按键装置
技术领域
本发明涉及一种按键装置,特别是指一种按键装置的结构改良。
背景技术
参阅图1,以往计算机键盘的按键结构大致包括一底座91、一设置在底座91上的电路单元92、一键帽93、设置在电路单元92与键帽93之间的一支撑连杆94与一触压元件95,其中,支撑连杆94底部是可转动的连接在底座91上,且支撑连杆94底部与底座91之间的连接关系通常为轴(轴件)-孔(孔洞)配合,且轴孔之间通常为余隙配合,因此,当整个按键结构由于承受外在震动、触动或按压,使得轴件在孔洞内动作时,较容易产生噪音。
由此可见,上述现有的按键结构显然仍存在有不便与缺陷,而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题,相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道,但长久以来一直未见适用的设计被发展完成,而一般按键结构又不能够解决上述问题,此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新的按键装置,实属当前重要研发课题之一,亦成为当前业界极需改进的目标。
发明内容
本发明的一个目的在于,克服现有的按键结构存在的缺陷,而提供一种新的按键装置,所要解决的技术问题是降低轴-孔配合之间因震动、触动或按压而产生的噪音,非常适于实用。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的按键装置包含一基板、一电路单元、一键帽、一触压元件以及一支撑杆,该基板具有一板本体以及一孔座,该板本体具有一顶面,该孔座连接于该板本体顶面并且形成一横向延伸的通孔,该电路单元设置于该基板的板本体顶面并且包括多数层结构,该键帽位于该电路单元上方,该触压元件为可挠性材质设置于该键帽下方,该支撑杆具有相连接的一第一杆部与一第二杆部,该第一杆部枢设于该键帽,该第二杆部穿设于该孔座的通孔。该电路单元还包括一由其中一层结构凸出形成并且间隔于该基板的板本体顶面上方的活动舌片,该活动舌片具有一邻近该孔座的端部,且该活动舌片位于该第二杆部下方并且该端部抵触于该第二杆部而支撑该第二杆部往上与该孔座接触。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
较佳地,前述的按键装置,其中所述层结构包括一第一电路层、一位于该第一电路层上方的第二电路层以及一结合于该第一电路层与该第二电路层之间的间隔层,该第二电路层形成有至少一第一沟槽,该第一沟槽界定出该活动舌片,该第一电路层对应于该活动舌片下方的区域形成有一第二沟槽,该间隔层对应于该活动舌片下方的区域形成有一连通该第二沟槽的第三沟槽。
较佳地,前述的按键装置,其中该第二电路层还形成有一连通该第一沟槽一端的第一开口,该第一电路层还形成有一连通该第二沟槽一端的第二开口,该间隔层还形成有一连通该第三沟槽一端的第三开口,所述第一开口、第二开口与第三开口相对应连通而界定出一镂空区,该电路单元通过镂空区套设于该孔座,使该活动舌片的端部邻近该孔座。
较佳地,前述的按键装置,其中该第二电路层形成有两第一沟槽,所述第一沟槽同向的一端连通该第一开口,所述第一沟槽之间界定出该活动舌片,该活动舌片的一凸出方向与该通孔的延伸方向相平行。
较佳地,前述的按键装置,其中所述层结构包括一第一电路层、一位于该第一电路层上方的第二电路层以及一结合于该第一电路层与该第二电路层之间的间隔层,该间隔层形成有至少一第一沟槽,该第一沟槽界定出该活动舌片,该第一电路层对应于该活动舌片下方的区域形成有一第二沟槽,该第二电路层对应于该活动舌片上方的区域形成有一第三沟槽。
较佳地,前述的按键装置,其中该间隔层还形成有一连通该第一沟槽一端的第一开口,该第一电路层还形成有一连通该第二沟槽一端的第二开口,该第二电路层还形成有一连通该第三沟槽一端的第三开口,所述第一开口、第二开口与第三开口相对应连通而界定出一镂空区,该电路单元通过该镂空区套设于该孔座,使该活动舌片的端部邻近该孔座。
