CN102809773A - 一种光学干涉薄片制备方法及制备设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种光学干涉薄片制备方法及其设备，所述制备方法包括：在第一卷绕机构上安装柔性基底材料载体，所述柔性基底材料表面预先涂印有一层可溶性材料；控制所述第一卷绕机构正向转动，使所述柔性基底材料由该第一卷绕机构通过与其相邻的真空封辊、真空腔、另一真空封辊向第二卷绕机构传送卷绕，柔性基底材料通过所述真空内腔时，在其表面镀制第一层薄膜；控制所述第二卷绕机构反向转动，使已镀制第一层薄膜的柔性基底材料顺序通过真空封辊、真空腔、真空封辊向所述第一卷绕机构传送卷绕，柔性基底材料通过所述真空内腔时，在其表面镀制第二层薄膜；依次镀制多层薄膜。本发明可连续生产光学干涉薄片，降低生产成本，提高生产效率。
Description
技术领域
本发明涉及到特种光学干涉颜料领域，尤其是一种光学干涉薄片制备方法及其所采用的制备设备。
背景技术
光学干涉颜料自上世纪八十年代问世以来，在印刷行业被广泛应用于货币、签证、各种有价证券、香烟、酒标的防伪。在国内如100元、50元人民币上都用上了该光干涉颜料随视角变色的一线防伪技术。
然而，目前的光学干涉颜料存在着生产成本高、产出少的缺陷；而且，目前，制备该类产品的生产方法和设备还不能达到完全连续生产。
发明内容
有鉴于此，有必要针对背景技术中提到的问题，提供一种可成本低、产出高、可持续不断生产光干涉颜料的方法和制造设备。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的：
一种光学干涉薄片制备设备，其特征在于：包括：
一光学镀膜机，其内腔抽真空，其二相对的侧面分别设有一真空封辊，所述真空内腔内设有用于喷射镀膜所需粒子的粒子蒸发源；
第一卷绕机构及第二卷绕机构，其分别设置于与所述二真空封辊相邻的位置，使得安装于第一或第二卷绕机构上的柔性基底材料可顺序通过一真空封辊、真空内腔及另一真空封辊，从而卷绕于第二或第一所述卷绕机构上；
第一卷绕电机及第二卷绕电机，其分别与所述第一、第二卷绕机构连接，正向和/或反向驱动其所对应的卷绕机构转动。
所述制备设备还包括一用于控制所述二卷绕电机的控制单元，其与所述而卷绕电机信号连接。
所述二卷绕电机内设减速器，卷绕电机的卷绕速度为1CM/S~100M/S范围内可调，优选
所述真空内腔内设有用于增加制成的光学干涉薄片的致密度的离子辅助设备。
所述真空内腔内设有低温捕集器。
一种采用上述任一制备设备的光学干涉薄片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、在第一卷绕机构上安装柔性基底材料载体，所述柔性基底材料表面预先涂印有一层可溶性材料；
S2、开启所述第一卷绕机构连接的第一卷绕电机，控制所述第一卷绕机构正向转动，使所述柔性基底材料由该第一卷绕机构通过与其相邻的真空封辊、真空腔、另一真空封辊向第二卷绕机构传送卷绕，柔性基底材料通过所述真空内腔时，在其表面镀制第一层薄膜；
S3、开启与第二卷绕机构连接的第二卷绕电机，控制所述第二卷绕机构反向转动，使已镀制第一层薄膜的柔性基底材料顺序通过真空封辊、真空腔、真空封辊向所述第一卷绕机构传送卷绕，柔性基底材料通过所述真空内腔时，在其表面镀制第二层薄膜；
S4、重复S2及S3，直至在所述柔性基底材料上根据预先的设计依次镀制完成多层薄膜；
S5、退膜处理，得到相应的光学干涉薄片；
S6、碎片处理。
另一种采用上述任一制备设备的光学干涉薄片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S10、在第一卷绕机构上安装柔性基底材料载体；
S20、开启所述第一卷绕机构连接的第一卷绕电机，控制所述第一卷绕机构正向转动，使所述柔性基底材料顺序通过与所述第一卷绕机构相邻的真空封辊、真空腔、另一真空封辊，当所述柔性基底材料通过所述真空腔时，关闭所述第一卷绕电机，在真空腔内的柔性基底材料表面依次镀制多层薄膜；
