CN102707580A - 用于浸没式光刻机的气密封和气液分离回收装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封和气液分离回收装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有气密封和气液分离回收装置；气密封和气液分离回收装置包括密封和注液回收装置、气液分离片组和液体回收片组，密封和注液回收装置由浸没单元前端盖和浸没单元后端盖组成。本发明用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和注液回收功能，实现缝隙流场连续稳定的更新。缝隙流场边缘使用气密封结构防止液体泄漏，采用气液分离回收结构实现气体和液体的分离和分别回收，避免了气液两相流的产生，从而避免了气液两相流同时回收时引起的管路振动问题。无论硅片往哪个方向运动，气液分离回收结构都能够动态的调节装置内液面的高度。

Description

用于浸没式光刻机的气密封和气液分离回收装置

技术领域

本发明涉及一种流场密封与回收装置，特别是涉及一种用于浸没式光刻机的气密封和气液分离回收装置。

背景技术

光刻机是制造超大规模集成电路最核心的装备之一，现代光刻机已光学光刻为主，它利用光学系统把掩膜版上的图形精确地投影并曝光在涂过光刻胶的硅片上。它包括一个激光光源、一个光学系统、一块由芯片图形组成的投影掩膜版、一个对准系统和一个涂有光敏光刻胶的硅片。

    浸没式光刻（Immersion Lithography）设备通过在最后一片投影物镜与硅片之间填充某种高折射率的液体，相对于中间介质为气体的干式光刻机，提高了投影物镜的数值孔径（NA），从而提高了光刻设备的分辨率和焦深。在已提出的下一代光刻机中，浸没式光刻对现有设备改动最小，对现在的干式光刻机具有良好的继承性。目前常采用的方案是局部浸没法，即将液体限制在硅片上方和最后一片投影物镜的下表面之间的局部区域内，并保持稳定连续的液体流动。在步进-扫描式光刻设备中，硅片在曝光过程中进行高速的扫描运动，这种运动会将曝光区域内的液体带离流场，从而引起泄漏，泄漏的液体会在光刻胶上形成水迹，影响曝光质量。已有的气密封装置在回收过程中都存在气液两相流的问题，将两者放在一起回收将会引起管路的振动，从而严重影响曝光质量。因此，浸没式光刻技术中必须重点解决回收过程中由气液两相流引起的振动问题。

目前已有的解决方案中，重点解决的问题是填充液体的密封问题，采用气密封或液密封构件环绕投影物镜组末端元件和硅片之间的缝隙流场。气密封技术是在环绕填充流场的圆周周边上，通过施加高压气体形成环形气幕，将填充液体限定在一定的圆形区域内。液密封技术则是利用与填充液体不相容的第三方液体（通常是磁流体或水银等），环绕填充流场进行密封。但是在这些密封方案中，均未考虑振动问题，并且存在以下不足：

（1）液密封方式对密封液体有十分苛刻的要求，在确保密封性能要求的同时，还必须保证密封液体与填充液体不相互溶解、与光刻胶(或Topcoat)及填充液体不相互扩散。在衬底高速运动过程中，外界空气或密封液体一旦被卷入或溶解或扩散到填充液体中，都会对曝光质量产生负面的影响。

（2）现有的气密封方式采用气幕施加在填充流体周围，造成流场边缘的不稳定性，在衬底高速步进和扫描过程中，可能导致液体泄漏及密封气体卷吸到流场中；同时，填充液体及密封气体一起回收时将形成气液两相流，由此引发振动，影响曝光系统的稳定工作。

发明内容

为了解决局部浸没式光刻技术中的流场密封问题，本发明的目的在于提供一种用于浸没式光刻机的气密封和气液分离回收装置，在流场边缘使用气密封结构防止液体的泄漏。

本发明采用的技术方案如下：

本发明在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有的气密封和气液分离回收装置；所述的气密封和气液分离回收装置包括密封和注液回收装置、气液分离片组和液体回收片组；密封和注液回收装置由浸没单元前端盖和浸没单元后端盖组成；其中：

1）浸没单元后端盖：

在浸没单元后端盖开有中心通孔，在浸没单元后端盖的中心通孔向外的七个同心圆上分别依次开有四个等分的注液槽，两个液体回收槽、两个气体回收槽、两个内密封注气槽、两个内密封气体回收槽、两个外密封气体回收槽和两个外密封注气槽；

