不同的交替的色移区域。

图9是根据本发明实施例的横截面图，其中以微结构化的箔的形式的法布里－珀罗结构具有与非适形电介质层相邻的适形电介质层。

图10是根据本发明实施例的横截面图，其中利用适形和非适形的电介质层，并且两个电介质层的上表面位于相同的高度，使得在它们之上沉积的吸收层是平坦的。

图11是微结构化的基底的横截面图，所述基底具有释放涂层，用于形成根据本发明的薄片。

图12是根据本发明的用于形成成形薄片的涂层的横截面图，其中利用适形和非适形层，并且反射层是中间层，使得从任一侧观察时薄片产生色移。

图13是可替代实施例的横截面图，其中不需要反射层，而且用附加的吸收层来替代反射层，从两侧都可以看到色移。

具体实施方式

本发明涉及在微结构化的表面上施用薄非适形电介质层，来制造具有不同色移微区域的装置。当电介质层的厚度在不同区域变化时，通过薄膜干涉获得不同颜色。不同色移指的是不同颜色范围；例如，由于该装置的不同区域内的隔离层的厚度变化，一个区域可能从橙色变成褐色，而另一区域可能从金色变成绿色。

当气相物种（species）凝结成固体时，获得适形的沉积层。当通过标准真空物理气相沉积，溅射和蒸发，或通过化学气相沉积的手段来沉积氧化物、氮化物、碳化物、氟化物及这些化合物的组合等时，这是大多数金属和它们的化合物的情况。

一旦气相中的物种凝结于基底上时，可移动原子、原子团或分子形式的凝结物种没有足够的活动性。因此，凝结物种依照基底的原始粗糙程度被固定在基底的表面上。

相反，非适形层起到类似于静止于表面上的水层的作用，填充表面任何粗糙，以产生不依赖于表面粗糙程度的平面。当使水凝固时，例如通过将水在最佳条件冰冻，其中最佳条件冰冻指在冰冻处理期间该层不被扰动，固体层将呈现原始水液体层的平滑。水将填充任何空隙，并产生平坦的上表面。

虽然水的例证性实施例允许人们能够想像出非适形层的行为，其它材料，特别是一些所选的展现类似行为的单体，它们在液态时具有平滑或平坦特性，并且能够通过紫外（UV）或电子辐射的后续聚合阶段被固化。所选择的具有诸如合适的折射率等优选特性的光可透射的单体能够用作法布里－珀罗滤光器中的隔离层。

为了沉积这些单体，将它们在容器内加热以便产生蒸汽。当蒸汽在附近接触冷却器表面时，其凝结在冷却器表面上。因此，当气相单体开始接触冷却的基底从而气相凝结形成液体层时，获得非适形层。根据本发明，基底支撑的液体层被随后固化，从而将液态单体聚合成固体层。

在单体于真空腔内膨胀之前，通过将其在具有孔或喷嘴的蓄水池内加热，能够将单体蒸发，其中所述孔或喷嘴被用来构建单体蒸汽所需的压力。如果单体的蒸汽压力不够高，而不足以产生指向基底的气流，可以则将惰性气体引入液态单体。在可替换实施例中，液态单体可以被直接喷射进入热蓄水池以便被瞬间蒸发，从而实现快速蒸发。必须注意以确保蓄水池的温度足够低，以避免单体退化或发生单体热聚合。

虽然蒸发是沉积电介质单体的优选方法，然而，也可以考虑印刷、涂抹、挤出、旋转甩离（spin-off）或使用刮除刀片等方法；但是，通常这些技术趋向于形成太厚的层，因而产生对可见光波长的干涉。可以使用各种单体和/或低聚体做为本发明的非适形层。作为例子，可以利用任何下述材料形成非适形层：环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、胺改性聚醚丙烯酸酯、丙烯酸丙烯酸酯和各种丙烯酸酯的聚物。

本发明提供一种在微结构化的基底上制造一个或多个薄膜法布里－珀罗干涉装置的方法，当用可见光照射并且入射角度或观察角度改变时，该微结构化的基底呈现颜色变化。

现在参照图1，其示出现有技术中的三层法布里－珀罗腔。基底100具有沉积于其上的由诸如铝的高反射材料形成的适形层101a。沉积在铝层101a上的是电介质适形层102a。随后，适形吸收层103a沉积在电介质层102a上。利用常规真空涂敷技术在基底上产生薄膜光学可变滤光器，其中每层具有基本均匀的厚度。注意，由于基底的表面是平坦的，因此不管沉积的是适形层还是非适形层，每层厚度都是均匀的，从而施加到如图1中的平坦表面时提供相同的光学效应。然而，当基底具有微结构化的表面时，适形层或非适形层获得的光学效应将是不同的。非适形层将填充空隙，而适形层在这些空隙处仅仅是适应微结构化的表面因而适形层的厚度基本均匀。

