CN102646772A - 一种具有背镀结构的发光二极管 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种具有背镀结构的发光二极管,包括p电极、n电极和具有非出光面与出光面的衬底,在衬底的出光面上顺序设有n型GaN层、量子阱、p型GaN层和铟锡氧化物层和钝化层,p电极位于铟锡氧化物层的上表面,n电极位于n型GaN层7的上表面,所述的衬底的非出光面上设置有布拉格反射层,该布拉格反射层由三氧化二铝层和二氧化钛层交替排列组成,且相邻的三氧化二铝层和二氧化钛层之间相互贴覆;三氧化二铝层的折射率小于二氧化钛层的折射率。该结构的发光二极管可以提高LED的光提取效率。
Description
技术领域
本发明属于半导体照明器件,具体来说,涉及一种具有背镀结构的发光二极管。
背景技术
近年来,氮化镓(化学式为GaN)基LED(发光二极管,英文全称“Light Emitting Diode”,简称“LED”)发展迅猛.以LED为核心的半导体照明光源,未来将取代白炽灯、荧光灯而成为新一代照明光源。氮化镓基LED结构如图1所示,包括p电极、量子阱、钝化层、铟锡氧化物层、p型GaN层、n电极、n型GaN层和衬底。然而,LED目前仍存在发光效率低、成本高、可靠性差等问题,并且商用白光LED的发光效率还较低,因此限制了它迈向照明以及其它应用领域的速度。
LED作为一种光源,衡量它的一个重要指标就是光电转换效率或发光效率。提高LED发光效率的两个基本出发点就是提高其内量子效率和外量子效率。LED的外量子效率 ηex=ηin·Cex,式中,ηin是内量子效率;Cex是光提取效率。由于GaN基LED的光提取效率非常低,而内量子效率已经可以达到很高的水平,所以提高LED的光提取效率成为提高LED外量子效率亦即发光效率的关键。对于传统的蓝宝石衬底GaN基LED而言,造成光提取效率非常低的原因是多方面的,包括晶格缺陷对光的吸收、衬底对光的吸收、内部(重复)吸收、电极的阻挡、特别是LED发射的光线在出射过程中,由于在芯片与封装用胶之间的全反射造成的光损失等原因,以致仅有4%的光线能从LED表面出射,而大部分的光则被限制在LED内部,最终变成热损耗,从而导致极低的光提取效率。因此,如何提高LED的光提取效率是半导体照明领域中最亟待解决的研究课题之一。
发明内容
技术问题:本发明所要解决的技术问题是:提供一种具有背镀结构的发光二极管,提高LED的光提取效率。
技术方案:为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:
一种具有背镀结构的发光二极管,包括p电极、n电极和具有非出光面与出光面的衬底,在衬底的出光面上顺序设有n型GaN层、量子阱、p型GaN层和铟锡氧化物层和钝化层,p电极位于铟锡氧化物层的上表面,n电极位于n型GaN层的上表面,所述的衬底的非出光面上设置有布拉格反射层,该布拉格反射层由三氧化二铝层和二氧化钛层交替排列组成,且相邻的三氧化二铝层和二氧化钛层之间相互贴覆;三氧化二铝层的折射率小于二氧化钛层的折射率。
所述的具有背镀结构的发光二极管,还包括金属反射层,该金属反射层位于布拉格反射层的外表面。
有益效果:与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:
1.LED的光提取效率高。现有技术中,仅有4%的光线能从LED表面出射,而大部分的光则被限制在LED内部,最终变成热损耗。而本发明的技术方案中,在发光二极管衬底的非出光面上设置有布拉格反射层,能够将射向芯片底部的光利用布拉格反射原理反射回上表面,布拉格反射层的反射率可达90%以上,从而提高LED外量子效率,进而提高LED的光提取效率高。
2.具有良好的导热性,有利于LED芯片的散热。本发明的技术方案中,在布拉格反射层的外表面可设置一金属反射层。金属反射层可以进一步提高反射率。另外,金属反射层具有良好的导热性,有利于LED芯片的散热。尤其对于大功率LED而言,金属反射层对改善LED的散热性具有重要价值。
