CN102808156A - 蒸镀装置 - Google Patents

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CN102808156A
CN102808156A CN 201110143654 CN201110143654A CN102808156A CN 102808156 A CN102808156 A CN 102808156A CN 201110143654 CN201110143654 CN 201110143654 CN 201110143654 A CN201110143654 A CN 201110143654A CN 102808156 A CN102808156 A CN 102808156A
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China
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裴绍凯
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Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
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Abstract

一种蒸镀装置,其包括伞架,至少一个膜料盘,及驱动装置。该伞架用于承载待镀膜元件。该膜料盘与该伞架相对设置,用于盛放膜料。该驱动装置与该膜料盘相连接,用于驱动该膜料盘转动以改变该膜料的表面相对于该伞架的倾角。本发明的蒸镀装置通过驱动该膜料盘转动以改变该膜料的表面相对于该伞架的倾角,从而改变膜料粒子的发射角度,进而提高镀膜的均匀性。

Description

蒸镀装置
技术领域
本发明涉及镀膜领域,尤其涉及一种蒸镀装置。
背景技术
具有相机模组的便携式装置,例如,手机、笔记本电脑等,越来越受到消费者的青睐。为提升相机模组的光学性能,需要在透镜表面镀上多种镀膜,如抗反射膜,滤光膜等。镀膜均匀性直接影响透镜的光学性能。因此,如何提高镀膜均匀性是一个重要课题。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种能够提高镀膜均匀性的蒸镀装置。
一种蒸镀装置,其包括伞架,至少一个膜料盘,及驱动装置。该伞架用于承载待镀膜元件。该膜料盘与该伞架相对设置,用于盛放膜料。该驱动装置与该膜料盘相连接,用于驱动该膜料盘转动以改变该膜料的表面相对于该伞架的倾角。
本发明的蒸镀装置通过驱动该膜料盘以改变该膜料的表面相对于该伞架的倾角,从而改变膜料粒子的发射角度,进而提高镀膜的均匀性。
附图说明
图1是本发明较佳实施方式的蒸镀装置的示意图。
图2是图1的蒸镀装置的离子源、膜料盘、电子枪和驱动装置的立体示意图。
图3是图1的蒸镀装置的离子源、膜料盘、电子枪和驱动装置的另一角度的立体示意图。
图4是图1的IV区域的局部放大图。
主要元件符号说明
蒸镀装置 10
腔体 11
伞架 12
电子枪 13
离子源 14
膜料盘 15
驱动装置 16
平整盖 17
驱动轴 18
旋转轴 122
容置槽 152
待镀膜元件 20
膜料 30
电子束发射口 132
离子发射口 142
底座 162
驱动杆 164
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
下面将结合附图及实施方式对本发明作进一步详细说明。
如图1-4所示,本发明较佳实施方式的蒸镀装置10包括腔体11,伞架12,六个电子枪13,离子源14,六个膜料盘15,六个平整盖17,及驱动装置16。
所述腔体11为真空腔体,其通过相连通的真空泵(图未示)来获得内部的真空环境。伞架12,电子枪13,离子源14,膜料盘15,驱动装置16均设置于所述腔体11的内部。
所述伞架12用于承载待镀膜元件20,并使待镀膜元件20的待镀表面朝向膜料盘15。所述伞架12通过旋转轴122设置于所述腔体11的上部。所述伞架12可以绕旋转轴122旋转。旋转轴122可以与一个转动装置(图未示)连接,例如与马达连接。
六个膜料盘15围绕着离子源14等间隔设置,每个膜料盘15分别通过一个枢轴(图未示)与离子源14活动连接。每个膜料盘15大致为扇形,每个膜料盘15朝向伞架12的表面开设有收容膜料30的容置槽152。在本实施方式中,容置槽152为圆柱形。每个容置槽152内的膜料30可以根据实际需要选择,可以相同,也可以不同。
每个平整盖17通过一个驱动轴18连接于相应的膜料盘15朝向伞架12的表面。驱动轴18与容置槽152相邻设置,驱动轴18可以驱动平整盖17沿着平行于驱动轴18的方向上下运动,从而平整容置槽152内的膜料30,提高镀膜均匀性。驱动轴18还可以驱动平整盖17绕驱动轴18旋转,从而开启或遮挡容置槽152内的膜料30。
电子枪13可以直接放置在腔体11的底壁上,也可以通过螺钉等方式固定设置在腔体11的底壁。两个相邻的膜料盘15之间设置有一个电子枪13。电子枪13用于产生加热膜料30的高能电子束,高能电子束在磁场(图未示)的作用下沿着圆弧形路径射向膜料30,以使膜料30蒸发形成膜料粒子。电子枪13为长方体形,电子枪13的一侧开设有电子束发射口132,电子束发射口132朝向与该电子枪13对应的膜料盘15。
离子源14可以通过螺钉等方式固定设置在腔体11的底壁上。离子源14的中心轴线与旋转轴122同轴设置。所述离子源14为等离子体离子源,其用于形成蒸镀所需的等离子体,等离子体在真空环境中与膜料粒子相碰撞,使膜料粒子获得额外能量,膜料粒子撞向待镀表面后将附着于待镀表面,形成所需的膜层。所述离子源14朝向所述伞架12。离子源14顶部的横截面为正六边形,离子源14的顶部开设有一个朝向伞架12的离子发射口142。
每个驱动装置16包括底座162和驱动杆164。底座162固设在离子源14底部的侧面上,驱动杆164的一端与底座162配合,驱动杆164的另一端插入对应的膜料盘15,并与其固定连接。驱动杆164与膜料盘15可以通过螺钉或焊接等方式固定。驱动杆164用于驱动膜料盘15以改变膜料30的表面相对于伞架12的倾角。驱动装置16可以是液压装置或者线性马达等。
本发明的蒸镀装置通过驱动该膜料盘以改变该膜料的表面相对于该伞架的倾角,从而改变膜料粒子的发射角度,进而可以提高镀膜的均匀性。
另外,本领域技术人员还可以在本发明精神内做其它变化,当然,这些依据本发明精神所做的变化,都应包含在本发明所要求保护的范围之内。