较佳地,前述的按键装置,其中该间隔层形成有两第一沟槽,所述第一沟槽同向的一端连通该第一开口,所述第一沟槽之间界定出该活动舌片,该活动舌片的一凸出方向与该通孔的延伸方向相平行。
较佳地,前述的按键装置,其中该第一沟槽呈L型并且与该第一开口配合界定出该活动舌片,该活动舌片的一凸出方向与该通孔的延伸方向相垂直。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的按键装置包含一基板、一片体、一触压元件、一键帽以及一支撑杆,该基板具有一板本体以及一孔座,该板本体具有一顶面,该孔座连接于该板本体顶面并且界定出一横向延伸的通孔,该片体设置于该基板,该触压元件凸出该片体,该键帽设置于该触压元件上,该支撑杆具有相连接的一第一杆部与一第二杆部,该第一杆部枢设于该键帽,该第二杆部穿设于该孔座的通孔。该片体形成有一间隔于该基板板本体顶面上方的活动舌片,该活动舌片具有一邻近该孔座的端部,且该活动舌片位于该第二杆部下方并且该端部抵触于该第二杆部而支撑该第二杆部往上与该孔座接触。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
较佳地,前述的按键装置,其中该片体设有至少一第一沟槽以及一端连通该第一沟槽的一第一开口,该第一沟槽与该第一开口配合界定出该活动舌片。
较佳地,前述的按键装置,其中该第一沟槽呈L型。
较佳地,前述的按键装置,其中该片体设有一对第一沟槽,所述第一沟槽同向的一端与该第一开口连通,所述第一沟槽之间配合界定出该活动舌片。
较佳地,前述的按键装置,其中该按键装置还包含一设置于该基板的板本体顶面与该片体之间的电路单元,该电路单元对应于该活动舌片下方形成有一凹陷空间,使该活动舌片具有可往下变形的空间。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案,本发明至少具有下列优点及有益效果:
本发明通过活动舌片支撑于支撑杆的第二杆部下方,使该第二杆部抵触于该孔座而消除第二杆部与孔座底缘之间的间隙,进而便能避免第二杆部会频繁撞击于孔座底缘而产生噪音。
综上所述,本发明提供的按键装置具有噪音低等特点,在技术上有显著的进步,并具有明显的积极效果,诚为一新颖、进步、实用的新设计。
上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。
附图说明
图1是现有技术的一计算机键盘的按键结构的剖视图;
图2是本发明按键装置的第一较佳实施例的立体图;
图3是该第一较佳实施例的分解图;
图4是该第一较佳实施例的一电路单元的分解图;
图5是该第一较佳实施例的一键帽与一支撑杆结合的立体图;
图6是该第一较佳实施例的支撑杆与一基板结合的立体图;
图7是该第一较佳实施例的纵向剖视图;
图8是该第一较佳实施例中,位在该电路单元的多个活动舌片的第一种变化态样示意图;
图9为活动舌片在图8的态样下,支撑杆的一种变化态样示意图;
图10是该第一较佳实施例中,所述活动舌片的第二种变化态样示意图;
图11是本发明按键装置的一第二较佳实施例的立体分解图;
图12是该第二较佳实施例的纵向剖视图;
图13是本发明按键装置的一第三较佳实施例的立体分解图;以及
图14是该第三较佳实施例的纵向剖视图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,对依据本发明提出的按键装置的具体实施方式、结构、特征及其功效,详细说明如后。
在本发明被详细描述之前,要注意的是,在以下的说明内容中,类似的元件是以相同的编号来表示。
本发明的按键装置可为计算机键盘的按键装置,但并不以此为限,其也可以是其他电子装置的按键、数字键盘等等,且为方便图式与说明,以下的实施例中,只以计算机键盘的其中一个按键装置做说明,参阅图2与图3,本发明按键装置100的第一较佳实施例包含一基板1、一电路单元2、一支撑杆3、一键帽4以及一触压元件5,当然,该按键装置100可能还包含其他支撑元件或构件(图未示),例如剪刀元件。