操作中，法布里－珀罗滤光器起到变色元件的功能；当光在腔上的入射角在光源和观察者之间改变时，颜色随着穿过电介质层的路径长度而做函数变化，所述路径长度随着角度改变而变化。

现在参照图2a所示的基底的横截面，其中示出从基底向上指的微结构201，并且其中向上结构的高度是相同的。图2b示出了三维透视等轴测视图，而图2c示出的是俯视图。

图3a到3c示出一实施例，其中基底300内的微结构的形式是在基底内具有变化的深度的凹槽301。

图4a到4c示出基底400，其中第一深度的凹槽401所形成的光栅被基底内的较深的框架凹槽402包围。

图5a和5b示出涂敷有涂层材料的基底的横截面，其中，层通过如蒸发和溅射的常规真空涂敷工艺进行原子生长（grown atom by atom）。层依照基底表面的原始微结构与基底适形。例如，如果涂敷3层（R/D/A，反射层/电介层/吸收层），在基底的任何地方将看见由薄膜干涉产生的相同颜色，因为电介质厚度是恒定的，如图6所示。

现在参照图6，其中的现有技术的基底600具有不同深度的压印凹槽612和614，图6示出涂敷在基底600上的第一均匀厚度的反射层601，第二均匀厚度的电介质层602，以及第三均匀厚度的吸收层603，其中上述层都是适形层。

图7示出了本发明的第一实施例，其中利用如图6所示的相同基底，然而，图7中的一个涂敷层是非适形层，图7中的实施例提供与图6中的装置具有不同功能的装置。现在转到图7，所示基底700具有直接涂敷于其上的均匀厚度的适形反射层701。反射层之上是电介质材料的非适形层，该非适形层填充涂敷于基底上的反射器内的凹槽，并具有上部基本平坦的层。结果，如图所示，电介质层702的横截面具有变化的厚度。当电介质层被涂敷于基底700上时，由于微结构化的基底700内的两种不同深度，将产生两种不同厚度。两种不同深度的电介质隔离层提供两种不同的色移区域，其中颜色从不同的第一颜色改变成不同厚度区域内的不同的第二颜色。为了在两个不同厚度区域内看见可察觉的颜色差异，需要隔离层或电介质层中具有厚度差异。如图7中可以看到的，隔离层内的厚度差远大于相邻两层703和701的厚度之和。如图所示，具有基本均匀厚度的吸收层703位于电介质层702上。吸收层703可以是适形层或非适形层，因为其是施加于平坦表面上的平坦层。然而，优选地，典型的常规色移滤光器中使用适形吸收器层。通过提供具有选择性选择的深度的微结构或提供直立特征形式的突出体，可选择性地控制电介质层的厚度，因为电介质层实质上填充的空隙导致了其厚度的变化。在图7中，色移区域706具有颜色的第一色移范围，而色移区域708具有颜色的第二色移范围。根据所选择的金属，吸收层的厚度范围一般是20埃到150埃。优选地，反射层的反射率至少为20％，以提供该装置的合适的视觉效应，并且电介质隔离层可以变化达800nm。

当非适形或适形电介质被施加到如图1中所示的单一水平面的微结构表面时，随着入射角度的增加，对应于平坦电介质层的不同厚度的薄膜干涉将产生两个不同颜色。注意，所施加的反射层和吸收层是适形层。由于电介质聚合层趋于具有1.5至1.7之间的折射率，当照明角度增加时，薄膜干涉将产生颜色，该颜色从高波长向低波长变化。

有利地，为了剥落多层膜以制造微型的多色移微结构化的颜料薄片的目的，可以在基底和沉积层之间施加释放层。该释放层还可以用来将该多层膜转移到另一物体。如果装置打算制造细丝、纱线或者箔，则可能不需要使用释放层。这种薄片最长的长度通常小于或等于100mm。图中示出的两种电介质厚度的差异是被夸大的。该微结构化的特征的宽高比一般是1－5μm的线宽对应100－500nm的深度。

基底内的微结构可以表现符号、标识、光栅、框架、峰/谷等等，如图2a－3c所示。有利地，色移涂层提供一种方法，其中诸如标识等的这些特征可以被加强。

现在转到示出本发明的第二实施例的图8，其中基底800内的凹槽808和809有两种不同深度。当非适形电介质层802被沉积在适形反射层801上，并将吸收层803施加于非适形电介质层802上时，产生具有三个明显色移范围的法布里－珀罗色移滤光器。非适形层提供平坦光滑效应，其上沉积与该平坦层适形的层803。随着微结构内不同的水平面或深度的数目的增加，色移范围的数目相应增加。

