CN102476896A - 污水处理厂污泥除臭除毒法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了污水处理厂污泥除臭除毒法,包括以下步骤:(1)向污泥中加入含氯、铁和钙的添加剂,使污泥中的有机物腐殖质分解,达到污泥除臭;(2)向污泥中加含硫、钡和氢氧根的添加剂,使污泥中的有毒重金属转化为水不溶物,达到污泥除毒;(3)向除臭除毒后的污泥中,加入锅炉灰烧结成墙体砖或加入水泥、沙、石制成混凝土砖。 本发明可实现污泥的除臭除毒和资源化利用。
Description
技术领域
本发明涉及城市污水处理厂处理生活和工业废水过程中产生的污泥的处置方法。
背景技术
城市污水处理厂在处理生活和工业废水过程中,会产生大量的污泥,污泥中由于含有大量的有机物腐殖质及含有铬、镉、汞、铅、铜、锌等有毒重金属成份,因此都存在恶臭和重金属毒性污染的问题。目前城市污水处理厂对污泥的处理处置办法很多,有采用干化焚烧、有消化制沼气、有污泥堆肥、有污泥制陶粒等,而大多采取弃倒大海或送山谷、洼地填埋。这些办法,都没有很好地解决污泥的恶臭和重金属污染问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种城市污水处理厂污泥除臭除毒利用法,实现污泥除臭除毒和资源化利用。
本发明提供的一种城市污水处理厂污泥除臭除毒利用法,包括以下步骤:
(1)向污泥中加入含氯、铁和钙的添加剂,使污泥中的有机物腐殖质分解成水、二氧化碳和氮等稳定无毒物质,达到污泥除臭;
(2)向污泥中加含硫、钡和氢氧根的添加剂,使污泥中的铬、镉、汞、铅、铜、锌等重金属转化为水不溶物,达到污泥除毒;
主要化学反应如下:
Ba2+ + Cr042-箭头BaCr04
Cd2+十 20H-——————◆Cd(OH)2
2Hg++s2--———◆Hg2s
Pb2+ S2--——————◆PbS
Cu2++ 20H-———◆Cu(0H)2
Zn2++ 20H-———◆Zn(0H)2
(3)向除臭除毒后的污泥中,加入锅炉灰烧结成墙体砖或加入水泥、沙、石制成混凝土砖。
本发明与现有的污泥处理方法相比,具有以下特点:
l、本发明能有效消除污水处理厂产生的污泥的恶臭。
2、本发明能有效消除污水处理厂产生的污泥中的重金属污染。
3、本发明在处理污泥的过程中不产生气、水、尘、渣等二次污染。
4、本发明能使污泥得到完全的资源化利用。
5、本发明可采用化工生产的普通工艺和设备,一次性投资少,建设周期短,生产成本低,容易掌握操作。
下面结合实施例对本发明作进一步的说明。
具体实施方式
本发明对广州市大坦沙污水处理厂污泥进行了实验室和生产试验,处理过程如下:
(1)向污泥中加入含氯、铁和钙的添加剂,使污泥中的有机物腐殖质分解成水、二氧化碳和氮等稳定无毒物质,达到污泥除臭;
(2)向污泥中加含硫、钡和氢氧根的添加剂,使污泥中的铬、镉、汞、铅、铜、锌等重金属转化为水不溶物,达到污泥除毒;
(3)向除臭除毒后的污泥中,加入锅炉灰烧结成墙体砖。
毒性浸出结果(mg/1)如下:
处理前:总铬15.1、六价铬2.52、镉0.412、汞O.123、铅5.0l、铜72.5、锌l 10。
处理后:总铬<0.039、六价铬<0.004.、镉<0.00006、汞<0.004、铅<0.0008、铜<0.02、锌<0.039。
各项材料用量(重量配比):
除臭添加剂(含氯、铁、钙的添加剂):除毒添加剂(含硫、钡、氢氧根的添加剂):含水率80%污泥=2:1:20
除臭除毒后的干污泥:锅炉灰=7:3
污泥烧结墙体砖(240×115×53):质量达到抗压强度10.7Mpa(标准为6.7Mpa),吸水性<6.5%,耐磨性磨坑长度<32mm。
Claims (1)
1.污水处理厂污泥除臭除毒法,包括以下步骤:
(1)向污泥中加入含氯、铁和钙的添加剂,使污泥中的有机物腐殖质分解,达到污泥除臭;
(2)向污泥中加含硫、钡和氢氧根的添加剂,使污泥中的有毒重金属转化为水不溶物,达到污泥除毒;
(3)向除臭除毒后的污泥中,加入锅炉灰烧结成墙体砖或加入水泥、沙、石制成混凝土砖。
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CN105597696A (zh) * | 2015-12-25 | 2016-05-25 | 广东省南方环保生物科技有限公司 | 一种新型核壳结构生物填料及其制备方法 |
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Cited By (2)
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CN105597696A (zh) * | 2015-12-25 | 2016-05-25 | 广东省南方环保生物科技有限公司 | 一种新型核壳结构生物填料及其制备方法 |
CN105597696B (zh) * | 2015-12-25 | 2017-09-26 | 广东省南方环保生物科技有限公司 | 一种核壳结构生物填料及其制备方法 |
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PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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Application publication date: 20120530 |