2）浸没单元前端盖：

在浸没单元前端盖开有中心通孔，浸没单元前端盖的中心通孔向外依次嵌套有五个各自连续的环状圆柱腔体，五个环状圆柱腔向外依次为回收孔腔、内层注气压力缓冲腔、内层气体回收腔、外层气体回收腔和外层注气压力缓冲腔，在位于前端盖中心通孔和回收孔腔之间的浸没单元前端盖的端面圆环上开有中心对称均布的四个相同的注液腔，四个注液腔内均开有沿圆周方向排列的注液孔阵列，回收孔腔内底面上开有回收孔阵列，内层注气压力缓冲腔内开有沿圆周方向排列的内层注气孔阵列，外层注气压力缓冲腔内开有沿圆周方向排列的外层注气孔阵列，内层气体回收腔和外层气体回收腔内均开有中心对称均布的十二个槽，回收孔阵列由均匀密布的微孔组成；

所述的浸没单元前端盖上端与浸没单元后端盖下端的结合面均为平面，并通过螺钉紧固连接；

3）气液分离片组：

由七个圆环形的气液分离片叠放在一起组成气液分离片组，七个气液分离片的外侧与回收孔腔的外侧壁紧贴，七个气液分离片上开有对应相通且均匀密布的微孔，七个气液分离片中位于下面的六个气液分离片的内侧连续开有朝向浸没单元后端盖的斜面，七个气液分离片位于最下面的一个气液分离片与前端盖的回收孔腔内底面接触，七个气液分离片上开有的微孔与回收孔阵列的微孔对应相通，由七个气液分离片上微孔形成的多道微管路与气体回收槽相通；

4）液体回收片组：

由七个圆环形的液体回收片叠放在一起组成液体回收片组；七个液体回收片的内侧与回收孔腔的内侧壁紧贴，七个液体回收片上开有对应相通且均匀密布的微孔，七个液体回收片位于最下面的两个液体回收片的外侧连续开有朝向硅片的斜面，七个液体回收片位于最下面的一个液体回收片与前端盖的回收孔腔内底面接触，七个液体回收片上开有的微孔与回收孔阵列的微孔对应相通，由七个液体回收片上微孔形成的多道微管路与液体回收槽相通。

所述的四个注液槽分别与各自的注液腔相通，两个内密封注气槽均与内层注气压力缓冲腔相通，两个内密封气体回收槽均与内层气体回收腔相通，外密封气体回收槽均与外层气体回收腔相通，两个外密封注气槽均与外层注气压力缓冲腔相通。

所述的注液孔阵列、内层注气孔阵列和外层注气孔阵列均由沿圆周方向排列的微孔组成。

本发明具有的有益效果是：

（1）回收端采用微孔组成的管路，由内向外的排列方式形成多道圆环管路阵列，液体回收片组中与回收孔阵列接触的部位连续的对浸没液体回收，未接触部位开有斜面，以便于对经过气液分离后的液体进行回收。回收的液体通过液体回收槽流入外接管路，实现液体的回收。

（2）气密封技术会在液体回收过程中引入气液两相流，造成浸没装置的振动和流场的波动，对浸没液体的光学一致性造成严重影响，利用气液分离片叠加而成的气液分离片组，用圆周分布的微管路模仿多孔介质减少振动。

（3）在气液分离片组、浸没单元前端盖、浸没单元后端盖组成的腔中加上负压，液体高过气液分离片组的斜面时，液体在重力作用下流向回收结构的底部，而气体通过气体回收槽流向外接管路，从而将气体分离出去。实现气体和液体的分离和分别回收，从而避免了气液两相流一起回收时引起的振动问题，能够明显减少浸没装置的振动和流场的波动。

（4）在硅片进行高速扫描过程中，由于对液体的牵拉作用，必然造成在硅片运动方向上的液面升高，而另一侧的液面降低。液面高的部位如果不及时回收则可能造成液体泄漏，液面低的部位如果不减少回收量会使液面更低，甚至吸入空气。气液分离片组和液体回收片组 的管路和斜面结构均为圆周分布，在硅片运动中，斜面结构具有自动调节液面高度的功能，当一侧液面升高时，高过斜面的部分回从斜面上流下，流向液体回收装置和液面低的部位；另一侧液面降低时，液面低于斜面，液体保存在气液分离片组的管路中，使得填充液体的液面具有动态自适应调节功能。

