CN102664157B - 一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置 - Google Patents
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Abstract
一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置。涉及一种OJ(Open Junction)二极管酸处理后的去离子水震荡冲洗装置。提供了一种同步导入高频震荡,使得二极管产生震动和轴向转动,达到有效冲洗死角的二极管酸处理后的震荡冲洗装置。所述二极管酸处理后设置在酸洗盘上,所述震荡冲洗装置包括底座、冲洗头、水槽和震荡装置,所述酸洗盘设在所述水槽上,所述冲洗头设在所述酸洗盘上方;所述震荡装置设在所述水槽的一侧,所述震荡装置包括振子、支架和弹簧,所述振子设在所述支架上部中间位置。本发明结构简单、制造成本低,振动、冲洗效果明显。
Description
技术领域
本发明涉及二极管,尤其涉及一种OJ(Open Junction)二极管酸处理后的去离子水震荡冲洗装置。
背景技术
当前,OJ(Open Junction)二极管的制造过程中,在酸处理后的冲洗工位,固定的冲水角度下,背向冲水方向的一侧形成冲洗死角,同时导线与治具之间的结合缝隙中的化剂得不到充分清洗,被带入后工序,成为二次污染源,残留的可移动离子附着在芯片部位产生信赖性隐患。因此,在清洗过程中,需要消耗较多的酸洗液才能将二极管清洗干净,清洗时间长,效率低。
发明内容
本发明针对以上问题,提供了一种同步导入高频震荡,使得二极管产生震动和轴向转动,达到有效冲洗死角的二极管酸处理后的震荡冲洗装置。
本发明的技术方案是:所述二极管酸处理后设置在酸洗盘上,所述震荡冲洗装置包括底座、冲洗头、水槽和震荡装置,所述酸洗盘设在所述水槽上,所述冲洗头设在所述酸洗盘上方;
所述震荡装置设在所述水槽的一侧,所述震荡装置包括振子、支架和弹簧,所述振子设在所述支架上部中间位置;
所述支架具有支撑板和立板,相互间构成L形;所述支撑板水平地设在所述水槽的内侧、且高于所述水槽顶缘高度;所述酸洗盘的外侧搁置在所述水槽的外侧顶缘、内侧搁置在所述支撑板朝向所述水槽的顶缘上,使得所述酸洗盘倾斜设在所述水槽和支撑板之间;
所述弹簧活动设在所述支撑板的下部。
还包括限位机构,所述限位机构包括导向螺栓组件和一对限位板;所述导向螺栓组件穿过所述弹簧、连接所述支撑板;所述限位板具有水平的顶板,所述一对限位板设在所述支撑板的两侧、其顶板的底面贴合所述支撑板的顶面。
所述支撑板朝向所述水槽的顶缘设有凸边,所述凸边为梯形,使得所述酸洗盘倾斜设置在所述凸边上。
所述震荡装置的立板铰接在底座上。
还包括限位槽,所述立板的底部设在所述限位槽内,用于限制所述支架前后移动。
在所述酸洗盘的两侧设有凹槽或凸筋。
所述振子的震荡频率为5-15次/秒,振幅为0.1-0.5mm。
所述酸洗盘的倾斜角度为5~30°。
本发明的震荡装置包括支架、振子和弹簧,振子在控制器控制下形成高频震源,与弹簧、支架在水槽上实现高频震荡,其中振子的震动频率和振幅是可调节的,以二极管在酸洗盘上可见的转动时为恰当、效果最佳;支架的高度通过导向螺栓组件调节,避免支架和水槽刚性接触带来振幅的衰降,限位板的设置限制了支撑板的Z向的振动高度;限位槽或铰接结构的设置,限制了支架X向的移动。本发明结构简单、制造成本低,振动、冲洗效果明显。
附图说明
图1是本发明的结构示意图,
图2是图1的右视图,
图3是本发明的优化实施方式一,
图4是本发明的优化实施方式二,
图5是本发明的优化实施方式三,
图6是本发明中酸洗盘的工作状态图一,
图7是本发明中酸洗盘的工作状态图二;
图中1是冲洗头,2是酸洗盘,20是凹槽,21是凸筋,3是振子,4是二极管,5是导向螺栓组件,6是支架,60是支撑板,601是凸边,6011是上行斜坡,6012是下行斜坡,61是立板,7是限位板,70是顶板,81是限位槽,82是铰接结构,9是弹簧,10是水槽;
图中XYZ代表坐标系。
具体实施方式
本发明如图1-2所示,所述二极管4酸处理后设置在酸洗盘2上,所述震荡冲洗装置包括底座、冲洗头1、水槽10和震荡装置,所述酸洗盘2设在所述水槽10上,所述冲洗头1设在所述酸洗盘2上方;
所述震荡装置设在所述水槽10的一侧,所述震荡装置包括振子3、支架6和弹簧9,所述振子3设在所述支架6上部中间位置;
