CN102751273A - 白色led荧光灯的结构及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种白色 LED 荧光灯的结构及其制备方法,包括基板,基板的顶部为凹槽形结构,在基板的顶面覆盖有绝缘层,在绝缘层上设有导线层,在基板的凹槽中设有一个以上的 LED 芯片, LED 芯片通过金线与导线层连接;在基板的上方设有荧光封装外壳。本发明采用荧光封装外壳来封装 LED 芯片,这样的方式可避免荧光粉层热量向 LED 芯片传递,减小 LED 芯片的温度,使 LED 芯片的发光效率提高,并且可以有效的减少炫光,提高照明的均匀度。本发明由于 LED 芯片和荧光粉是分离的,可以有效解决由于 LED 芯片的周边凹凸不平,而导致影响荧光粉涂覆的均匀性差及 LED 芯片的可靠性低的问题。

Description

白色LED荧光灯的结构及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种电子元件及其制备方法,尤其是一种白色LED荧光灯的结构及其制备方法。
背景技术
目前,LED荧光粉涂覆方法主要是将用环氧树脂调和过的荧光粉均匀地涂敷在LED芯片的表面。由于荧光粉在实现光转换的同时也会有部分的能量转化为热量,使得荧光粉涂层的温度上升,LED芯片的温度也随之升高,从而影响到LED芯片的发光效率。
另外,由于LED芯片和荧光粉涂层是紧密贴合的,使得LED芯片发射的光和激发荧光粉发出的光被荧光粉颗粒或者环氧树脂反射后回到芯片内部,被芯片吸收而损失,导致芯片温度升高,发光效率降低。
发明内容
本发明的目的是:提供一种白色LED荧光灯的结构及其制备方法,它可以有效的减少荧光粉产生热量对LED芯片发光效率的影响,还可以有效的减少炫光的发生,以克服现有技术的不足。
本发明是这样实现的:白色LED荧光灯的结构,包括基板,基板的顶部为凹槽形结构,在基板的顶面覆盖有绝缘层,在绝缘层上设有导线层及接线区,导线层与接线区连接为一体;在基板的凹槽中设有一个以上的LED芯片,LED芯片通过金线与导线层连接;在基板的上方设有荧光封装外壳。
在基板的凹槽中设有保护二极管。
绝缘层为氧化铝或氮化铝。
芯片为蓝色LED芯片或紫外LED芯片。
荧光封装外壳为含有荧光粉的玻璃或者树脂制成。
白光是一种混合光(由红橙黄绿蓝靛紫组成)但是通常使用三基色(红绿蓝)就可以混合出白光,所以白光LED的常用的发光方法有两种:一种为蓝色LED激发黄色荧光粉(荧光粉不一定都使用YAG,还有其他的种类。)但是显色性不高。另一种方法为蓝光或者紫外光激发红色荧光粉、绿色荧光粉和蓝色荧光粉分别发出红色、绿色和蓝色混合成白光。显色性较高。
所述的导线层和接线区的材料为Mo、Au、Cu、Ag、Ni或Al中的一种或几种的搭配与组合,或者它们的合金,或者金属与合金的搭配与组合。
白色LED荧光灯的结构的制备方法,
步骤一、将铝基板或铜基板加工成顶部为凹槽形结构的基板,并在基板的上表面采用PECVD法沉积出绝缘层;
步骤二、在步骤一的基础上,对绝缘层的上表面采用磁控溅射镀膜和光刻工艺制作导线层和接线区;
步骤三、在步骤二的基础上进行LED芯片的固定和焊线,同时安装保护二极管电路部分;
步骤四、将荧光粉熔入熔融的玻璃或者树脂中,制作荧光封装外壳;
步骤五、将荧光封装外壳按照固定在基板上,将LED芯片和荧光封装外壳之间抽成真空,用密封胶将基板和荧光封装外壳接触的地方密封严实。
上述的步骤一中加工基板采用机械加工的方式或采用铸造成型的方式。
在基板上的绝缘层采用各种溅射的方法、化学汽相沉积法或自蔓延法进行制备。
由于采用了上述的技术方案,与现有技术相比,本发明采用荧光封装外壳来封装LED芯片,这样的方式可避免荧光粉层热量向LED芯片传递,减小LED芯片的温度,使LED芯片的发光效率提高,并且可以有效的减少炫光,提高照明的均匀度。而目前的荧光粉直接涂敷在LED芯片表面,由于LED芯片的周边凹凸不平,会影响荧光粉涂覆的均匀性,并且荧光粉发出的热量还会影响LED芯片的可靠性。本发明由于LED芯片和荧光粉是分离的,可以有效解决以上问题。而且本发明的制备工艺少,适合产业化生产,生产成本低,所得到的产品具有较好的物理性能及化学稳定性,使用寿命长,制作成本较低,具有广泛的应用价值。
附图说明
图1为基板加工成型后并沉积绝缘层的后的截面图;
图2为基板制作导电层和接线区后的俯视正面图;
图3为安置LED芯片和焊接金线后的俯视正面图;
图4为图3的A-A截面图;
图5为图3的B-B截面图;
图6为LED芯片和保护二极管的电路连接图;
图7为图3安装封装外壳的A-A截面图;
图8为图3安装封装外壳的B-B截面图;
图9为基板制作导电层和接线区后的背面图;
图10为图3安装封装外壳的C-C截面图;
图11为图3安装封装外壳的D-D截面图;
附图标记
1-铝基板;2-绝缘层;3-导线层;4-电路保护二极管;5-LED芯片;6-金线;7-封装外壳;8-接线区。
具体实施方式
本发明的实施例1:白色LED荧光灯的结构如图8所示,包括基板1,基板1的顶部为凹槽形结构,在基板1的顶面覆盖有绝缘层2,在绝缘层2上设有导线层3及接线区8,导线层3和接线区8连接为一体;在基板1的凹槽中设有27个LED芯片5及1个保护二极管4,LED芯片5通过金线6与导线层3连接;在基板1的上方设有荧光封装外壳7;绝缘层2的材料为氧化铝;LED芯片5为蓝色LED芯片;或紫外LED芯片;荧光封装外壳7为含有黄色荧光粉的玻璃制成;导线层3的材料为金属铜。
白色LED荧光灯的结构的制备方法,
步骤一、采用机床将铝基板加工成顶部为凹槽形结构的基板1,如图1所示;并在基板1的上表面采用PECVD法,以氧化铝为材料沉积出绝缘层2;
步骤二、在步骤一的基础上,对绝缘层2的上表面采用磁控溅射镀膜和光刻工艺,制作导线层和接线区8,如图2所示(接线区8的位置如图9,图10,图11所示);
步骤三、在步骤二的基础上对蓝色LED芯片5的固定和焊线,同时安装起保护作用的保护二极管4的电路部分,如图3、图4和图5所示;LED芯片5与保护二极管4的电路连接如图6所示;
步骤四、将黄色荧光粉(YAG)熔入熔融的玻璃中,然后倒入模具制成长方形的荧光封装外壳7,荧光封装外壳7的厚度约5mm。
步骤五、将荧光封装外壳7固定在基板1上,如图7所示,再将蓝色LED芯片5和荧光封装外壳7之间抽成真空,用密封胶将基板1和荧光封装外壳7接触的地方密封严实,如图8、图9、图10及图11所示。
上述的步骤一中加工基板1采用机械加工的方式或采用铸造成型的方式。
在基板1上的绝缘层2采用各种溅射的方法、化学汽相沉积法或自蔓延法进行制备。
本发明的实施例2:白色LED荧光灯的结构的制备方法,
步骤一、采用铜材采用铸造成型的方式加工成顶部为凹槽形结构的基板1,如图1所示;并在基板1的上表面采用PECVD法,以氮化铝为材料沉积出绝缘层2;
步骤二、在步骤一的基础上,对绝缘层2的上表面采用磁控溅射镀膜和光刻工艺,制作导线层3和接线区8,如图2所示;导线层3的材料采用铜银合金;
步骤三、在步骤二的基础上对紫外LED芯片5的固定和焊线,同时安装起保护作用的保护二极管4的电路部分,如图3、图4和图5所示;
步骤四、将红色荧光粉、蓝色荧光粉和绿色荧光粉按比例熔入熔融的玻璃中,然后倒入模具制成长方形的荧光封装外壳7,荧光封装外壳7的厚度约5mm。
步骤五、将荧光封装外壳7固定在基板1上,如图7所示,再将紫外LED芯片5和荧光封装外壳7之间抽成真空,用密封胶将基板1和荧光封装外壳7接触的地方密封严实,如图8、图9、图10及图11所示。