附图说明

图1是本发明与投影透镜组相装配的简化示意图。

图2是本发明的爆炸剖面视图。

图3是本发明的浸没单元前端盖仰视图。

图4是浸没单元前端盖立体视图。

图5是浸没单元后端盖立体视图。

图6是液体回收片组立体视图。

图7是气液分离片组立体视图。

图8是本发明剖面视图。

图9是本发明表征气液分离部分的局部剖面视图。

图中：1、投影透镜组，2、密封和注液回收装置，2A、浸没单元前端盖，2B、浸没单元后端盖，3、硅片，4、气液分离片组，4A、第一气液分离片，4B、第二气液分离片，4C、第三气液分离片，4D、第四气液分离片，4E、第五气液分离片，4F、第六气液分离片，4G、第七气液分离片，5、液体回收片组，5A、第一液体回收片，5B、第二液体回收片，5C、第三液体回收片，5D、第四液体回收片，5E、第五液体回收片，5F、第六液体回收片，5G、第七液体回收片，6A、注液腔，6B、注液槽，6C、注液孔阵列，7、回收孔阵列，7A、液体回收槽，7B、气体回收槽，8A、内层注气压力缓冲腔，8B、内密封注气槽，8C、内层注气孔阵列，9A、内层气体回收腔，9B、内密封气体回收槽，10A、外层气体回收腔，10B、外密封气体回收槽，11A、外层注气压力缓冲腔，11B、外密封注气槽，11C、外层注气孔阵列，12、缝隙流场。

具体实施方式

下面结合附图和实施例详细说明本发明的具体实施过程。

如图1所示，在浸没式光刻机中的投影物镜组1和硅片3之间装有的气密封和气液分离回收装置；所述气密封和气液分离回收装置包括密封和注液回收装置2、气液分离片组4和液体回收片组5；密封和注液回收装置2由浸没单元前端盖2A和浸没单元后端盖2B组成；其中：

1）浸没单元后端盖2B：

如图5所示，在浸没单元后端盖2B开有中心通孔，投影物镜组1从中心通孔穿过，在浸没单元后端盖2B的中心通孔向外的七个同心圆上分别依次开有四个等分的注液槽6B，两个液体回收槽7A、两个气体回收槽7B、两个内密封注气槽8B、两个内密封气体回收槽9B、两个外密封气体回收槽10B和两个外密封注气槽11B；

四个注液槽6B、两个液体回收槽7A、两个气体回收槽7B、两个内密封注气槽8B、两个内密封气体回收槽9B、两个外密封气体回收槽10B和两个外密封注气槽11B均分别通过各自的孔道与外部管路相连接，孔道开在浸没单元后端盖2B的内部，孔道之间互不交叉，孔道的出口均开在浸没单元后端盖2B的侧面，孔道向内与各自的槽相通，向外通过螺纹连接的方式与外部管路相连接，孔道具有连接浸没单元后端盖2B内部槽和外部管路的功能。外部管路包括液体注入管路、液体回收管路、气体注入管路、气体回收管路，分别完成浸没单元的液体注入与回收、气体注入与回收功能。

2）浸没单元前端盖2A：

如图2、图3、图4所示，在浸没单元前端盖2A开有中心通孔，投影物镜组1从中心通孔穿过，浸没单元前端盖2A的中心通孔向外依次嵌套有五个各自连续的环状圆柱腔体，五个环状圆柱腔向外依次为回收孔腔、内层注气压力缓冲腔8A、内层气体回收腔9A、外层气体回收腔10A和外层注气压力缓冲腔11A，在位于前端盖中心通孔和回收孔腔之间的浸没单元前端盖2A的端面圆环上开有中心对称均布的四个相同的注液腔6A，四个注液腔6A内均开有沿圆周方向排列的注液孔阵列6C，回收孔腔内底面上开有回收孔阵列7，内层注气压力缓冲腔8A内开有沿圆周方向排列的内层注气孔阵列8C，外层注气压力缓冲腔11A内开有沿圆周方向排列的外层注气孔阵列11C，内层气体回收腔9A和外层气体回收腔10A内均开有中心对称均布的十二个槽，回收孔阵列7由均匀密布的微孔组成；所述的浸没单元前端盖2A上端与浸没单元后端盖2B下端的结合面均为环形平面，并通过螺钉紧固连接；