附图说明
图1为现有技术中蓝宝石衬底的氮化镓基LED结构示意图。
图2为本发明的结构示意图。
图3为本发明的一种改进结构示意图。
图4为图2的布拉格反射层的结构示意图,位于上方的两条箭头线表示入射光线和反射光线。
图5为图3的布拉格反射层和金属层的结构示意图,位于上方的两条箭头线表示入射光线和反射光线。
图中有:p电极1、量子阱2、钝化层3、ITO4、p型GaN层5、n电极6、n型GaN层7、衬底8、布拉格反射层9、三氧化二铝层91、二氧化钛层92、金属反射层10。
具体实施方式
下面结合附图,对本发明的技术方案进行详细说明。
如图2所示,本发明的一种具有背镀结构的发光二极管,包括p电极1、n电极6和具有非出光面与出光面的衬底8,在衬底8的出光面上顺序设有n型GaN层7、量子阱2、p型GaN层(GaN为氮化镓的化学式)5和铟锡氧化物层4和钝化层3,p电极1位于铟锡氧化物层4的上表面,n电极6位于n型GaN层7的上表面。衬底8的非出光面上设置有布拉格反射层9。衬底8采用蓝宝石、砷化镓、碳化硅或者硅材料制成。布拉格反射层9由三氧化二铝层91和二氧化钛层92交替排列组成,且相邻的三氧化二铝层91和二氧化钛层92之间相互贴覆。三氧化二铝层91的折射率小于二氧化钛层92的折射率。也就是说,如图4所示,第一个三氧化二铝层91贴覆于衬底8的非出光面,再将第一个二氧化钛层92贴覆于第一个三氧化二铝层91的外表面,接着将第二个三氧化二铝层91贴覆于第一个二氧化钛层92的外表面,然后将第二个二氧化钛层92贴覆于第二个三氧化二铝层91的外表面,……,以此循环。当然,也可以是先将第一个二氧化钛层92贴覆于衬底8的非出光面,再将第一个三氧化二铝层91贴覆于第一个二氧化钛层92的外表面,接着将第二个二氧化钛层92贴覆于第一个三氧化二铝层91的外表面,然后将第二个三氧化二铝层91贴覆于第二个二氧化钛层92外表面,……,以此循环。布拉格反射层9中的三氧化二铝层91和二氧化钛层92的层数相同,三氧化二铝层91和二氧化钛层92各为1层—20层。也就是说,三氧化二铝层91和二氧化钛层92交替排列1次—20次,例如可以是1次,5次、8次、10次、15次、18次或者20次。三氧化二铝层91的光学厚度和二氧化钛层92的光学厚度分别为反射光波长的1/4。也即,三氧化二铝层91的光学厚度是入射光波长的1/4除以三氧化二铝层91的折射率,二氧化钛层92的光学厚度是入射光波长的1/4除以二氧化钛层92的折射率。
进一步,如图3和图5所示,所述的具有背镀结构的发光二极管还包括金属反射层10,该金属反射层10位于布拉格反射层9的外表面。在布拉格反射层9的外表面设置一金属反射层10。布拉格反射层9和金属反射层10都能提高反射率,而金属反射层10的导热性良好,所以具有良好的导热性。布拉格反射层9和金属反射层10的组合,对LED出射光的对应波段具有高反射率和良好的导热性,对改善大功率LED的散热特性具有重要价值。所述的金属反射层10的厚度在50 nm —300 nm之间。该金属反射层10由铝制成。当然,还可以选择其他金属材料,例如银。但是使用银材质时,则需在银上再镀一层金属镍防止银的硫化,或采取其它防硫化措施。
本发明在现有的发光二极管的衬底8的非出光面上增加设置布拉格反射层9,布拉格反射层9由三氧化二铝层91和二氧化钛层92两种材料交替组合而成。布拉格反射层9可将原本被芯片底部吸收的光重新反射回LED,从而可显著提高LED的出光效率。
LED的有源区发出的光是向上、下两个表面出射的,而封装好的LED是“单向”发光,因此有必要将射向芯片底部的光反射或直接出射。本发明的发光二极管中,当入射光射入后,布拉格反射层9能够将射向芯片底部的光利用布拉格反射原理反射回上表面,从而提高LED外量子效率。布拉格反射层9中的三氧化二铝层91的光学厚度和二氧化钛层92的光学厚度分别为反射光波长的1/4。布拉格反射层9是一种四分之一波长的多层结构,相当于简单的一维光子晶体。由于频率落在能隙范围内的电磁波无法穿透,布拉格反射镜的反射率可达90%以上。能隙位置可以通过改变三氧化二铝层91或者二氧化钛层92的折射率或厚度来调整。