基板1包括一板本体11以及多个孔座12,板本体11具有一顶面111,每一孔座12连接在板本体11的顶面111并且形成有一横向延伸的通孔121,此处所谓横向延伸,是指通孔121的延伸方向82大致呈平行板本体11顶面111的方向。
在本实施例中,孔座12为板本体11局部被冲压呈U型并且往上弯折呈倒U型结构122而形成,该倒U型结构122界定出前述的通孔121,且每一倒U型结构122具有一配合界定出该通孔121的底缘123(见图7)。
参阅图3、图4、图7,电路单元2设置在基板1的板本体11顶面111上并且包括多层结构以及多个形成于其中一层结构而间隔于板本体11顶面111的活动舌片24,本实施例中,上述层结构包括一第一电路层21、一位于第一电路层21上方的第二电路层22以及一结合在第一电路层21与第二电路层22之间的间隔层23,第二电路层22、间隔层23与第一电路层21是呈上下相叠置的状态,在本实施例中,第一电路层21、第二电路层22以及间隔层23为PET(聚酯)材质,且第一电路层21的顶面与第二电路层22的底面设有电路(图未示),触压元件5是设置在第二电路层22顶面上,触压元件5的材质为例如硅胶,当触压元件5受到往下的按压力时,能压迫第二电路层22位于触压元件5下方的区域直接与第一电路层21位于触压元件5下方的区域接触而形成电性连接。
上述活动舌片24是凸出形成在电路单元2的其中一层结构并且如图7所示,当电路单元2设置在基板1的板本体11顶面111时,活动舌片24间隔于板本体11顶面111上方,且每一活动舌片24具有一端部241,在本实施例中,上述活动舌片24的形成是第二电路层22位于触压元件5的两侧分别设有一第一开口221以及一对相平行并且同向的一端连通第一开口221的第一沟槽222,相连通的第一沟槽222与第一开口221轮廓大致呈U型,每一对第一沟槽222之间界定出前述的活动舌片24而呈长条状,换句话说,活动舌片24实际上为第二电路层22的局部区域所形成,且如图3所示,活动舌片24相对于第二电路层22的凸出方向81与通孔121延伸的方向82相平行,而前述所指的活动舌片24端部241即为其自由端。
间隔层23对应每一活动舌片24的下方的区域分别形成有一第三沟槽232,且间隔层23还形成有一连通第三沟槽232一端的第三开口231,相连通的第三开口231与第三沟槽232轮廓大致呈T型。第一电路层21对应每一活动舌片24的下方的区域形成有一第二沟槽212,且第一电路层21还形成有一连通第二沟槽212一端的第二开口211,相连通的第二开口211与第二沟槽212轮廓大致呈T型。当第二电路层22、间隔层23与第一电路层21相叠置结合时,每一活动舌片24由于下方的第二沟槽212、第三沟槽232所提供的空间而可上下变形活动,而上述第一开口221、第二开口211、与第三开口231则相对应连通而配合界定出一镂空区20,电路单元2是以其位在触压元件5两侧的两镂空区20套设在基板1的两孔座12而设置在基板1的板体11顶面111,因而使得两活动舌片24的位置分别对应两孔座12,并且每一活动舌片24的端部241邻近孔座12而朝向通孔121。
参阅图3、图5至图7,支撑杆3大致呈U型并且具有一第一杆部31以及由第一杆部31两端同向延伸出的两第二杆部32,本实施例的支撑杆3是用以支撑尺寸较大的键帽4的平衡杆件,但该支撑杆3也可以是指剪刀元件的其中一支撑杆。每一第二杆部32具有一连接第一杆部31的头段320以及一连接头段320的末段321,支撑杆3的第一杆部31枢设在键帽4底部,而两第二杆部32则分别末段321穿设于基板1的两孔座12的通孔121而分别位在触压元件5两侧,且此时,键帽4是位在触压元件5顶部受触压元件5的支撑,换句话说,触压元件5是位在键帽4下方而介于键帽4与电路单元2之间。当键帽4未受往下的按压力时,两第二杆部32呈倾斜状,当键帽4受往下的按压力时,则挤压触压元件5并且键帽4与支撑杆3的第一杆部31往下邻近电路单元2,而当往下的按压力量消失时,借助触压元件5的弹性回复力,键帽4往上远离电路单元2。
