CN102553506A - 一种利用光刻在pdms上直接形成图形的方法 - Google Patents
一种利用光刻在pdms上直接形成图形的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102553506A CN102553506A CN2010106158449A CN201010615844A CN102553506A CN 102553506 A CN102553506 A CN 102553506A CN 2010106158449 A CN2010106158449 A CN 2010106158449A CN 201010615844 A CN201010615844 A CN 201010615844A CN 102553506 A CN102553506 A CN 102553506A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- pdms
- glass sheet
- benzophenone
- sheet glass
- photoetching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法,其特征在于它包括如下步骤:①由PDMS基体和固化剂混合形成PDMS混合剂;②将苯甲酮晶体溶解于二甲苯中,形成苯甲酮溶液;在PDMS中加入苯甲酮,形成对紫外光敏感的PDMS;③先将玻璃片用硫酸双氧水混合液浸泡,再分别用丙酮、甲醇和去离子水浸泡和冲洗干净,而后用氮气吹干;④使用紫外灯对其进行曝光;⑤曝光后,进行后烘,PDMS未曝光的部分被固化,PDMS曝光的部分保持原来的状态;⑥将未固化的PDMS用甲苯浸泡去除;将玻璃片用异丙醇冲洗干净,后用氮气吹干;完成图形的形成。本发明为一种新颖的低成本、快速、简单的工艺,实现了在PDMS上直接制作图形。
Description
(一)技术领域:
本发明涉及微流控芯片的制备方法,尤其是一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法。
(二)背景技术:
片上实验室(LOC)系统在化学和生命科学里有着各种应用。在对低成本、一次性器件需求的驱动下,LOC领域正在经历迅速的发展和壮大,很多LOC器件都是由PDMS材料所制作,这种材料与硅和玻璃相比有着很多优势。其中最大的一点就是它简单和低廉的制作工艺,能够实现快速的图形转移。它的光学透过性很好,有利于各种各样的光学检测和显微技术。由于对细胞没有毒性,且具有一定的气体透过性,PDMS成为了生物研究中最受欢迎的一种材料。PDMS在-50℃至200℃的范围内都能保持很好的柔性和稳定性,这是很多材料都不具备的性能。此外,它的表面还可以通过吸附蛋白质或等离子体处理的方式加以修饰,以获得特殊的表面性能。固化的PDMS片表面通过氧等离子体处理后可以与另一片PDMS或玻璃实现很好的封接。
目前制作基于PDMS的微流体器件的基本流程如下面所述。首先,利用传统的微加工工艺制作模板,该模板的图形结构与所需要得到的PDMS图形结构相反。制作时,将PDMS与相应的固化剂按照10∶1的比例混合,浇注在模板的表面,并在80℃的温度下保持2小时,然后进行脱模,最后得到包含微结构的PDMS薄膜。
制作模板的微加工工艺在整个流程里只进行一次,制作出的模板可以复制多个PDMS图形结构。但是,模板的制作对环境和设备的要求很高,需要超净间等设施,这就增大了工艺的时间和成本,整个流程也会受到这一步关键工艺的制约。
(三)发明内容:
本发明的目的在于提供一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法,它能够解决现有技术的不足,是一种新颖的低成本、快速、简单的工艺。
本发明的技术方案:一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法,其特征在于它包括如下步骤:
①由PDMS基体和固化剂按10∶1混合形成PDMS混合剂;
②将苯甲酮晶体溶解于二甲苯中,形成苯甲酮溶液;在PDMS中加入苯甲酮,形成对紫外光敏感的PDMS;把这种混合液称作光敏PDMS;
③先将玻璃片用硫酸双氧水混合液浸泡12分钟,再分别用丙酮、甲醇和去离子水浸泡和冲洗干净,而后用氮气吹干;
④将光敏PDMS旋涂在玻璃片上,把光刻所用光刻铬掩膜板置于玻璃片之上,在铬板和玻璃片之间保持一定的空隙;使用紫外灯对其进行曝光;曝光的紫外波长<365nm,时间10分钟;
⑤曝光后,将玻璃片在120℃下进行后烘,固化时间40-120秒,经过后烘,PDMS未曝光的部分被固化,PDMS曝光的部分保持原来的状态;
⑥将未固化的PDMS用甲苯浸泡3-5秒进行去除;之后,将玻璃片用异丙醇冲洗干净,后用氮气吹干;完成图形的形成。
上述所说的步骤②中在PDMS中加入苯甲酮是:将苯甲酮溶液与PDMS混合剂按1∶33质量比混合,混合时间15分钟,这种混合物在真空箱内抽气以消除其内部溶解的气泡。