3）气液分离片组4：

如图6所示，由七个圆环形的气液分离片叠放在一起组成气液分离片组4；七个气液分离片从上到下依次为第一气液分离片4A、第二气液分离片4B、第三气液分离片4C、第四气液分离片4D、第五气液分离片4E、第六气液分离片4F和第七气液分离片4G；七个气液分离片的外侧与回收孔腔的外侧壁紧贴，七个气液分离片上开有对应相通且均匀密布的微孔，这些微孔叠放在一起形成与浸没单元工作面相垂直的微管路，七个气液分离片中位于下面的六个气液分离片的内侧连续开有朝向浸没单元后端盖2B的斜面，七个气液分离片位于最下面的一个气液分离片与前端盖2A的回收孔腔内底面接触，七个气液分离片上开有的微孔与回收孔阵列7的微孔对应相通，由七个气液分离片上微孔形成的多道微管路与气体回收槽7B相通；

4）液体回收片组5：

由七个圆环形的液体回收片叠放在一起组成液体回收片组5；七个液体回收片从上到下依次为第一液体回收片5A、第二液体回收片5B、第三液体回收片5C、第四液体回收片5D、第五液体回收片5E、第六液体回收片5F和第七液体回收片5G；七个液体回收片的内侧与回收孔腔的内侧壁紧贴，七个液体回收片上开有对应相通且均匀密布的微孔，这些微孔叠放在一起形成与浸没单元工作面相垂直的微管路，七个液体回收片位于最下面的两个液体回收片的外侧连续开有朝向硅片3的斜面，七个液体回收片位于最下面的一个液体回收片与前端盖2A的回收孔腔内底面接触，七个液体回收片上开有的微孔与回收孔阵列7的微孔对应相通，由七个液体回收片上微孔形成的多道微管路与液体回收槽7A相通。

所述的四个注液槽6B分别与各自的注液腔6A相通，两个内密封注气槽8B均与内层注气压力缓冲腔8A相通，两个内密封气体回收槽9B均与内层气体回收腔9A相通，外密封气体回收槽10B均与外层气体回收腔10A相通，两个外密封注气槽11B均与外层注气压力缓冲腔11A相通。

如图3、图4所示，所述的注液孔阵列6C、内层注气孔阵列8C和外层注气孔阵列11C均由沿圆周方向排列的微孔组成。

图1给出了本发明装置在浸没式光刻系统中的工作位置，本装置可以在分布重复或者步进扫描光刻设备中应用。在曝光过程中，从光源发出的光线（例如ArF准分子激光）通过对准的掩模板、投影物镜组1和由浸没液体填充形成的缝隙流场12，照射在硅片3的光刻胶上，对其进行曝光处理，将掩模版上的图形准确的转移到硅片的光刻胶上。浸没单元后端盖2B用夹持机构固定，夹持机构可以调节浸没单元的高度和姿态，浸没单元前端盖2A、浸没单元后端盖2B两部分之间的的结合面为环形平面，连接方式为螺钉拧紧。

如图2所示是本装置的爆炸剖面视图，气液分离片组4和液体回收片组5是由带有多道微孔的薄片叠加而成，并且微孔各自对齐形成微管路。其中气液分离片组4是本发明的特色，由下面六个内侧开有斜面的薄片和最上部一个未开有斜面的薄片叠加在一起，第七气液分离片5G与浸没单元前端盖2A接触，第一气液分离片5A与浸没单元后端盖2B接触，微孔各自对齐，从而形成多道与浸没单元工作面相垂直的微细管路。气液分离片组4下面六个气液分离片会在内侧形成朝向浸没单元后端盖2B的斜面，从外向内斜面平滑的降低，从而保证无论液面在哪个方向升高液体都会沿着斜面流向液体回收部位的底部，实现液体的连续回收。液体回收片组的第六液体回收片4F和第七液体回收片4G的外侧也是开有多孔的斜面，并与上面的液体回收片的微孔相连通，组成垂直于浸没单元工作面的液体回收管路。