值得注意的是,在本实施例中,借由上述活动舌片24的设置,当支撑杆3组装结合在键帽4与基板1之间时,两活动舌片24恰位于两第二杆部32下方,且每一活动舌片24的端部241抵接于每一第二杆部32的末段321下方,由于活动舌片24为PET材质,其具有可挠性之余,也具有一定程度的刚性,因此,当活动舌片24的端部241抵接于第二杆部32的末段321下方时,能将第二杆部32往上支撑,使第二杆部32抵触于孔座12倒U型结构122底缘123,如此一来,便能消除第二杆部32与倒U型结构122底缘123之间的间隙,避免按键装置100在受到外力震动时,第二杆部32会频繁撞击于倒U型结构122的底缘123而产生低频的噪音,除此之外,由于活动舌片24大致呈悬臂状结构,当第二杆部32由于受压而往下位移时,活动舌片24也能随第二杆部32的下移而往下变形,并不会影响到第二杆部32的可活动性。
在第一较佳实施例中,支撑杆3是呈U型而包括一第一杆部31以及两第二杆部32,但支撑杆3的结构也可以是只有图6第二杆部32的部份,分别位在键帽4的两侧,此时,所指的支撑杆第一杆部与第二杆部便分别是图6第二杆部32分别枢接在键帽4以及穿设在孔座12的通孔121的两端,例如头段320以及末段321。
参阅图8,为上述第一较佳实施例中,上述活动舌片的第一种变化态样,与图4的差异在于,在图8中,形成在第二电路层29的第一沟槽292大致呈L型并且一端与第一开口293相连通,第一沟槽292与第一开口293相配合界定出活动舌片291,且活动舌片291相对于第二电路层29的凸出方向83与通孔121的延伸方向84相垂直,两活动舌片291的自由端相向,且活动舌片291的自由端朝向第一沟槽292,而前述所指的活动舌片291端部290是指活动舌片291朝向第一开口293的一侧端。
而下方的间隔层23与第一电路层21对应于活动舌片291下方的位置分别设有开孔233、213,提供活动舌片291具有受压往下变形的空间。
而在活动舌片291的态样与图8相同的情况下,参阅图9,支撑杆3’的第二杆部33也可以是呈L型,换句话说,第二杆部33的头段330与末段331相连接呈L型,且两第二杆部33的末段331相向。
且对应支撑杆3’的结构变化,基板1’孔座13的通孔131的延伸方向85是与活动舌片291的凸出方向83相平行,也就是说,图9的基板1’孔座13的通孔131的延伸方向85相较于图8的基板1孔座12通孔121的延伸方向84是配合第二杆部33的末段331的方向改变而旋转90度,因而使得支撑杆3’的两第二杆部33末段331同样能穿设于两孔座13的通孔131。
当支撑杆3’组装结合在基座1’时,活动舌片291同样能以其端部290抵接在第二杆部33的末段331下方,而达到与上述相同的效果。
参阅图10,为该第一较佳实施例的活动舌片第二种变化态样,其与图8的差异处是在于,在图10中,第二电路层25的第一沟槽252形成的方向洽与图8的第一沟槽292的方向相反,使得两活动舌片251的自由端相背向,而所指的活动舌片251端部250指活动舌片251朝向第一开口253的一侧端。