上述所说的步骤③中的硫酸双氧水混合液为硫酸和双氧水按7∶3体积比混合。
上述所说的步骤④中铬板和玻璃片之间保持的空隙<80μm。
上述所说的步骤④中紫外灯的强度为12mWcm-2。
上述所说的步骤⑤固化时间随着薄厚度的增加而延长。
本发明的优越性:1、本发明为一种新颖的低成本、快速、简单的工艺,实现了在PDMS上直接制作图形;2、PDMS中加入苯甲酮后,可以依靠紫外光进行光刻,然后进行固化和显影;3、苯甲酮是一种光敏感试剂,在紫外光的作用下,可以触发丙烯酸盐单体与其他功能团之间发生游离基聚合;4、本发明简化了传统工艺中对模板的依赖,同时,该工艺对环境光线不敏感,可以利用便携式的紫外光源来实现曝光操作,整个工艺不需要超净间等设施。
(四)附图说明:
附图为本发明所涉一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法的流程图。
(五)具体实施方式:
实施例:一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法(见附图),其特征在于它包括如下步骤:
①由PDMS基体和固化剂按10∶1混合形成PDMS混合剂;
②将苯甲酮晶体溶解于二甲苯中,形成苯甲酮溶液;在PDMS中加入苯甲酮,形成对紫外光敏感的PDMS;把这种混合液称作光敏PDMS;
③先将玻璃片用硫酸双氧水混合液浸泡12分钟,再分别用丙酮、甲醇和去离子水浸泡和冲洗干净,而后用氮气吹干;
④将光敏PDMS旋涂在玻璃片上,把光刻所用光刻铬掩膜板置于玻璃片之上,在铬板和玻璃片之间保持一定的空隙;使用紫外灯对其进行曝光;曝光的紫外波长<365nm,时间10分钟;
⑤曝光后,将玻璃片在120℃下进行后烘,固化时间40-120秒,经过后烘,PDMS未曝光的部分被固化,PDMS曝光的部分保持原来的状态;
⑥将未固化的PDMS用甲苯浸泡3-5秒进行去除;之后,将玻璃片用异丙醇冲洗干净,后用氮气吹干;完成图形的形成。
上述所说的步骤②中在PDMS中加入苯甲酮是:将苯甲酮溶液与PDMS混合剂按1∶33质量比混合,混合时间15分钟,这种混合物在真空箱内抽气以消除其内部溶解的气泡。
上述所说的步骤③中的硫酸双氧水混合液为硫酸和双氧水按7∶3体积比混合。
上述所说的步骤④中铬板和玻璃片之间保持的空隙<80μm。
上述所说的步骤④中紫外灯的强度为12mWcm-2。
上述所说的步骤⑤固化时间随着薄厚度的增加而延长。
Claims (6)
1.一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法,其特征在于它包括如下步骤:
①由PDMS基体和固化剂按10∶1混合形成PDMS混合剂;
②将苯甲酮晶体溶解于二甲苯中,形成苯甲酮溶液;在PDMS中加入苯甲酮,形成对紫外光敏感的PDMS;把这种混合液称作光敏PDMS;
③先将玻璃片用硫酸双氧水混合液浸泡12分钟,再分别用丙酮、甲醇和去离子水浸泡和冲洗干净,而后用氮气吹干;
④将光敏PDMS旋涂在玻璃片上,把光刻所用光刻铬掩膜板置于玻璃片之上,在铬板和玻璃片之间保持一定的空隙;使用紫外灯对其进行曝光;曝光的紫外波长<365nm,时间10分钟;
⑤曝光后,将玻璃片在120℃下进行后烘,固化时间40-120秒,经过后烘,PDMS未曝光的部分被固化,PDMS曝光的部分保持原来的状态;
⑥将未固化的PDMS用甲苯浸泡3-5秒进行去除;之后,将玻璃片用异丙醇冲洗干净,后用氮气吹干;完成图形的形成。
2.根据权利要求1所说的一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法,其特征在于所说的步骤②中在PDMS中加入苯甲酮是:将苯甲酮溶液与PDMS混合剂按1∶33质量比混合,混合时间15分钟,这种混合物在真空箱内抽气以消除其内部溶解的气泡。
3.根据权利要求1所说的一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法,其特征在于所说的步骤③中的硫酸双氧水混合液为硫酸和双氧水按7∶3体积比混合。
4.根据权利要求1所说的一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法,其特征在于所说的步骤④中铬板和玻璃片之间保持的空隙<80μm。
5.根据权利要求1所说的一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法,其特征在于所说的步骤④中紫外灯的强度为12mWcm-2。