图9示出本发明的实施例，其中微结构基底900涂敷有适形反射器层901，并且在同一装置内分别使用彼此相邻的适形介电质层902a和非适形介电质层902b。平坦吸收层903被涂敷于非适形电介质层902b上。这种平坦层903可以是适形或非适形层，因为其是被施加于平坦表面的。在这种装置中，由于结合的电介质层具有三个厚度，可以看见三个不同的颜色范围。如上所述，通常非适形聚合电介质层具有比标准的无机氧化物层低的折射率。通过利用审慎选择的高折射率无机电介质和低折射率聚合物电介质的结合，能够获得对色移特性的进一步控制。图9例示了微结构化的箔。

现在转到以图10的横截面图示出的装置，所示的微结构化的基底1000被涂敷有反射层1001，该反射层1001上涂敷有适形的第一电介质层1002a。第二非适形聚合层1002b以间断的（discontinuous）形式涂覆，并且仅填充在被涂敷的基底1001内的沟或凹槽中，形成电解质材料的不同厚度的区域之间的间隙。所述间隙由来自第一电介质层1002a的第一电介质层材料的存在所限定，其形成了所述非适形层1002b的不同区域之间的间隔。吸收层1003作为顶层涂敷，和其它涂敷的层一起形成色移滤光器。实际上，这可以通过除去图9中的聚合电介质的顶部来实现，例如，在吸收层的沉积之前，通过真空下的离子轰击，直到达到合适的无机氧化物层的水平面。

图11所示的是此前描述的本发明的可选实施例。在这种情况下，所示的基底1100具有突出或直立结构。这一实施例导致其本身比前述结构更倾向于施加释放层。如果施加释放层，首先在沉积反射层1101之前施加，使得反射层和随后的沉积层能够一起从基底释放。有机非适形电介质层1102被沉积到比将被用作截止点的较高区域更低的水平面，以制造成形的薄片。只有对应于反射器1101和吸收器1103的薄层将位于这些区域的顶部。在将多层膜从基底分离并形成成形的薄片之后，当从不同侧观察时，这些薄片将具有不同特性。当从具有反射层一侧观察时，薄片将具有简单的反射性。然而，在相对侧，利用放大，观察者可以看见标识或标记，这些标识或标记具有由不同颜色的背景包围的色移。从反射侧观察，标识可能是可辨别的，然而，其颜色将对应于反射层的颜色。

在可替换实施例中，如果不施加吸收层，较高区域的顶部具有由电介质层包围的暴露的薄金属层。在这种情况下，顶部区域可以用作种子点以优先生长其它层，例如人们可以利用暴露的金属层作为电极来进行电镀。这种装置能够用于其它应用，例如用于需要微暴露金属层的传感器。

图12所示的实施例与图11所示的实施例类似，然而，其是利用层A/D/R/D/A（吸收层/电介层/反射层/电介层/吸收层）的五层结构形成多层法布里－珀罗滤光器。因为所示的反射层1201是中间层，所以当其从基底1200释放之后，能够从这种薄片的两侧看见色移。基底之上是释放层（未示出）和第一吸收层1203a。第一吸收层之上是第一非适形电介质层1202a。所示的反射层1201被沉积于第一电介质层1202a之上。第二非适形电介质层1202b沉积于反射层1201之上，而适形的第二吸收层1203b被沉积于第二非适形电介质层1202b之上。在释放多层膜之后，当沿着割裂线分割时，成形的薄片将在第1侧显现对应于吸收层/反射层的具有非色移颜色的标记2，和对应于来自被另一个色移背景（CS3）所包围的多层（吸收层/电介质/反射层）的色移（CS4）的标记1。

当在与第1侧相对的第2侧观察时，薄片将示出具有不同颜色（CS1）背景的色移（CS2）标记2。由于不透明反射层的存在，将不能看到标记1。由于这些薄片小并且在肉眼能看见的分辨率之下，因此需要放大来看到这些上述特征。

在用于产生薄膜干涉的光学设计中，图13所示的实施例不同于图11所示的实施例。在图13中，所示的微结构化的基底1300具有取代反射层的第一适形吸收器层1301。非适形电介质层1302被涂敷于层1301之上，而适形的第二吸收器层1303被涂敷在电介质层之上。通过该三层吸收层/电介质/吸收层设计获得了薄膜干涉。这种光学设计是半透明的。如果将具有前述实施例中所示的具有单一高度的标识的特征涂敷在基底上，成形的薄片将在两侧示出与它们的背景具有不同颜色的标记。如果标记在横截面具有多于一个的高度，那么标识的不同区域将显示不同颜色。

