CN102629167B - 一种电子产品及其触控屏面盖和制作方法 - Google Patents

一种电子产品及其触控屏面盖和制作方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及LCD显示技术，具体公开一种电子产品及其触控屏防眩面盖和制作方法。该触控屏防眩面盖在透明面盖上镀有一层硬质保护膜，其通过蚀刻液的腐蚀形成磨砂雾化的表面。该制作方法包括：a、在透明面盖上镀一层硬质保护膜；b、将镀有硬质保护膜的透明面盖放入蚀刻液中进行腐蚀，待硬质保护膜形成磨砂雾化的表面后取出。该电子产品触控屏采用所述的触控屏防眩面盖。本发明直接在面盖上镀一层硬质保护膜形成防眩面盖，由于镀膜的厚度很小，使触控屏在具有防眩功能的同时有效地避免了普通防眩贴膜给屏幕带来的厚度。采用二氧化硅这类材料所形成的硬质镀膜，一方面降低了生产成本，另一方面提高了防眩面盖的表面硬度，有效地加强防眩膜的防刮能力。

Description

一种电子产品及其触控屏面盖和制作方法
技术领域
本发明涉及一种LCD显示技术领域，具体涉及一种电子产品及其触控屏面盖和制作方法。
背景技术
由于防眩膜的表面呈微粒状的凹凸，一方面，可以降低环境光的干扰，提高画面的清晰度和能度，减少屏幕反光；另一方面，防眩膜可以对屏幕提供多一层的保护，所以电子产品，比如手机、笔记本电脑以及平板电脑的屏幕上都会多贴附一层防眩膜。而目前市面上所用的防眩膜大多为含有银的PS205T防眩膜，具有较高的生产成本，同时，这种防眩膜的厚度大多在0.3mm，贴附时会增加屏幕的厚度，而在接触到较硬的物体时虽然保护了屏幕，但自身很容易受到刮蹭而留下痕迹，需要经常更换以保持外观的光洁美感。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种电子产品及其触控屏面盖和制作方法，能够降低生产成本、减小屏幕贴膜的厚度、还能增强防眩膜的表面硬度、提高防刮能力。
为解决以上技术问题，本发明提供的技术方案是，一种触控屏防眩面盖，在透明面盖上镀有一层硬质保护膜，该硬质保护膜通过蚀刻液的腐蚀，使硬质保护膜形成磨砂雾化的表面。
所述防眩面盖的厚度在0.5mm～2mm，所述硬质保护膜的雾化达到5％～15％。
所述硬质保护膜为二氧化硅膜。
在此基础上，本发明提供一种触控屏防眩面盖制作方法，包括：a、在透明面盖上镀一层硬质保护膜；b、将镀有硬质保护膜的透明面盖放入蚀刻液中进行腐蚀，待硬质保护膜形成磨砂雾化的表面后，将透明面盖取出。
所述硬质保护膜为二氧化硅薄膜，蚀刻液为氢氟酸溶液。
所述二氧化硅薄膜的厚度为100-500埃，蚀刻温度为20-40℃，氢氟酸溶液的浓度为2-30％，等待的时间为5min-100min。
所述二氧化硅薄膜的厚度为150-350埃；蚀刻温度为22-35℃，氢氟酸溶液的浓度为11-28％，等待的时间为15min-75min。
所述二氧化硅薄膜的厚度为200-300埃；蚀刻温度为24-30℃，氢氟酸溶液的浓度为18-26％，等待的时间为25min-50min。
所述二氧化硅薄膜的厚度为250±10埃；蚀刻温度为25±1℃，氢氟酸溶液的浓度为25±1％，等待的时间为34±1min。
此外，本发明还提供一种电子产品，包括触控屏，所述触控屏采用上述的触控屏防眩面盖。