所述支架6具有支撑板60和立板61,相互间构成L形;所述支撑板60水平地设在所述水槽10的内侧、且高于所述水槽10顶缘高度;所述酸洗盘2的外侧搁置在所述水槽10的外侧顶缘、内侧搁置在所述支撑板60朝向所述水槽10的顶缘上,使得所述酸洗盘2倾斜设在所述水槽10和支撑板60之间;
所述弹簧9活动设在所述支撑板60的下部。
还包括限位机构,所述限位机构包括导向螺栓组件5和一对限位板7;所述导向螺栓组件5穿过所述弹簧9、连接所述支撑板60;所述限位板7具有水平的顶板70,所述一对限位板7设在所述支撑板60的两侧、其顶板70的底面贴合所述支撑板60的顶面。限制支撑板60的Z向振动高度,同时能起到对支撑板60的Y向限位的作用。限位板7在工作过程中,同时防止了支架6由于酸洗盘2移动和冲洗的原因,而导致支架向一边倾斜的情况,提高稳定性。
所述支撑板60朝向所述水槽10的顶缘设有凸边601,所述凸边601为梯形(两侧斜边中,朝向进料方向的为上行斜坡6011,另一侧斜边为下行斜坡6012)。酸洗盘2在自动送进过程中,沿坡而上,倾斜地搁置在所述凸边601的顶边上,在清洗时,便于水流最大限度流出。
如图3所示,所述震荡装置的立板61铰接在底座上。限制X向,防止支架6前后移动;立板61通过铰接结构82连接在底座上。
还包括限位槽81,所述立板61的底部设在所述限位槽81内,用于限制所述支架6前后移动。限制X向,防止支架6前后移动。
如图4-5所示,在所述酸洗盘2的两侧设有凹槽20或凸筋21。设置凹槽20或凸筋21有效的防止冲洗头1冲洗带来的溢流,避免相邻酸洗盘2之间的交叉污染。
所述振子3的震荡频率为5-15次/秒,振幅为0.1-0.5mm。
所述酸洗盘2的倾斜角度为5~30°。
如图6-7所示,本发明的酸洗盘2在移动过程中,由水平逐渐倾斜设在所述凸边601上,提高了清洗的效率。
Claims (8)
1.一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,所述二极管酸处理后设置在酸洗盘上,其特征在于,所述震荡冲洗装置包括底座、冲洗头、水槽和震荡装置,所述酸洗盘设在所述水槽上,所述冲洗头设在所述酸洗盘上方;
所述震荡装置设在所述水槽的一侧,所述震荡装置包括振子、支架和弹簧,所述振子设在所述支架上部中间位置;
所述支架具有支撑板和立板,相互间构成L形;所述支撑板水平地设在所述水槽的内侧、且高于所述水槽顶缘高度;所述酸洗盘的外侧搁置在所述水槽的外侧顶缘、内侧搁置在所述支撑板朝向所述水槽的顶缘上,使得所述酸洗盘倾斜设在所述水槽和支撑板之间;
所述弹簧活动设在所述支撑板的下部。
2.根据权利要求1所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,其特征在于,还包括限位机构,所述限位机构包括导向螺栓组件和一对限位板;所述导向螺栓组件穿过所述弹簧、连接所述支撑板;所述限位板具有水平的顶板,所述一对限位板设在所述支撑板的两侧、其顶板的底面贴合所述支撑板的顶面。
3. 根据权利要求1所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,其特征在于,所述支撑板朝向所述水槽的顶缘设有凸边,所述凸边为梯形,使得所述酸洗盘倾斜设置在所述凸边上。
4. 根据权利要求1所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,其特征在于,所述震荡装置的立板铰接在底座上。
5. 根据权利要求1所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,其特征在于,还包括限位槽,所述立板的底部设在所述限位槽内,用于限制所述支架前后移动。
6. 根据权利要求1所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,其特征在于,在所述酸洗盘的两侧设有凹槽或凸筋。
7. 根据权利要求1所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,其特征在于,所述振子的震荡频率为5-15次/秒,振幅为0.1-0.5mm。
8. 根据权利要求1所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置,其特征在于,所述酸洗盘的倾斜角度为5~30°。
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