Claims (9)

1.一种白色LED荧光灯的结构,包括基板(1),其特征在于:基板(1)的顶部为凹槽形结构,在基板(1)的顶面覆盖有绝缘层(2),在绝缘层(2)上设有导线层(3)及接线区(8),导线层(3)与接线区(8)连接为一体;在基板(1)的凹槽中设有一个以上的LED芯片(5),LED芯片(5)通过金线(6)与导线层(3)连接;在基板(1)的上方设有荧光封装外壳(7)。
2.根据权利要求1所述的白色LED荧光灯的结构,其特征在于:在基板(1)的凹槽中设有保护二极管(4)。
3.根据权利要求1所述的白色LED荧光灯的结构,其特征在于:绝缘层(2)为氧化铝或氮化铝。
4.根据权利要求1所述的白色LED荧光灯的结构,其特征在于:LED芯片(5)为蓝色LED芯片或紫外LED芯片。
5.根据权利要求1所述的白色LED荧光灯的结构,其特征在于:荧光封装外壳(7)为含有荧光粉的玻璃或者树脂制成。
6.根据权利要求1所述的白色LED荧光灯的结构,其特征在于:所述的导线层(3)和接线区(8)的材料为Mo、Au、Cu、Ag、Ni或Al中的一种或几种的搭配与组合,或者它们的合金,或者金属与合金的搭配与组合。
7.一种如权利要求1所述的白色LED荧光灯的结构的制备方法,其特征在于:
步骤一、将铝基板或铜基板加工成顶部为凹槽形结构的基板(1),并在基板(1)的上表面采用PECVD法沉积出绝缘层(2);
步骤二、在步骤一的基础上,对绝缘层(2)的上表面采用磁控溅射镀膜和光刻工艺制作导线层(3)和接线区(8);
步骤三、在步骤二的基础上进行LED芯片(5)的固定和焊线,同时安装保护二极管(4)电路部分;
步骤四、将荧光粉熔入熔融的玻璃或者树脂中,制作荧光封装外壳(7);
步骤五、将荧光封装外壳(7)按照固定在基板上,将LED芯片(5)和荧光封装外壳(7)之间抽成真空,用密封胶将基板(1)和荧光封装外壳(7)接触的地方密封严实。
8.根据权利要求7所述的一种白色LED荧光灯的制作方法,其特征在于:步骤一中加工基板(1)采用机械加工的方式或采用铸造成型的方式。
9.根据权利要求7所述的一种白色LED荧光灯的制作方法,其特征在于:在基板(1)上的绝缘层(2)采用各种溅射的方法、化学汽相沉积法或自蔓延法进行制备。
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