CN102364696A - 晶体硅太阳能电池的钝化方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及太阳能电池钝化实现方法技术领域,特别是一种晶体硅太阳能电池的钝化方法。该方法为:在低温下用热氧化的方法在硅片的表面生长一层厚度为5-50nm的二氧化硅薄膜,温度范围为600℃-800℃,氧化时间为5-60min。二氧化硅薄膜作为太阳能电池的一层钝化层,在这层钝化层的表面另外再沉积一层钝化层,形成叠层的钝化膜来钝化电池的表面。本发明的有益效果是:在太阳能电池的表面多增加一层本发明所涉及的二氧化硅钝化膜,再加上一层如SiNx薄膜的钝化层之后,相对于单层的SiNx薄膜或高温下生长的二氧化硅薄膜的叠层钝化的钝化,效率可以提升0.2%以上,电压可以提高5-8mV,电流也有50-100mA的提升。
Description
技术领域
本发明涉及太阳能电池钝化实现方法技术领域,特别是一种晶体硅太阳能电池的钝化方法。
背景技术
太阳能电池的钝化是提高电池效率一个主要的途径。现有的钝化技术有PECVD沉积的SiNx、热氧化法生长的SiO2、SiNx和SiO2两种薄膜的叠层,其它的一些钝化膜例如MgF2、Al2O3等也都被用在钝化表面上。商业上比较常用的是SiNx薄膜,高效电池上用的比较多的是热氧化生长的SiO2,可以降低表面的复合速率到10cm/s以下,效率可以达到20%以上。
SiO2钝化膜虽然在高效电池上的应用很广泛,但是热氧化所需要的温度都在1000℃,对于高效电池所用的FZ的硅片来说,在氧化过程中少子寿命不会受到影响,而商业化生产所用的CZ硅片一般少子寿命较低,杂质含量比较高,因此在高温氧化过程中硅片的少子寿命会大幅度降低。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种晶体硅太阳能电池的钝化方法,克服传统热氧化生长二氧化硅的缺陷,在降低了生产的成本的同时提高电池的效率。
本发明解决其技术问题所采用的方案是:一种晶体硅太阳能电池的钝化方法,在低温下用热氧化的方法在硅片的表面生长一层厚度为5-50nm的二氧化硅薄膜,温度范围为600℃-800℃,氧化时间为5-60min。
进一步地,二氧化硅薄膜作为太阳能电池的一层钝化层,在这层钝化层的表面另外再沉积一层钝化层,形成叠层的钝化膜来钝化电池的表面。
再进一步地,另外再沉积的一层钝化层为SiNx、SiOx或者Al2O3钝化膜。
本发明的有益效果是:在太阳能电池的表面多增加一层本发明所涉及的二氧化硅钝化膜,再加上一层如SiNx薄膜的钝化层之后,相对于单层的SiNx薄膜或高温下生长的二氧化硅薄膜的叠层钝化的钝化,效率可以提升0.2%以上,电压可以提高5-8mV,电流也有50-100mA的提升。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明;
图1是本发明的结构示意图;
图中,1.二氧化硅薄膜,2.SiNx。
具体实施方式
如图1所示,在SE电池的基础上加上低温下热氧化生长的二氧化硅薄膜1作为叠层钝化膜的一层。电池的制作工艺流程如下:
1、碱制绒;
2、掩膜生长;
3、选择性扩散结的形成;
4、后清洗及边缘刻蚀;
5、在低温下用热氧化的方法在硅片表面生长一层厚度为5-50nm的二氧化硅薄膜(1),温度范围为600℃-800℃,氧化时间为5-60min;
6、PECVD法沉积SiNx2;
7、正面和背面浆料的印刷和烧结,测试。
测试结果显示,相对于单层SiNx2或高温下生长的二氧化硅薄膜1的叠层钝化,Voc开路电压有5-8mV的提升,电流有50-100mA的提升,效率有0.2%以上的提升。具体的电性能数据如下:
Claims (3)
1.一种晶体硅太阳能电池的钝化方法,其特征是:在低温下用热氧化的方法在硅片表面生长一层厚度为5-50nm的二氧化硅薄膜(1),温度范围为600℃-800℃,氧化时间为5-60min。
2.根据权利要求1所述的晶体硅太阳能电池的钝化方法,其特征是:所述的二氧化硅薄膜(1)作为太阳能电池的一层钝化层,在这层钝化层的表面另外再沉积一层钝化层,形成叠层的钝化膜来钝化电池的表面。
3.根据权利要求2所述的晶体硅太阳能电池的钝化方法,其特征是:所述的另外再沉积的一层钝化层为SiNx(2)、SiOx或者Al2O3钝化膜。
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