CN102368140A - 显影方法及显影设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显影方法及显影设备。该显影方法包括以下步骤:提供显影设备,显影设备包括基板传送装置和喷淋装置,喷淋装置包括平行排列的喷管,喷管上设置有喷嘴;提供基板;以及使基板与平行排列的喷管的轴线垂直线成3°~5°夹角的方向运动,使喷淋装置喷出的显影液涂布在基板上。应用本发明的技术方案,喷嘴不是以一排的方式喷射,而是有一个较小的错位,这种排列可以克服由于喷嘴间相互干扰而造成的显影液喷淋不均匀的现象。
Description
技术领域
本发明涉及等离子显示屏制造领域,具体而言,涉及一种显影方法及显影设备。
背景技术
等离子显示屏是一种自发光、重量轻、视角宽、厚度薄、全数字化、动态显示效果好的新型平板显示器件。
光刻蚀工艺是等离子显示屏制作过程中相当重要的工艺步骤,主要包括光刻蚀胶涂布步骤、曝光步骤与显影步骤等。其中,显影不仅受感光剂性质和原版状态的制约,更受到显影条件如显影液的浓度、温度、疲劳程度以及显影时间等的影响。其中,显影液的浓度一般是指显影主剂的含量。显影液浓度不足,不仅会增加显影时间,而且容易造成显影不彻底。浓度过大,则显影时间加快,整个过程难以控制,易造成显影过度,溶解受光的感光层,降低其附着力。在其他显影条件相对稳定的情况下,显影温度越高,显影速度越快,反之则越慢。显影液温度随喷嘴角度变化而变化,角度越小喷射到基板上的温度越高,扇形角度越大喷射到基板上的温度越低。显影液压力随喷嘴角度变化而变化,角度越小喷射到基板上的压力越大,扇形角度越大喷射到基板上的压力越小。
现有技术中,显影设备通常包括基板传送装置和喷淋装置。如图1所示,喷淋装置包括平行排列的喷管10’,喷嘴11’成预定的密度设置在喷管10’上,基板20’在基板传送装置的作用下沿垂直于平行排列的喷管10’的轴线方向运动(运动方向如箭头a’表示的方向),使喷嘴喷出的显影液喷洒在基板20’表面。但是,由于诸多因素的影响,显影液喷淋的均匀度一直存在或多或少的问题。
发明内容
本发明旨在提供一种显影方法及显影设备,以改善显影不均匀的现象。
为了实现上述目的,根据本发明的一个方面,提供了一种显影方法。该显影方法包括以下步骤:提供显影设备,显影设备包括基板传送装置和喷淋装置,喷淋装置包括平行排列的喷管,喷管上设置有喷嘴;提供基板;以及使平行排列的喷管的延伸方向从垂直于基板运动的方向偏离3°~5°夹角,使喷淋装置喷出的显影液涂布在基板上。
进一步地,调整平行排列的喷管使基板的运动方向与平行排列的喷管的轴线垂直线成3°~5°夹角。
进一步地,调整基板传送装置使基板的运动方向与平行排列的喷管的轴线垂直线成3°~5°夹角。
进一步地,显影液的温度为28~32℃,显影液的压力为70~130KPa;显影液的流量为60~130L/min,显影液的质量百分比浓度为0.30%~0.40%。
进一步地,基板相对于喷淋装置的运动速度为2.8m/min。
根据本发明的另一个方面,提供一种显影设备,该设备包括基板传送装置以及喷淋装置,喷淋装置包括平行排列的喷管,喷管上设置有喷嘴;平行排列的喷管的延伸方向从垂直于基板运动的方向偏离3°~5°夹角。
进一步地,喷嘴均匀地设置在喷管上。
进一步地,两相邻喷管上的喷嘴相互交错设置。
应用本发明的技术方案,基板与平行排列的喷管的轴线垂直线成3°~5°的夹角方向运动,使喷淋装置喷出的显影液涂布在基板上。这样,喷嘴不是以一排的方式喷射,而是有一个较小的错位,这种排列可以克服由于喷嘴间相互干扰而造成的显影液喷淋不均匀的现象。
附图说明
说明书附图用来提供对本发明的进一步理解,构成本发明的一部分,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1示出了根据现有技术的显影装置局部示意图;以及
图2示出了根据本发明实施例的显影装置局部示意图。
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
根据本发明一种典型的实施方式,提供一种显影方法,以改善显影不均的问题。该显影方法包括以下步骤:提供显影设备,如图2所示,显影设备包括基板传送装置和喷淋装置,喷淋装置包括平行排列的喷管10,喷管10上设置有喷嘴11;提供基板20;以及使平行排列的喷管10的延伸方向从垂直于基板运动的方向偏离3°~5°夹角,使喷淋装置喷出的显影液涂布在基板20上。在实际工作中,本领域技术人员为了使显影液尽可能均匀的喷淋在基板上,通常采取的措施是将喷嘴尽可能均匀的排布,但是由于喷嘴之间也会产生相互干扰,即使喷嘴较均匀的排布后,仍可能存在喷淋不均匀的现象。采用本发明的技术方案,使基板20与平行排列的喷管10的轴线垂直线成3°~5°夹角的方向运动,这样喷嘴不是以一排的方式喷射,而是有一个较小的错位,这种排列就可以克服由于喷嘴间相互干扰而造成的显影液喷淋不均匀的现象。
根据本发明一种典型的实施方式,本领域技术人员可以采用现有的显影设备,只通过调整平行排列的喷管10的方向,使基板20的运动方向与平行排列的喷管10的轴线垂直线成3°~5°夹角。因此,其工艺简单,不需额外的工艺设备。当然,在可以实施的情况下,也可以调整基板传送装置使基板20的运动方向与平行排列的喷管10的轴线垂直线成3°~5°夹角。
在采用本发明的技术方案进行显影时,其显影参数可以根据本领域常规的参数进行调整,优选的,显影液的温度为28~32℃,显影液的压力为70~130KPa;显影液的流量为60~130L/min,显影液的质量百分比浓度为0.30%~0.40%。将参数设置在上述范围内,较容易控制显影质量。基板相对于喷淋装置的运动速度为2.8m/min,显影液喷淋的最均匀。
根据本发明一种典型的实施方式,提供一种实施上述显影方法的显影设备。该显影设备包括基板传送装置,以及喷淋装置,喷淋装置包括平行排列的喷管10,喷管10上设置有喷嘴11;平行排列的喷管10的延伸方向从垂直于基板20运动的方向偏离3°~5°夹角,这样使得喷淋装置喷出的显影液均匀地涂布在基板20上。
根据本发明的一种典型的实施方式中所用的显影设备,喷淋装置上的喷嘴11是均匀地设置在喷管10上,两相邻喷管10上的喷嘴11相互交错设置。这样设置使得喷嘴的排布尽可能的均匀,由于喷嘴之间会相互产生干扰,将两相邻喷管10上的喷嘴11相互交错设置有利于降低喷嘴11之间的干扰和消除图形的不均匀性。
