CN102391296B - 疏水性硅烷分散剂的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种化工产品制备方法,具体涉及一种疏水性硅烷分散剂的制备方法。其技术方案是:首先将初始粒度为5-100nm硅酸用硅烷化合物进行浸渍处理,然后浸渍物在350-450℃下进行硅烷化再处理;所述的硅烷化合物为二甲基二氯硅烷或者三甲基氯硅烷,硅烷化合物的用量占硅酸重量的1%—2%。本发明具有工艺简单、成本低廉的优点,通过此方式获得的疏水性硅烷其疏水性表现在吸湿量小,能够阻止和减少氯化过程中氯化和未氯化的聚乙烯粒子结块,生产出不结块、表面硬度小、橡胶特性好、耐光强的氯化聚乙烯产品。
Description
技术领域
本发明涉及一种化工产品制备方法,具体涉及一种疏水性硅烷分散剂的制备方法。
背景技术
在氯化聚乙烯橡胶型产品生产过程中,由于聚乙烯必须充分氯化,而在氯化过程中,由于没有较好的分散剂,导致了聚乙烯粒子的结块,并因此降低了细颗粒组份。
发明内容
本发明的目的就是针对现有技术存在的缺陷,提供一种疏水性硅烷分散剂的制备方法,其获得的疏水性硅烷分散剂能够阻止和减少氯化过程中氯化和未氯化的聚乙烯粒子结块,完全满足了生产工艺的需要;生产出不结块、表面硬度小、橡胶特性好、耐光强的氯化聚乙烯产品。
本发明是通过如下技术方案实现的:
首先将初始粒度为5-100nm硅酸用硅烷化合物进行浸渍处理,然后浸渍物在350-450℃下进行硅烷化再处理;所述的硅烷化合物为二甲基二氯硅烷或者三甲基氯硅烷,硅烷化合物的用量占硅酸重量的1%—2%。
所述的硅酸初始粒度为10-35nm。
本发明具有工艺简单、成本低廉的优点,通过此方式获得的疏水性硅烷(理化数据表一),其疏水性表现在吸湿量小,约为未经疏水处理的1/5到1/20,经两小时在105℃下的干燥,一般情况下重量损失小于0.5%。大多数情况下,疏水性硅烷分散剂用量占聚乙烯重量的0.05%到5%之间,更好的是0.1%到1.0%重量,建议对于极易结块的聚乙烯或者氯化温度较高时,采用用量范围内上限,其能够有效阻止或减少氯化过程中氯化和未氯化的聚乙烯粒子结块,生产出不结块、表面硬度小、橡胶特性好、耐光强的氯化聚乙烯产品。
表一
具体实施方式
实施例1
一种疏水性硅烷分散剂的制备方法,首先将初始粒度10nm的硅酸用其重量的1%的二甲基二氯硅烷进行浸渍处理,接着浸渍物在400℃下进行再处理,即硅烷化,从而得到疏水性硅烷分散剂。
实施例2
一种疏水性硅烷分散剂的制备方法,首先将初始粒度35nm的硅酸用其重量的2%的二甲基二氯硅烷进行浸渍处理,接着浸渍物在380℃下进行再处理,即硅烷化,从而得到疏水性硅烷分散剂.
实施例3
一种疏水性硅烷分散剂的制备方法,首先将初始粒度5nm的硅酸用其重量的1%的二甲基二氯硅烷进行浸渍处理,接着浸渍物在420℃下进行再处理,即硅烷化,从而得到疏水性硅烷分散剂。
实施例4
一种疏水性硅烷分散剂的制备方法,首先将初始粒度100nm的硅酸用其重量的2%的二甲基二氯硅烷进行浸渍处理,接着浸渍物在400℃下进行再处理,即硅烷化,从而得到疏水性硅烷分散剂。
实施例5
一种疏水性硅烷分散剂的制备方法,首先将初始粒度50nm的硅酸用其重量的1%的二甲基二氯硅烷进行浸渍处理,接着浸渍物在400℃下进行再处理,即硅烷化,从而得到疏水性硅烷。
实施例6
一种疏水性硅烷分散剂的制备方法,在实施例1的基础上,把二甲基二氯硅烷换为三甲基氯硅烷,从而得到疏水性硅烷分散剂。
实施例7
一种疏水性硅烷分散剂的制备方法,在实施例2的基础上,把二甲基二氯硅烷换为三甲基氯硅烷分散剂。
实施例8
一种疏水性硅烷分散剂的制备方法,在实施例3的基础上,把二甲基二氯硅烷换为三甲基氯硅烷,从而得到疏水性硅烷分散剂。
实施例9
一种疏水性硅烷分散剂的制备方法,在实施例4的基础上,把二甲基二氯硅烷换为三甲基氯硅烷,从而得到疏水性硅烷分散剂。
实施例10
一种疏水性硅烷分散剂的制备方法,在实施例5的基础上,把二甲基二氯硅烷换为三甲基氯硅烷,从而得到疏水性硅烷分散剂。
以上仅仅是本方案的部分优选实施例,本领域技术人员完全可以在本技术方案保护的范围内采用其他的实施例来实现,烷基化的温度、氯化聚乙烯时催化剂的用量、硅酸的种类(如焦硅酸、沉淀硅酸)及初始粒度等均可以做适当调整,都可以达到本发明的技术效果,在此就不一一赘述。
Claims (1)
1.一种疏水性硅烷分散剂的制备方法,其特征在于:首先将初始粒度为10-35 nm硅酸用硅烷化合物进行浸渍处理,然后浸渍物在350-450℃下进行硅烷化再处理;所述的硅烷化合物为二甲基二氯硅烷或者三甲基氯硅烷,硅烷化合物的用量占硅酸重量的1%—2%。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4208316A (en) * | 1978-06-29 | 1980-06-17 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler | Hydrophobic precipitated silicic acid and compositions containing same |
US4273589A (en) * | 1976-06-28 | 1981-06-16 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler | Precipitated silicic acid, method and compositions containing same |
CN1167729A (zh) * | 1996-04-26 | 1997-12-17 | 德古萨股份公司 | 硅烷化硅酸 |
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