CN102540764A

CN102540764A - 光源单元的排风系统及光刻机

Info

Publication number: CN102540764A
Application number: CN2012100304135A
Authority: CN
Inventors: 陈艳艳; 王剑锋; 王琳
Original assignee: Shanghai Advanced Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Shanghai Advanced Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2012-02-10
Filing date: 2012-02-10
Publication date: 2012-07-04

Abstract

本发明公开了一种光源单元的排风系统，包括排风管，所述排风管一端连接所述光源单元，另一端外接厂务排风单元，所述光源单元的排风系统还包括一鼓风机，所述鼓风机设置于所述排风管上。本发明还公开了一种光刻机，包括光源单元、光路传输系统、曝光系统与光源单元的排风系统，所述光源单元发出的光经光路传输系统传递到曝光系统，光源单元的排风系统包括排风管和鼓风机，排风管一端连接所述光源单元，另一端外接厂务排风单元，鼓风机设置于排风管上。通过在排风管上增设鼓风机，可以实现对光源单元的稳定、有效排风，避免光源单元由于热量不能及时排出而出现非正常灭灯，从而保护光源单元，同时可避免光刻机因光源单元非正常灭灯出现停机现象。

Description

光源单元的排风系统及光刻机

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种光源单元的排风系统及光刻机。

背景技术

目前，在制造半导体器件、平板显示器等装置时，通常采用光刻机对基板进行构图。光刻制程主要包括在基板上涂敷光刻胶步骤、对涂敷在基板上的光刻胶进行曝光步骤以及对曝光的基板进行显影步骤。

请参阅图1，图1所示是现有的光刻机的结构示意图，其主要包括光源单元101、光路传输系统102与曝光系统103，所述光源单元101发出的光经所述光路传输系统102传递到曝光系统103，所述光源单元101与所述曝光系统设置于地板106上，该光源单元101会采用汞灯。由于汞灯在工作时会产生非常大的热量，所以需要对光源单元101配置一个排风系统以将光源单元101产生的热量及时排除。

由图1可知，现有的曝光系统的排风系统包括一排风管104，所述排风管104的一端接所述光源单元101，另一端外接厂务排风单元105。该曝光系统的排风系统直接通过排风管104将厂务排风单元105接到光源单元101，热量由排风管104排出光源单元101。但由于各种原因厂务排风单元105供给的排风不稳定且小于标准值，经常引发光源单元101非正常灭灯，造成光刻机宕机(即停机)，严重影响生产效率。

因此，如何提供一种可以实现对光源单元的稳定、有效排风的光源单元的排风系统及光刻机是本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光源单元的排风系统及光刻机，通过在排风管上增设鼓风机，实现对光源单元的稳定、有效排风，避免光源单元由于热量不能及时排出而出现非正常灭灯，防止光刻机出现停机现象。

为了达到上述的目的，本发明采用如下技术方案：

一种光源单元的排风系统，包括排风管，所述排风管一端连接所述光源单元，另一端外接厂务排风单元，所述光源单元的排风系统还包括一鼓风机，所述鼓风机设置于所述排风管上。

优选的，在上述的光源单元的排风系统中，所述鼓风机为低压鼓风机，压力范围是100pa～200pa。

优选的，在上述的光源单元的排风系统中，还包括一阀门，所述阀门设置于所述排风管上。

优选的，在上述的光源单元的排风系统中，所述鼓风机与光源单元的距离是0.5-2米。

本发明还公开了一种光刻机，包括光源单元、光路传输系统、曝光系统与光源单元的排风系统，所述光源单元发出的光经所述光路传输系统传递到所述曝光系统，所述光源单元的排风系统包括排风管和鼓风机，所述排风管一端连接所述光源单元，另一端外接厂务排风单元，所述鼓风机设置于所述排风管上。

优选的，在上述的光刻机中，所述光源单元采用汞灯单元。

优选的，在上述的光刻机中，所述鼓风机为低压鼓风机，压力范围是100pa～200pa。

优选的，在上述的光刻机中，所述光刻机为步进光刻机。

优选的，在上述的光刻机中，还包括一阀门，所述阀门设置于所述排风管上。

优选的，在上述的光刻机中，所述鼓风机与光源单元的距离是0.5-2米。

本发明提供的光源单元的排风系统及光刻机，通过在排风管上增设鼓风机，可以实现对光源单元的稳定、有效排风，避免光源单元由于热量不能及时排出而出现非正常灭灯，可以起到保护光源单元的作用，有效延长光源单元的使用寿命，同时，也可以避免因光源单元非正常灭灯引发的光刻机停机现象，从而，有效保护光刻机，且有效提高了生产效率。

附图说明

本发明的光源单元的排风系统及光刻机由以下的实施例及附图给出。

图1是现有的光刻机的结构示意图；

图2是本发明一实施例的光源单元的排风系统的结构示意图；

图3是本发明一实施例的光刻机的结构示意图。

图中，101、201-光源单元，102、202-光路传输系统、103、203-曝光系统，104、204-排风管，105、205-厂务排风单元、106、206-地板、207-鼓风机。