如图2、图3、图4、图5、图7、图8、图9所示，浸没单元由浸没单元前端盖2A、浸没单元后端盖2B、气液分离片组4和液体回收片组5四部分组成。浸没单元后端盖2B上的注液槽6B通过内部孔道与液体注入管路相连通，浸没液体由液体注入管路注入注液槽6B，沿途经过浸没单元前端盖2A上的液体注液腔6A和注液孔阵列6C，液体进入并充满透镜组1与硅片3之间的缝隙流场12，在液体持续不断的注入过程中，液体会向缝隙流场的四周流动，因此需要对浸没液体进行回收。浸没单元前端盖2A上的回收孔阵列7介于注液结构和气密封结构之间，回收孔阵列7是由微孔组成的多道排孔，主要功能是完成液体和气体的回收，浸没液体向上经过回收孔阵列7进入液体回收片组5， 第七液体回收片5G外侧开有斜面，未开有斜面的平面部分与回收孔阵列7的上表面接触，微孔各自对齐组成回收管路，连续的回收缝隙流场中的浸没液体。第七液体回收片5G斜面上也开有相同的微孔，并与上面的六个液体回收片组成回收管路，用来回收从气液分离片组4上流下的液体，第六液体回收片5F外侧也开有斜面，第六液体回收片5F底部的平面部分与第七液体回收片5G的上表面接触，用于回收第七液体回收片5G微孔中的液体，第六液体回收片5F斜面部分也开有微孔，并与上面的五个液体回收片组成回收管路，用来回收从气液分离片组4的斜面上流下来的液体。液体回收片组5的第一液体回收片5A与浸没单元后端盖2B、浸没单元前端盖2A组成液体回收腔体，浸没单元后端盖2B在腔体内部开有两个液体回收槽7B，液体回收槽7B通过开在浸没单元后端盖2B内部的孔道与外部液体回收管路相连通，在液体回收管路上加上负压便可以将液体从液体回收片组5的底部抽吸到液体回收槽7B处，经过孔道、液体回收管路排出浸没单元，从而完成浸没液体的注入和回收过程。

如图8所示，浸没单元的气密封结构由两道密封组成。硅片的高速引动会对液体产生牵拉作用，从而可能引起液体的泄漏，影响光刻系统的正常工作。因此在缝隙流场的外部圆周上加上气密封结构阻止液体的泄漏。来自气源管路中的高压气体经过注气管路和浸没单元后端盖2B内部的孔道进入内密封注气槽8B、外密封注气槽11B，然后分别进入内层注气压力缓冲腔8A、外层注气压力缓冲腔11A，注气压力缓冲腔在抑制气源脉动的同时，能够在圆周方向上均衡高压气场压力，使得内层注气孔阵列8C、外层注气孔阵列11C获得较为一致的初始注气压力。从内层注气孔阵列8C、外层注气孔阵列11C中吹出的气体会进入另一侧的内层注气压力缓冲腔8A、外层注气压力缓冲腔11A，从而保证在和浸没液体接触之前形成气幕，实现液体的周向密封。密封气体的回收则是通过内层气体回收腔9A、外层气体回收腔10A，进入浸没单元后端盖2B的内密封气体回收槽9B、外密封气体回收槽11B，内密封气体回收槽9B和外密封气体回收槽11B通过浸没单元后端盖2B内部的孔道与外部气体回收管路相连通，在气体回收管路上加上负压，便可完成密封气体的回收。

如图2、图3、图4、图6、图7、图8、图9所示，当硅片3在高速扫描过程中，由于硅片会对浸没液体产生牵拉作用，缝隙流场12会一侧压力变高，一侧压力变低，随之而来的是浸没单元内一侧液体增多，一侧液体减少，即一侧液面升高，另一侧液面降低。液体增多一侧如不加大回收量就会出现泄漏，液体减少一侧如不减少回收量就会使该侧液体更少，甚至吸入空气。气液分离片组4设计为沿圆周方向分布的连续斜面，斜面朝向浸没单元后端盖2B，即斜面高度从外向内依次降低。气液分离管路是由微管组成的多道环状微细管路，气液分离管路垂直于浸没单元工作面，通过七个开有微孔的气液分离片叠加而成。如果升高的液面高过气液分离片组4的斜面，液体在重力作用下沿斜面流向液体回收片组5的底部。液体回收片组5中第七液体回收片5G和第六液体回收片5F外侧开有斜面，便于液体能够流向液体回收管路底部，被液体回收片组5回收，从而实现浸没液体的单独回收。而在另一侧液面低的部位，液面没有高过斜面，浸没液体便不会留下斜面被回收，从而阻止了浸没液体继续被回收。因为斜面结构为圆周分布，无论硅片往哪个方向运动都能实现上述功能，使得此结构具有自动调节液面高度的功能，保证液体回收管路底部都被浸没液体淹没，从而对液体单独回收而不卷入气体，。同时在气液分离片组4的斜面、液体回收片组5和浸没单元后端盖2B组成的腔体中加上负压，即在气体回收槽7B上加上负压，使得浸没液体中的气体经过斜面上的微孔分离出去，分离出的气体经过气体回收槽7B和外部气体回收管路被排出，从而实现了回收部分的气体单独回收。此种结构将液体和气体分离后通过各自的管路单独回收，从而避免了浸没液体和密封气体回收时形成的气液两相流，从而避免了因气液两相流引发的管路振动和流场波动。