S30、开启所述第一卷绕电机，控制所述第一卷绕机构继续转动将镀制好多层薄膜的柔性基底材料绕出真空腔，卷绕于第二卷绕机构上；
S40、重复S20及S30，直至整卷柔性基底材料镀膜完毕；
S50、退膜处理，得到相应的光学干涉薄片；
S60、碎片处理。
所述多层薄膜是三层干涉结构：吸收层、介质层、吸收层。
所述多层薄膜是五层干涉结构：吸收层、介质层、反射层、介质层、吸收层。
所述柔性材料基底是柔性塑料薄膜或金属带状材料。
与现有技术相比，本发明具备如下优点：本发明可连续生产光学干涉薄片，降低生产成本，提高生产效率。
附图说明
图1是本发明实施例一的设备结构剖视图。
具体实施方式
实施例一：
本实施例提供一种光学干涉薄片制备设备，如图1所示，包括：
一光学镀膜机，其内腔10抽真空，其二相对的侧面分别设有一真空封辊20，所述真空内腔10内设有用于喷射镀膜所需粒子的粒子蒸发源11；
第一卷绕机构30及第二卷绕机构30，其分别设置于与所述二真空封辊20相邻的位置，使得安装于第一或第二卷绕机构30上的柔性基底材料可顺序通过一真空封辊20、真空内腔10及另一真空封辊20，从而卷绕于第二或第一所述卷绕机构30上；
第一卷绕电机40及第二卷绕电机40，其分别与所述第一、第二卷绕机构30连接，正向和/或反向驱动其所对应的卷绕机构转动。
所述制备设备还包括一控制单元（图中未示出），其与所述二卷绕电机40信号连接，用于分别通过控制该二卷绕电机40来控制所述二卷绕机构30的开启、关闭、转动速度、转动方向等。
所述二卷绕电机内设有减速器，卷绕电机的卷绕速度为1CM/S~100M/S，优选1CM/S~100M/S。
所述真空内腔内还设有用于增加制成的光学干涉薄片的致密度的离子辅助设备12。
所述真空内腔内还可设置低温捕集器（图中未示出）。
所述控制单元还可以与所述真空内腔10内的粒子蒸发源11、离子辅助设备12、低温捕集器等信号连接，控制其工作。
本实施例还提供一种采用上述设备制备光学干涉薄片制备方法，其包括以下步骤：
S1、在第一卷绕机构上安装柔性基底材料载体，所述柔性基底材料表面预先涂印有一层可溶性材料：在第一卷绕机构上安装成卷的柔性基底材料载体，所述可溶性材料的作用是有效分隔所述基底材料和之后将要镀制的薄膜；
S2、开启所述第一卷绕机构连接的第一卷绕电机，控制所述第一卷绕机构正向转动，使所述柔性基底材料由该第一卷绕机构通过与其相邻的真空封辊、真空腔、另一真空封辊向第二卷绕机构传送卷绕，柔性基底材料通过所述真空内腔时，在其表面镀制第一层薄膜；
S3、开启与第二卷绕机构连接的第二卷绕电机，控制所述第二卷绕机构反向转动，使已镀制第一层薄膜的柔性基底材料顺序通过真空封辊、真空腔、真空封辊向所述第一卷绕机构传送卷绕，柔性基底材料通过所述真空内腔时，在其表面镀制第二层薄膜；
S4、重复S2及S3，直至在所述柔性基底材料上根据预先的设计依次镀制完成多层薄膜；
S5、退膜处理，得到相应的光学干涉薄片：即通过溶解所述可溶性材料，将镀制好的多层薄膜与柔性基底材料剥离开来，得到光学干涉薄片；
S6、碎片处理及分级处理，制成光学干涉颜料：将所述光学干涉薄片进行碎片处理，然后再进行分级处理，制成符合要求的光学干涉颜料。
所述多层薄膜可以是三层干涉结构：吸收层、介质层、吸收层，所述多层薄膜也可以是五层干涉结构：吸收层、介质层、反射层、介质层、吸收层。
所述柔性材料基底可选择柔性塑料薄膜或延展性好的金属带状材料。
实施例二：
本实施例提供另一种制备光学干涉薄片的方法，其所采用的设备与实施例一相同，其包括以下步骤：
S10、在第一卷绕机构上安装柔性基底材料载体；
S20、开启所述第一卷绕机构连接的第一卷绕电机，控制所述第一卷绕机构正向转动，使所述柔性基底材料顺序通过与所述第一卷绕机构相邻的真空封辊、真空腔、另一真空封辊，当所述柔性基底材料通过所述真空内腔时，关闭所述第一卷绕电机，在真空腔内的柔性基底材料表面依次镀制多层薄膜；