具体实施方式

以下对本发明的光源单元的排风系统及光刻机作进一步的详细描述。

下面将参照附图对本发明进行更详细的描述，其中表示了本发明的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本发明而仍然实现本发明的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本发明的限制。

为了清楚，不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能和结构，因为它们会使本发明由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中，必须作出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的，但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。

为使本发明的目的、特征更明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步的说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

实施例一

请参阅图2，本实施例提供的光源单元的排风系统包括排风管204，所述排风管204一端连接所述光源单元201，另一端外接厂务排风单元205，所述光源单元的排风系统还包括一鼓风机207，所述鼓风机207设置于所述排风管204上，所述光源单元201采用汞灯单元。通过在排风管204上增设鼓风机207，可以实现对光源单元201的稳定、有效排风，避免光源单元201由于热量不能及时排出而出现非正常灭灯，从而延长光源单元201的使用寿命。

较佳的，在本实施例的光源单元的排风系统中，所述鼓风机207为低压鼓风机，压力范围是100pa～200pa。经多次实验表明，该压力范围的鼓风机，可以在不损伤光源单元201的前提下，具有较高的抽风效率，可以有效去除光源单元201周边的热量。

较佳的，在本实施例的光源单元的排风系统中，还包括一阀门(未图示)，所述阀门设置于所述排风管204上。通过操作阀门，可以方便设备工程师对排风管进行关闭和开启大小控制。

较佳的，所述鼓风机207靠近光源单元201，所述鼓风机207与光源单元201的距离是0.5-2米。本实施例中，所述鼓风机207与光源单元201的距离是1米。通过将鼓风机207靠近光源单元201设置，可以进一步提高抽排光源单元201周边热量的效率。

实施例二

请参阅图3，本实施例提供的光刻机是步进光刻机，包括光源单元201、光路传输系统202、曝光系统203与光源单元的排风系统，所述光源单元201发出的光经所述光路传输系统202传递到所述曝光系统203，以实现对基板(未图示)的曝光。其中，所述光源单元的排风系统包括排风管204和鼓风机207，所述排风管204的一端连接所述光源单元201，所述排风管204的另一端外接厂务排风单元205，所述鼓风机207设置于所述排风管204上，所述光源单元201与所述曝光系统设置于地板206上。在本实施例的光刻机中，所述光源单元201采用汞灯单元。通过在排风管204上增设鼓风机207，可以实现对光源单元201的稳定、有效排风，避免光源单元201由于热量不能及时排出而出现非正常灭灯，可以起到保护光源单元201的作用，延长光源单元201的使用寿命，也可以避免因光源单元201非正常灭灯引发的光刻机停机现象，从而，有效保护光刻机，同时提高了生产效率。

较佳的，在本实施例的光刻机中，所述鼓风机207为低压鼓风机，压力范围是100pa～200pa。经多次实验表明，该压力范围的鼓风机，可以在不损伤光源单元201的前提下，具有较高的抽风效率，可以有效去除光源单元201周边的热量。

较佳的，在本实施例的光源单元的光刻机中，还包括一阀门(未图示)，所述阀门设置于所述排风管204上。通过操作阀门，可以方便设备工程师对排风管进行关闭和开启大小控制。

需要说明的是，由于本发明主要涉及光源单元的排风系统的改进，其它公知的光刻机构成部分如光源单元、光路传输系统和曝光系统不再赘述，但是本领域技术人员应是知晓的。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims

1.一种光源单元的排风系统，包括排风管，所述排风管一端连接所述光源单元，另一端外接厂务排风单元，其特征在于，所述光源单元的排风系统还包括一鼓风机，所述鼓风机设置于所述排风管上。

2.根据权利要求1所述的光源单元的排风系统，其特征在于，所述鼓风机为低压鼓风机，压力范围是100pa～200pa。

3.根据权利要求1所述的光源单元的排风系统，其特征在于，所述光源单元的排风系统还包括一阀门，所述阀门设置于所述排风管上。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的光源单元的排风系统，其特征在于，所述鼓风机与所述光源单元的距离是0.5-2米。

5.一种光刻机，包括光源单元、光路传输系统、曝光系统与光源单元的排风系统，所述光源单元发出的光经所述光路传输系统传递到所述曝光系统，其特征在于，所述光源单元的排风系统包括排风管和鼓风机，所述排风管一端连接所述光源单元，另一端外接厂务排风单元，所述鼓风机设置于所述排风管上。

6.根据权利要求5所述的光刻机，其特征在于，所述光源单元采用汞灯单元。

7.根据权利要求5所述的光刻机，其特征在于，所述鼓风机为低压鼓风机，压力范围是100pa～200pa。

8.根据权利要求5所述的光刻机，其特征在于，所述光刻机为步进光刻机。

9.根据权利要求5所述的光刻机，其特征在于，所述光刻机还包括一阀门，所述阀门设置于所述排风管上。

10.根据权利要求5～9中任意一项所述的光刻机，其特征在于，所述鼓风机与光源单元的距离是0.5-2米。