上述具体实施方式用来解释说明本发明，而不是对本发明进行限制，在本发明的精神和权利要求的保护范围内，对本发明作出的任何修改和改变，都落入本发明的保护范围。

Claims (3)

1.一种用于浸没式光刻机的气密封和气液分离回收装置，在浸没式光刻机中的投影物镜组（1）和硅片（3）之间装有的气密封和气液分离回收装置；其特征在于：所述气密封和气液分离回收装置包括密封和注液回收装置（2）、气液分离片组（4）和液体回收片组（5）；密封和注液回收装置（2）由浸没单元前端盖（2A）和浸没单元后端盖（2B）组成；其中：

1）浸没单元后端盖（2B）：

在浸没单元后端盖（2B）开有中心通孔，在浸没单元后端盖（2B）的中心通孔向外的七个同心圆上分别依次开有四个等分的注液槽（6B），两个液体回收槽（7A）、两个气体回收槽（7B）、两个内密封注气槽（8B）、两个内密封气体回收槽（9B）、两个外密封气体回收槽（10B）和两个外密封注气槽（11B）；

2）浸没单元前端盖（2A）：

在浸没单元前端盖（2A）开有中心通孔，浸没单元前端盖（2A）的中心通孔向外依次嵌套有五个各自连续的环状圆柱腔体，五个环状圆柱腔向外依次为回收孔腔、内层注气压力缓冲腔（8A）、内层气体回收腔（9A）、外层气体回收腔（10A）和外层注气压力缓冲腔（11A），在位于前端盖中心通孔和回收孔腔之间的浸没单元前端盖（2A）的端面圆环上开有中心对称均布的四个相同的注液腔（6A），四个注液腔（6A）内均开有沿圆周方向排列的注液孔阵列（6C），回收孔腔内底面上开有回收孔阵列（7），内层注气压力缓冲腔（8A）内开有沿圆周方向排列的内层注气孔阵列（8C），外层注气压力缓冲腔（11A）内开有沿圆周方向排列的外层注气孔阵列（11C），内层气体回收腔（9A）和外层气体回收腔（10A）内均开有中心对称均布的十二个槽，回收孔阵列（7）由均匀密布的微孔组成；

所述的浸没单元前端盖（2A）上端与浸没单元后端盖（2B）下端的结合面均为平面，并通过螺钉紧固连接；

3）气液分离片组（4）：

由七个圆环形的气液分离片叠放在一起组成气液分离片组（4），七个气液分离片的外侧与回收孔腔的外侧壁紧贴，七个气液分离片上开有对应相通且均匀密布的微孔，七个气液分离片中位于下面的六个气液分离片的内侧连续开有朝向浸没单元后端盖（2B）的斜面，七个气液分离片位于最下面的一个气液分离片与前端盖（2A）的回收孔腔内底面接触，七个气液分离片上开有的微孔与回收孔阵列（7）的微孔对应相通，由七个气液分离片上微孔形成的多道微管路与气体回收槽（7B）相通；

4）液体回收片组（5）：

由七个圆环形的液体回收片叠放在一起组成液体回收片组（5），七个液体回收片的内侧与回收孔腔的内侧壁紧贴，七个液体回收片上开有对应相通且均匀密布的微孔，七个液体回收片位于最下面的两个液体回收片的外侧开有朝向硅片（3）的斜面，七个液体回收片位于最下面的一个液体回收片与前端盖（2A）的回收孔腔内底面接触，七个液体回收片上开有的微孔与回收孔阵列（7）的微孔对应相通，由七个液体回收片上微孔形成的多道微管路与液体回收槽（7A）相通。

2.根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的气密封和气液分离回收装置，其特征在于：所述的四个注液槽（6B）分别与各自的注液腔（6A）相通，两个内密封注气槽（8B）均与内层注气压力缓冲腔（8A）相通，两个内密封气体回收槽（9B）均与内层气体回收腔（9A）相通，外密封气体回收槽（10B）均与外层气体回收腔（10A）相通，两个外密封注气槽（11B）均与外层注气压力缓冲腔（11A）相通。

3.根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的气密封和气液分离回收装置，其特征在于：所述的注液孔阵列（6C）、内层注气孔阵列（8C）和外层注气孔阵列（11C）均由沿圆周方向排列的微孔组成。

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