与现有技术相比，本发明在透明面盖上直接镀一层硬质保护膜，之后蚀刻成雾面。由此形成的防眩面盖中，由于镀膜的厚度很小，使触控屏在具有防眩功能的同时可有效地避免外加贴膜给屏幕带来的厚度。特别地，采用二氧化硅这类材料形成的硬质镀膜，一方面降低了生产成本，另一方面也提高了防眩面盖的表面硬度，有助于加强防眩膜的防刮能力。
附图说明
图1为本发明中防眩面盖的结构示意图；
图2为本发明中防眩面盖的制作方法流程图；
图1-2中，附图标记为：1、面盖；2、二氧化硅薄膜。
具体实施方式
本发明的基本构思是，在透明面盖上镀硬质保护膜，之后蚀刻成雾面，由此能够在降低成本的同时增强面盖表面硬度、加强防刮能力。
为了使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合具体实施例对本发明作进一步的详细说明。
参见图1，表示本发明防眩面盖的一个较优实施例。该防眩面盖，在透明材质的面盖1上镀有一层硬质的保护膜，其中，透明材质的面盖可以是钢化玻璃或塑料等；硬质保护膜是一层以二氧化硅这类材料为原料的镀膜。在室温条件下，二氧化硅薄膜2通过蚀刻液的腐蚀，使二氧化硅薄膜2的表面形成磨砂雾化的效果，其中蚀刻液为氟化氢溶液，也可以为氟化铵与硫酸或盐酸的混合溶液。经过蚀刻液的腐蚀，二氧化硅薄膜表面的雾化值达到5％～15％，蚀刻防眩面盖厚度在0.5mm～2mm。
参见图2，表示本发明防眩面盖制作方法流程，该防眩面盖的制作方法主要包括如下步骤：
S201、在透明面盖上镀一层硬质保护膜；
S202、准备蚀刻液；
S203、在室温下，将步骤S201中镀有硬质保护膜的透明面盖放入步骤S202中准备好的蚀刻液中进行腐蚀，使硬质保护膜形成磨砂雾化的表面；
S204、等待蚀刻液将步骤S203中的透明面盖上的硬质保护膜腐蚀一段时间后取出；
S205、检测步骤S204中透明面盖上所镀硬质保护膜的雾度值。
上述实施例中S201与S202的先后顺序并非固定，两者的顺序可以颠倒，也可同时进行。
该流程中，根据硬质保护膜的厚度，溶液、参数可以选用多种实施例，兹举几例说明。
实施例一：
S201-1、在玻璃面盖上镀一层二氧化硅薄膜，该薄膜的厚度为100-500埃；
S202-1、准备浓度为2-30％的氢氟酸溶液；
S203-1、温度在20-40℃的条件下，将步骤S201-1中镀有二氧化硅薄膜的玻璃面盖放入步骤S202-1中准备好的氢氟酸溶液中，二氧化硅薄膜开始被氟化氢腐蚀；
S204-1、等腐蚀5-100min后，取出步骤S203-1中的玻璃面盖；
S205-1、检测步骤S204-1中透明面盖上所镀二氧化硅薄膜的雾度值。
实施例二：
S201-2、在玻璃面盖上镀一层二氧化硅薄膜，该薄膜的厚度为150-350埃；
S202-2、准备浓度为11-28％的氢氟酸溶液；
S203-2、温度在22-35℃的条件下，将步骤S201-2中镀有二氧化硅薄膜的玻璃面盖放入步骤S202-2中准备好的氢氟酸溶液中，二氧化硅薄膜开始被氟化氢腐蚀；
S204-2、等腐蚀15-75min后，取出步骤S203-2中的玻璃面盖；
S205-2、检测步骤S204-2中透明面盖上所镀二氧化硅薄膜的雾度值。
实施例三：
S201-3、在玻璃面盖上镀一层二氧化硅薄膜，该薄膜的厚度为200-300埃；
S202-3、准备浓度为18-26％的氢氟酸溶液；
S203-3、温度在24-30℃的条件下，将步骤S201-3中镀有二氧化硅薄膜的玻璃面盖放入步骤S202-3中准备好的氢氟酸溶液中，二氧化硅薄膜开始被氟化氢腐蚀；
S204-3、等腐蚀25-50min后，取出步骤S203-3中的玻璃面盖；