参阅图11、图12,为本发明按键装置101的第二较佳实施例,与图4所示的第一较佳实施例的差异在于,在第二较佳实施例中,上述活动舌片28是连接在间隔层27,换句话说,活动舌片28的形成是间隔层27位于触压元件5的两侧分别设有一第一开口271以及一对相平行并且同向的一端连通第一开口271的第一沟槽272,相连通的第一沟槽272与第一开口271轮廓大致呈U型,每一对沟槽272之间界定出活动舌片28。而第二电路层26对应每一活动舌片28的上方的区域分别形成有一第三沟槽262,且第二电路层26还形成有一连通第三沟槽262一端的第三开口261,相连通的第三沟槽262与第三开口261轮廓大致呈T型。当第一电路层21、第二电路层22与间隔层23相叠置结合时,活动舌片28是介于第一电路层21的第二沟槽212与第二电路层26的第三沟槽262之间,借由第一沟槽212所提供的空间,活动舌片28同样是间隔于基板1的板本体11顶面111上方,并且活动舌片28的端部281抵接于第二杆部32的下方,并且将第二杆部32往上支撑使其抵触于孔座12的底缘123。当然,由于相较于图4的活动舌片24,图12的活动舌片28高度较低,因此活动舌片28的长度会略长于图4的活动舌片24,才足以将第二杆部32往上支撑使其抵触于孔座12的底缘123。
第二较佳实施例形成在间隔层27的活动舌片28结构也可以是如图8与图10的态样。
参阅图13、图14,为本发明的第三较佳实施例,与图4的第一较佳实施例不同的地方在于,第三较佳实施例的按键装置102还包含一片体6(例如遮光片或橡胶片(rubber sheet)),按键装置102也有可能是同时包含分别为遮光片与橡胶片的多个片体。
该片体6可为硅胶材质设置在电路单元7上而介于电路单元7与键帽4之间,触压元件5是由片体6一体成型的往上凸出形成(在其他实施态样中,触压元件5也可以是分开设置在片体6或电路单元7上),且片体6位于触压元件5的两侧分别设有一第一开口61以及一对相平行并且同向的一端连通第一开口61的第一沟槽62,相连通的第一沟槽62与第一开口61轮廓大致呈U型,每一对第一沟槽62之间界定出一活动舌片63。电路单元7的第一电路层71、第二电路层72以及间隔层73每一个分别对应每一活动舌片63的下方的区域分别形成有一第四沟槽712、722、732,且第一电路层71、第二电路层72以及间隔层73每一个还形成有一连通第四沟槽712、722、732一端的第四开口711、721、731,相连通的第四沟槽712、722、732与第四开口711、721、731轮廓大致呈T型,当电路单元7的第一电路层71、第二电路层72以及间隔层73相叠置结合时,位在同一侧的第四沟槽712、722、732与第四开口711、721、731相对应连通,且对应于活动舌片63下方的上述第四沟槽712、722、732配合界定出一凹陷空间,供活动舌片63具有随着第二杆部32的下压而往下变形的空间。
换句话说,在第三较佳实施例中,活动舌片63并不是形成在电路单元7,而是形成在位于电路单元7上方的片体6(例如遮光片或橡胶片)上,当支撑杆3组装结合在键帽4与基板1之间时,每一活动舌片63的端部631抵接于每一第二杆部32的下方,将第二杆部32往上支撑并抵触于孔座12倒U型结构122底缘123,消除第二杆部32与倒U型结构122底缘123之间的间隙,进而避免按键装置102在受到外力震动、触动或按压时,第二杆部32会频繁撞击在倒U型结构122的底缘123而产生低频的噪音,电路单元7则是借由第四沟槽712、722、732提供的空间可供活动舌片63随着第二杆部32往下活动而变形。
当然,图13、图14的第三较佳实施例中,片体6所形成的活动舌片63结构也可以是如图8与图10的态样。
综上所述,本发明借由活动舌片24、251、28、291、63的形成,使其可支撑于支撑杆3的第二杆部32,使第二杆部32往上抵触于孔座12而消除第二杆部32与孔座12底缘123之间的间隙,进而便能避免第二杆部32会频繁撞击于孔座12底缘123而产生噪音,故确实能达成本发明的目的。再者,本发明的活动舌片24、251、28、291、63支撑于支撑杆3的技术,也可以运用来支撑如图1所示的支撑连杆94中任一的轴-孔配合。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的方法及技术内容作出些许的更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。