S30、开启所述第一卷绕电机，控制所述第一卷绕机构继续转动将镀制好多层薄膜的柔性基底材料绕出真空腔，卷绕于第二卷绕机构上；
S40、重复S20及S30，直至整卷柔性基底材料镀膜完毕；
S50、退膜处理，得到相应的光学干涉薄片；
S60、碎片处理。
本实施例之方法所支撑的光学干涉薄片的结构与实施例一相同。
Claims (10)
1.一种光学干涉薄片制备设备，其特征在于：包括：
一光学镀膜机，其内腔抽真空，其二相对的侧面分别设有一真空封辊，所述真空内腔内设有用于喷射镀膜所需粒子的粒子蒸发源；
第一卷绕机构及第二卷绕机构，其分别设置于与所述二真空封辊相邻的位置，使得安装于第一或第二卷绕机构上的柔性基底材料可顺序通过一真空封辊、真空内腔及另一真空封辊，从而卷绕于第二或第一所述卷绕机构上；
第一卷绕电机及第二卷绕电机，其分别与所述第一、第二卷绕机构连接，正向和/或反向驱动其所对应的卷绕机构转动。
2.根据权利要求1所述的制备设备，其特征在于，还包括一用于控制所述二卷绕电机的控制单元，其与所述而卷绕电机信号连接。
3.根据权利要求2所述的制备设备，其特征在于，所述二卷绕电机内设减速器，卷绕电机的卷绕速度为1CM/S~100M/S可调 。
4.根据权利要求3所述的制备设备，其特征在于，所述二卷绕电机的卷绕速度为10CM/S~10M/S可调。
5.根据权利要求2至4任一所述的制备设备，其特征在于，所述真空内腔内设有用于增加制成的光学干涉薄片的致密度的离子辅助设备。
6.一种采用权利要求1至5任一制备设备的光学干涉薄片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、在第一卷绕机构上安装柔性基底材料载体，所述柔性基底材料表面预先涂印有一层可溶性材料；
S2、开启所述第一卷绕机构连接的第一卷绕电机，控制所述第一卷绕机构正向转动，使所述柔性基底材料由该第一卷绕机构通过与其相邻的真空封辊、真空腔、另一真空封辊向第二卷绕机构传送卷绕，柔性基底材料通过所述真空内腔时，在其表面镀制第一层薄膜；
S3、开启与第二卷绕机构连接的第二卷绕电机，控制所述第二卷绕机构反向转动，使已镀制第一层薄膜的柔性基底材料顺序通过真空封辊、真空腔、真空封辊向所述第一卷绕机构传送卷绕，柔性基底材料通过所述真空内腔时，在其表面镀制第二层薄膜；
S4、重复S2及S3，直至在所述柔性基底材料上根据预先的设计依次镀制完成多层薄膜；
S5、退膜处理，得到相应的光学干涉薄片；
S6、碎片处理。
7.一种采用权利要求1至5任一制备设备的光学干涉薄片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S10、在第一卷绕机构上安装柔性基底材料载体；
S20、开启所述第一卷绕机构连接的第一卷绕电机，控制所述第一卷绕机构正向转动，使所述柔性基底材料顺序通过与所述第一卷绕机构相邻的真空封辊、真空腔、另一真空封辊，当所述柔性基底材料通过所述真空腔时，关闭所述第一卷绕电机，在真空腔内的柔性基底材料表面依次镀制多层薄膜；
S30、开启所述第一卷绕电机，控制所述第一卷绕机构继续转动将镀制好多层薄膜的柔性基底材料绕出真空腔，卷绕于第二卷绕机构上；
S40、重复S20及S30，直至整卷柔性基底材料镀膜完毕；
S50、退膜处理，得到相应的光学干涉薄片；
S60、碎片处理。
8.根据权利要求6或7所述的制备方法，其特征在于：所述多层薄膜是三层干涉结构：吸收层、介质层、吸收层。
9.根据权利要求6或7所述的制备方法，其特征在于：所述多层薄膜是五层干涉结构：吸收层、介质层、反射层、介质层、吸收层。
10.根据权利要求6或7所述的制备方法，其特征在于：所述柔性材料基底是柔性塑料薄膜或金属带状材料。
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