S205-3、检测步骤S204-3中透明面盖上所镀二氧化硅薄膜的雾度值。
实施例四：
S201-4、在玻璃面盖上镀一层二氧化硅薄膜，该薄膜的厚度为250埃；
S202-4、准备浓度为25％的氢氟酸溶液；
S203-4、温度在25℃的条件下，将步骤S201-4中镀有二氧化硅薄膜的玻璃面盖放入步骤S202-4中准备好的氢氟酸溶液中，二氧化硅薄膜开始被氟化氢腐蚀；
S204-4、等腐蚀34min后，取出步骤S203-4中的玻璃面盖；
S205-4、检测步骤S204-4中透明面盖上所镀二氧化硅薄膜的雾度值。
该实施例中，二氧化硅薄膜的厚度为250±10埃；蚀刻温度为25±1℃，氢氟酸溶液的浓度为25±1％，等待的时间为34±1min。雾化效果较为显著，整个蚀刻防眩面盖厚度在0.1±0.01mm，雾化值可达到10度。
上述实施例一至实施例四中，二氧化硅与氢氟酸的反应式为：
SiO2+6HF＝H2[SiF6]+2H2O
本发明所生产的防眩面盖可以用作触控屏手机或平板电脑等电子产品触控屏幕的面盖。
本发明直接在面盖上镀一层硬质保护膜形成防眩面盖，由于镀膜的厚度很小，使触控屏在具有防眩功能的同时有效地避免了贴膜给屏幕带来的厚度。而采用二氧化硅这类材料所形成的硬质镀膜，一方面降低了生产成本，另一方面提高了防眩面盖的表面硬度，有效地加强防眩膜的防刮能力。
以上仅是本发明的优选实施方式，应当指出的是，上述优选实施方式不应视为对本发明的限制，本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明的精神和范围内，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (6)

1.一种触控屏防眩面盖，其特征在于，在透明面盖上镀有一层硬质保护膜，该硬质保护膜通过蚀刻液的腐蚀，使硬质保护膜形成磨砂雾化的表面；
其中，所述防眩面盖的厚度在0.5mm～2mm，所述硬质保护膜的雾化达到5％～15％；
所述硬质保护膜为二氧化硅膜；
所述蚀刻液为氟化氢溶液，或者氟化铵与硫酸或盐酸的混合溶液；
所述二氧化硅薄膜的厚度为100-500埃。
2.一种触控屏防眩面盖制作方法，其特征在于，包括：
a、在透明面盖上镀一层硬质保护膜；
b、将镀有硬质保护膜的透明面盖放入蚀刻液中进行腐蚀，待硬质保护膜形成磨砂雾化的表面后，将透明面盖取出；
其中，所述硬质保护膜为二氧化硅薄膜，蚀刻液为氢氟酸溶液，所述二氧化硅薄膜的厚度为100-500埃，蚀刻温度为20-40℃，氢氟酸溶液的浓度为2-30％，等待的时间为5min-100min。
3.如权利要求2所述的触控屏防眩面盖制作方法，其特征在于，所述二氧化硅薄膜的厚度为150-350埃；蚀刻温度为22-35℃，氢氟酸溶液的浓度为11-28％，等待的时间为15min-75min。
4.如权利要求2所述的触控屏防眩面盖制作方法，其特征在于，所述二氧化硅薄膜的厚度为200-300埃；蚀刻温度为24-30℃，氢氟酸溶液的浓度为18-26％，等待的时间为25min-50min。
5.如权利要求2所述的触控屏防眩面盖制作方法，其特征在于，所述二氧化硅薄膜的厚度为250±10埃；蚀刻温度为25±1℃，氢氟酸溶液的浓度为25±1％，等待的时间为34±1min。
6.一种电子产品，包括触控屏，其特征在于，所述触控屏采用权利要求1所述的触控屏防眩面盖。
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