以蓝宝石衬底的氮化镓基LED结构为例,来具体说明本发明的发光二极管所具有的光提取效率高的优点。
如图2所示,发光二极管包括p电极1、量子阱2、钝化层3、铟锡氧化物层4、p型GaN层5、n电极6、n型GaN层7、衬底8、布拉格反射层9和金属反射层10。衬底8的出光面上生长n型GaN层7,n型GaN层7的上表面生长量子阱2和n电极6,量子阱2的上表面生长p型GaN层5,p型GaN层5的上表面生长铟锡氧化物层4,铟锡氧化物层4的上表面生长p电极1和钝化层3。衬底8的非出光面上生长布拉格反射层9,布拉格反射层9的外表面生长金属反射层10。布拉格反射层9是由三氧化二铝层91和二氧化钛层92交替排列而成。
采用以峰值波长为450 nm的蓝光LED芯片,二氧化钛层92的光学厚度为44 nm,三氧化二铝层91的光学厚度为66 nm,二氧化钛层92和三氧化二铝层91分别设置6层。入射光垂直入射LED时,可获得95%以上的反射率。
如图3所示的LED,其结构与图2所示的LED结构相同,不同的是在布拉格反射层9外表面设置了一层金属反射层10。
采用以峰值波长为450 nm的蓝光LED芯片,二氧化钛层92的光学厚度为44 nm,三氧化二铝层91的光学厚度为66 nm,二氧化钛层92和三氧化二铝层91分别设置3层。金属反射层10采用铝材料制成,金属反射层10的厚度为100 nm。入射光垂直入射LED时,可获得98%以上的反射率。
以上所述的具体实施例,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细的说明。但应该强调的是,以上所述实施例仅为本发明的较佳实例而已,并非用于限定本发明的保护范围。凡在本发明的精神和原则之内,对本发明的背镀结构所做的任何修改、替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围内。
Claims (7)
1.一种具有背镀结构的发光二极管,包括p电极(1)、n电极(6)和具有非出光面与出光面的衬底(8),在衬底(8)的出光面上顺序设有n型GaN层(7)、量子阱(2)、p型GaN层(5)和铟锡氧化物层(4)和钝化层(3),p电极(1)位于铟锡氧化物层(4)的上表面,n电极(6)位于n型GaN层(7)的上表面,其特征在于,所述的衬底(8)的非出光面上设置有布拉格反射层(9),该布拉格反射层(9)由三氧化二铝层(91)和二氧化钛层(92)交替排列组成,且相邻的三氧化二铝(91)层和二氧化钛层(92)之间相互贴覆;三氧化二铝层(91)的折射率小于二氧化钛层(92)的折射率。
2. 按照权利要求1所述的具有背镀结构的发光二极管,其特征在于,还包括金属反射层(10),该金属反射层(10)位于布拉格反射层(9)的外表面。
3. 按照权利要求2所述的具有背镀结构的发光二极管,其特征在于,所述的金属反射层(10)的厚度在50 nm —300 nm之间。
4. 按照权利要求3所述的具有背镀结构的发光二极管,其特征在于,所述的金属反射层(10)由铝制成。
5. 按照权利要求1至4中任何一项所述的具有背镀结构的发光二极管,其特征在于,所述的三氧化二铝层(91)的光学厚度和二氧化钛层(92)的光学厚度分别为反射光波长的1/4。
6. 按照权利要求5所述的具有背镀结构的发光二极管,其特征在于,所述的布拉格反射层(9)中的三氧化二铝层(91)和二氧化钛层(92)的层数相同,三氧化二铝层(91)和二氧化钛层(92)各为1层—20层。
7. 按照权利要求1所述的具有背镀结构的发光二极管,其特征在于,所述的衬底(8)采用蓝宝石、砷化镓、碳化硅或者硅材料制成。
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