在所有的情况下，电介质层厚度的变化远大于与电介质层相邻的两层中的每一层的厚度。

通过在法布里－珀罗结构中沉积非适形电介质隔离层，本发明能够制造滤光器，该滤光器具有厚度变化的隔离层，并且所述厚度能够被精确控制。因此，不管是连续的单层还是分段的单层，都能在横跨滤光器的不同区域提供与隔离层厚度具有函数关系的不同的色移。可以制造薄片和箔。典型地，非适形电介质层被涂敷于适形层之上，并被适形层覆盖，然而，电介质层也能够被涂敷于非适形层之上，或者可以被非适形层所覆盖。

Claims (11)

1.一种色移防伪装置，包括：

具有微结构化的表面的第一吸收层；

第一反射层；其中所述第一吸收层和所述第一反射层是适形沉积层；

支撑所述第一吸收层的基底，其中所述基底具有微结构，所述微结构对应于所述第一吸收层的微结构化的上表面；和

第一非适形聚合物电介质层，所述第一非适形聚合物电介质层被设置在所述第一吸收层和所述第一反射层之间，具有与所述微结构化的表面接触和互补的表面，并且其中所述第一非适形聚合物电介质层的横截面具有变化的厚度，使得所述第一非适形聚合物电介质层的至少一个区域比所述第一非适形聚合物电介质层的较薄的相邻区域更厚，并且其中在光入射到所述色移防伪装置上时，从相同位置穿过该区域和该区域的相邻区域同时观察所述色移防伪装置，能看见可见的色差；

其中所述装置还包括与所述第一反射层接触的第二非适形聚合物电介质层，在所述第二非适形聚合物电介质层之上具有第二吸收层，从而形成两侧色移装置，其中所述第一非适形聚合物电介质层和所述第二非适形聚合物电介质层都具有变化的横截面厚度；和

其中所述第一吸收层，所述第一反射层，所述第一非适形聚合物电介质层，所述第二非适形聚合物电介质层，以及所述第二吸收层，一起形成法布里－珀罗腔，并且其中所述第一非适形聚合物电介质层由沉积的非适形材料形成。

2.根据权利要求1所述的色移防伪装置，其中在所述法布里－珀罗腔从基底移除后，所述法布里－珀罗腔形成薄片。

3.根据权利要求1所述的色移防伪装置，其中所述第一吸收层，或者所述第一反射层，具有基本均匀的厚度，其中厚度的变化不超过20％。

4.根据权利要求1所述的色移防伪装置，其中所述第一非适形聚合物电介质层的横截面的厚度差远大于相邻两层的厚度之和。

5.根据权利要求4所述的色移防伪装置，其中对应于特定微结构的所述色移防伪装置的区域形成通过放大能够被看见的可见标记，并且其中一些所述微结构的高度或深度至少为50nm。

6.根据权利要求5所述的色移防伪装置，其中至少一些所述微结构形成谷，其在横截面中形成底部平坦的谷。

7.根据权利要求5所述的色移防伪装置，其中所述微结构在横截面中的峰是顶部平坦的结构。

8.一种色移防伪装置，包括法布里－珀罗滤光器，所述法布里－珀罗滤光器包括：第一吸收层，第一非适形电介质层，反射层，第二非适形电介质层和第二吸收层，其中所述第一非适形电介质层被沉积在所述第一吸收层之上，所述反射层被沉积在所述第一非适形电介质层之上，所述第二非适形电介质层被沉积在所述反射层之上，所述第二吸收层被沉积在所述第二非适形电介质层之上；其中，所述第一吸收层具有微结构化的上表面，所述第一非适形电介质层的下表面与所述第一吸收层的所述微结构化的上表面相适形，并且所述第一非适形电介质层的上表面与所述第一吸收层的所述微结构的上表面不相适形，其中所述非适形电介质层的横截面具有变化的厚度，使得所述非适形电介质层的至少一个区域基本上比该区域的相邻区域更厚，并且其中所述第一非适形电介质层和所述第二非适形电介质层的横截面都具有变化的厚度。

9.根据权利要求8所述的色移防伪装置，还包括基底和沉积在所述基底之上的释放层。

10.根据权利要求9所述的色移防伪装置，其中沿着割裂线分割时，形成成形的薄片。

11.根据权利要求10所述的色移防伪装置，其中从任一侧观察时薄片产生色移。