6.根据权利要求1所说的一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法,其特征在于所说的步骤⑤固化时间随着薄厚度的增加而延长。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2010106158449A CN102553506A (zh) | 2010-12-30 | 2010-12-30 | 一种利用光刻在pdms上直接形成图形的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2010106158449A CN102553506A (zh) | 2010-12-30 | 2010-12-30 | 一种利用光刻在pdms上直接形成图形的方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102553506A true CN102553506A (zh) | 2012-07-11 |
Family
ID=46400907
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2010106158449A Pending CN102553506A (zh) | 2010-12-30 | 2010-12-30 | 一种利用光刻在pdms上直接形成图形的方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102553506A (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106169693A (zh) * | 2016-08-23 | 2016-11-30 | 东南大学 | 一种染料自聚合薄膜随机激光器及其制备方法 |
CN108565214A (zh) * | 2018-04-09 | 2018-09-21 | 大连理工大学 | 一种pdms掩蔽技术制备硅槽的方法 |
CN109870114A (zh) * | 2019-03-04 | 2019-06-11 | 华东理工大学 | 基于光刻蚀成型的应变传感器及其制造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080054383A1 (en) * | 2006-09-01 | 2008-03-06 | Grundfos A/S | Pressure sensor |
CN101410753A (zh) * | 2006-03-29 | 2009-04-15 | 陶氏康宁公司 | 使用软光刻法形成纳米级特征的方法 |
CN101441381A (zh) * | 2007-11-19 | 2009-05-27 | 中国科学院理化技术研究所 | 耐溶剂电子纸微杯的制法及制备耐溶剂电子纸微杯的材料 |
CN101533005A (zh) * | 2009-04-14 | 2009-09-16 | 北京大学 | 微流分配装置、其制备方法及用途 |
CN101790523A (zh) * | 2008-08-29 | 2010-07-28 | 北京大学 | 用于复杂图案形成的光敏pdms |
CN101835739A (zh) * | 2008-08-29 | 2010-09-15 | 北京大学 | 整合了光敏引发剂的聚(二甲基硅氧烷) |
-
2010
- 2010-12-30 CN CN2010106158449A patent/CN102553506A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101410753A (zh) * | 2006-03-29 | 2009-04-15 | 陶氏康宁公司 | 使用软光刻法形成纳米级特征的方法 |
US20080054383A1 (en) * | 2006-09-01 | 2008-03-06 | Grundfos A/S | Pressure sensor |
CN101441381A (zh) * | 2007-11-19 | 2009-05-27 | 中国科学院理化技术研究所 | 耐溶剂电子纸微杯的制法及制备耐溶剂电子纸微杯的材料 |
CN101790523A (zh) * | 2008-08-29 | 2010-07-28 | 北京大学 | 用于复杂图案形成的光敏pdms |
CN101835739A (zh) * | 2008-08-29 | 2010-09-15 | 北京大学 | 整合了光敏引发剂的聚(二甲基硅氧烷) |
CN101533005A (zh) * | 2009-04-14 | 2009-09-16 | 北京大学 | 微流分配装置、其制备方法及用途 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
方肇伦等: "《微流控分析芯片》", 28 February 2003, 科学出版社 * |
黄毓礼等: "环氧有机硅阳离子型光敏预聚物的合成及其光敏性能的研究", 《感光科学与光化学》 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106169693A (zh) * | 2016-08-23 | 2016-11-30 | 东南大学 | 一种染料自聚合薄膜随机激光器及其制备方法 |