下面将结合实施例详细说明本发明技术方案的有益效果。
实施例1-9的显影参数设置如表一。
表一
其中,“夹角”是指基板20与平行排列的喷管10的垂直线成3°夹角的方向运动。
实施例1-9的显影结果如表二,其中01、02、03是实施例1-9的三个重复,A、B、C是0°“夹角”,其他条件与实施例1-9分别相同的对比例1-9的显影结果。
表二
使用现有技术中未倾斜的显影设备重复上述9个实施例,显影后线宽数据见表二中A、B、C数据,线宽离散度很大,经常超出工序控制的±10%的要求。实施例1-9显影后线宽数据见表二中01、02、03。从对比数据可以发现,改造后的数据基本可以控制在105±1微米以内。说明本发明的技术方案明显的改善了显影不均匀的现象。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种显影方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供显影设备,所述显影设备包括基板传送装置和喷淋装置,所述喷淋装置包括平行排列的喷管(10),所述喷管(10)上设置有喷嘴(11);
提供基板(20);以及
使所述平行排列的喷管(10)的延伸方向从垂直于所述基板(20)运动的方向偏离3°~5°夹角,使喷淋装置喷出的显影液涂布在所述基板(20)上。
2.根据权利要求1所述的显影方法,其特征在于,调整所述平行排列的喷管(10)使所述基板(20)的运动方向与所述平行排列的喷管(10)的轴线垂直线成3°~5°夹角。
3.根据权利要求1所述的显影方法,其特征在于,调整所述基板传送装置使所述基板(20)的运动方向与所述平行排列的喷管(10)的轴线垂直线成3°~5°夹角。
4.根据权利要求1所述的显影方法,其特征在于,所述显影液的温度为28~32℃,所述显影液的压力为70~130KPa;所述显影液的流量为60~130L/min,所述显影液的质量百分比浓度为0.30%~0.40%。
5.根据权利要求4所述的显影方法,其特征在于,所述基板(20)相对于所述喷淋装置的运动速度为2.8m/min。
6.一种显影设备,其特征在于,包括
基板传送装置,以及
喷淋装置,所述喷淋装置包括平行排列的喷管(10),所述喷管(10)上设置有喷嘴(11);
所述平行排列的喷管(10)的延伸方向从垂直于所述基板(20)运动的方向偏离3°~5°夹角。
7.根据权利要求6所述的显影设备,其特征在于,所述喷嘴(11)均匀地设置在所述喷管(10)上。
8.根据权利要求6所述的显影设备,其特征在于,两个相邻的所述喷管(10)上的喷嘴(11)相互交错设置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104785401A (zh) * | 2015-05-13 | 2015-07-22 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种喷涂装置和喷涂方法 |
CN105807565A (zh) * | 2013-09-17 | 2016-07-27 | 爱客易股份有限公司 | 基板件的表面处理装置 |
CN107552254A (zh) * | 2017-08-08 | 2018-01-09 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种显影设备及显影方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000162424A (ja) * | 1998-11-27 | 2000-06-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラーフィルタ基板現像装置 |
US20010043813A1 (en) * | 2000-05-10 | 2001-11-22 | Tokyo Electron Limited | Developing unit and developing method |
CN1680099A (zh) * | 2002-02-05 | 2005-10-12 | 精工爱普生株式会社 | 液滴喷出装置和其驱动方法以及它们的应用 |
CN1931581A (zh) * | 2002-01-30 | 2007-03-21 | 精工爱普生株式会社 | 光电装置及其制造方法、喷出方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000162424A (ja) * | 1998-11-27 | 2000-06-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラーフィルタ基板現像装置 |
US20010043813A1 (en) * | 2000-05-10 | 2001-11-22 | Tokyo Electron Limited | Developing unit and developing method |
CN1931581A (zh) * | 2002-01-30 | 2007-03-21 | 精工爱普生株式会社 | 光电装置及其制造方法、喷出方法 |
CN1680099A (zh) * | 2002-02-05 | 2005-10-12 | 精工爱普生株式会社 | 液滴喷出装置和其驱动方法以及它们的应用 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105807565A (zh) * | 2013-09-17 | 2016-07-27 | 爱客易股份有限公司 | 基板件的表面处理装置 |
CN104785401A (zh) * | 2015-05-13 | 2015-07-22 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种喷涂装置和喷涂方法 |
CN107552254A (zh) * | 2017-08-08 | 2018-01-09 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种显影设备及显影方法 |
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