Claims (9)

1.一种蒸镀装置,其包括:
伞架,该伞架用于承载待镀膜元件;
至少一个膜料盘,该膜料盘与该伞架相对设置,用于盛放膜料;及
与该膜料盘相连接的驱动装置,用于驱动该膜料盘转动以改变该膜料的表面相对于该伞架的倾角。
2.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,该蒸镀装置进一步包括至少一个平整盖,该平整盖通过驱动轴连接于该膜料盘朝向该伞架的表面,该驱动轴可以驱动该平整盖沿着平行于驱动轴的方向运动,从而平整该容置槽内的膜料。
3.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,该膜料盘朝向该伞架的表面开设有用于收容该膜料的容置槽。
4.如权利要求3所述的蒸镀装置,其特征在于,该蒸镀装置进一步包括至少一个平整盖,该平整盖通过驱动轴连接于该膜料盘朝向该伞架的表面,该驱动轴可以驱动该平整盖绕该驱动轴旋转,从而开启或遮挡该容置槽内的膜料。
5.如权利要求3所述的蒸镀装置,其特征在于,该容置槽为圆柱形。
6.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,该至少一个膜料盘包括多个膜料盘,该蒸镀装置进一步包括离子源,该多个膜料盘围绕该离子源等间隔排布。
7.如权利要求6所述的蒸镀装置,其特征在于,每两个相邻的膜料盘之间设置有一个电子枪。
8.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,该驱动装置为液压装置。
9.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,该膜料盘为扇形。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104962865A (zh) * 2015-07-07 2015-10-07 京浜光学制品(常熟)有限公司 一种离子源辅助ito膜热蒸镀工艺
CN107574419A (zh) * 2017-10-11 2018-01-12 新乡市百合光电有限公司 一种真空室的玻璃镀膜架及电加热装置

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Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20121205