CN106169693B (zh) * | 2016-08-23 | 2020-01-03 | 东南大学 | 一种染料自聚合薄膜随机激光器及其制备方法 |
CN108565214A (zh) * | 2018-04-09 | 2018-09-21 | 大连理工大学 | 一种pdms掩蔽技术制备硅槽的方法 |
CN109870114A (zh) * | 2019-03-04 | 2019-06-11 | 华东理工大学 | 基于光刻蚀成型的应变传感器及其制造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102166537B (zh) | 一种亲水、多功能集成、易于光学检测的微流控芯片及其制法和用途 | |
CN100514185C (zh) | 一种制作聚合物自支撑纳微米线的方法 | |
CA2502070C (en) | Polymer composite comprising hydrophilic, photo-cured membrane | |
CN102243435B (zh) | 一种通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法 | |
JP6429319B2 (ja) | 細胞培養用基材及び細胞配列培養用基材の製造方法並びにスクリーニング方法 | |
CN102553506A (zh) | 一种利用光刻在pdms上直接形成图形的方法 | |
CN108394858A (zh) | 一种pdms柔性超疏水薄膜的制作方法 | |
WO2019026458A1 (ja) | シロキサン樹脂組成物、それを用いた接着剤、表示装置、半導体装置および照明装置 | |
JP2010020328A (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂硬化物、感光性樹脂フィルム、感光性樹脂フィルム硬化物及びこれらを用いて得られる光導波路 | |
JP2006099059A5 (zh) | ||
WO2015033893A1 (ja) | 曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物、及びこれを用いた、曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルム、並びにこれらを用いたレンズ部材 | |
CN106119095A (zh) | 一种薄膜基底微通孔列阵生物芯片及其制作方法 | |
KR101920651B1 (ko) | 감광성 유기 입자 | |
CN105204290A (zh) | 一种su8列阵式微反应池的制备方法 | |
CN111072729B (zh) | 一种寡核苷酸合成用固相载体装置及其选择性修饰方法 | |
CN107844028B (zh) | 一种光刻胶、制备方法及其光刻工艺 | |
CN101332650B (zh) | 用于制备具有三维结构的弹性塑料铸件的浇铸模具 | |
RU2330049C1 (ru) | Фотоактивированная композиция для травления пленок диоксида кремния | |
Wang et al. | The simple two-step polydimethylsiloxane transferring process for high aspect ratio microstructures | |
JP2012153874A (ja) | 親水性モノマー、それを含有する親水性フォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 | |
CN110032041B (zh) | 光阻组合物、显示面板及其制备方法 | |
CN112051631A (zh) | 一种微透镜阵列膜的制备方法 | |
CN117341370B (zh) | 一种无外力下贴合曲面物体的软光刻印章的制备方法及其产品和应用 | |
CN116333551B (zh) | 一种微流控芯片表面处理剂、制备方法及其应用 | |
Yang et al. | Hydrogel printing based on UV-induced projection for cell-based microarray fabrication |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C05 | Deemed withdrawal (patent law before 1993) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20120711 |