CN102334784A - 一种高光泽高透明度的珍珠制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种高光泽高透明度的珍珠制备方法，通过直流磁控反应溅射法，在珍珠表面复合一层厚度在30nm-1000nm二氧化钛膜层。镀制的镀层无色，具有良好的透明度、薄膜均匀、结合紧密、耐磨，厚薄可控制等优点。本发明解决了传统增光工艺不稳定，不能完全解决所有珍珠的增光，增光效果不理想的技术问题，大大提高了珍珠的光泽度及透明度，珍珠光泽能够达到强B以上，反射光明亮，表面映像清晰。
Description
技术领域
本发明涉及珍珠的加工技术，具体涉及一种高光泽高透明度的珍珠制备方法。
背景技术
光泽是评价珍珠质量的一个重要指标.，通过增光来改善珍珠的光泽是珍珠加工工艺中的重要工序。目前的增光技术，主要采用化学药物浸泡、蒸煮等方法对珍珠表面及内部的污物进行溶解、吸附。同时采用抛光材料等对珍珠表面进行打磨，磨掉珍珠表面的部分突起和杂物，抛光过程中也结合抛光蜡一同使用，填充珍珠表面的空隙和空洞，以此来改善珍珠对光的反射及折射效果，从而提高珍珠的光泽及透明度。现有的珍珠增光技术不能完全解决所有珍珠的增光问题，增光效果不稳定，对珍珠光泽及透明度的提升有限。特别是部分死光珠、弱光珠，难以通过现有的增光技术使得光泽及透明度获得有效提升。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是克服上述技术缺陷的方法，提供了一种新型珍珠加工技术方法，它以天然珍珠、养殖珍珠为基材，通过溅射法在其表面复合一层透明膜层，其膜层与珍珠结合牢固、厚薄均匀、无色透明、耐磨、性质稳定，不仅不遮盖珍珠本身的颜色，还能有效提高珍珠的光泽度及透明度，珍珠光泽能够达到强B以上，反射光明亮，表面映像清晰。
为此，本发明采用如下的技术方案，一种高光泽高透明度的珍珠制备方法，其步骤依次如下：
1.镀膜前的镀膜前的珍珠清洗及干燥处理；
a对珍珠进行超声波除蜡，喷淋清洗；
b对珍珠进行超声波除油，喷淋清洗；
c对珍珠进行纯水超声波处理2次以上；
d对珍珠进行纯水漂洗2次以上；
e对珍珠进行热风干燥；
2.将洗净干燥后的珍珠固定在真空多弧离子镀膜机炉膛内的转架上，采用真空机组进行抽排大气，真空度保持在1.0-5.0×10-3；
3.采用红外线加温至30-150℃；
4.通入氧气，溅射总气压范围为0.1～7Pa；
5.将Ti靶加负偏电压到400-600V，进行镀膜，镀膜时间为1-30分钟。
上述的制备方法中，采用超声波除油除污、喷淋，纯水超声波处理、纯水漂洗，以及热风烘干，能够获得洁净的珍珠表面，为获得牢固、均匀的膜层奠定基础。
上述的制备方法中，采用红外线加热炉膛温度至30-150℃，炉内温度越高，膜层越牢固，同时在此温度范围内不损伤珍珠。
上述的制备方法中，真空度保持在1.0-5.0×10-3，真空度越高膜层透明度越高，膜层颜色越纯正，镀膜效果越好。
上述的制备方法中，非金属膜为一层，非金属为二氧化钛，无毒性。镀制的镀层无色，具有良好的透明度、薄膜均匀、结合紧密、耐磨，厚薄可控制等优点，极薄的透明膜层提高了珍珠的光泽及透明度。
上述的制备方法中，二氧化钛膜层通过直流磁控反应溅射法获得，镀层厚在30nm-1000nm，膜层厚度可根据客户需求控制，适合工业化生产。
本发明它以天然珍珠、养殖珍珠为基材，在其表面复合一层透明膜层，其膜层与珍珠结合牢固、厚薄均匀、无色透明、耐磨、性质稳定，不仅不遮盖珍珠本身的颜色，还能有效提高珍珠的光泽度及透明度，珍珠光泽能够达到强B以上，反射光明亮，表面映像清晰。
下面结合具体实施方式对本发明作详细说明。
具体实施方式
实施例
镀膜步骤依次如下：
1.将珍珠浸泡在超声波清洗设备中，加入除蜡剂和水，超声波清洗2-10分钟，取出后用水充分喷淋清洗；
2.将步骤1清洗后的珍珠浸泡在超声波清洗设备中，加入除油粉和水，超声波清洗2-10分钟，取出后用水充分喷淋清洗；
3.将步骤2清洗后的珍珠浸泡在超声波清洗设备中，加入纯水，超声波清洗2-10分钟，重复2次以上；
4.将步骤3清洗后的珍珠进行纯水漂洗2次以上；
5.将步骤4清洗后的珍珠在30-50℃进行热风干燥；
6.将洗净干燥后的珍珠固定在真空多弧离子镀膜机炉膛内的转架上，采用真空机组进行抽排大气，真空度保持在1.0-5.0×10-3；
7.采用红外线将炉内温度加温至30-150℃；
8.在炉内通入氧气，溅射总气压范围为0.1～7Pa，
9.将纯度为99.99％的Ti靶加负偏电压到400-600V，进行镀膜，镀膜时间为1-30分钟。
经过本发明制备的珍珠，具有较高的光泽度及透明度，珍珠光泽能够达到强B以上，反射光明亮，表面映像清晰。
Claims (7)
1.一种高光泽高透明度的珍珠制备方法，其步骤依次如下：
1)镀膜前的珍珠清洗及干燥处理
a对珍珠进行超声波除蜡，喷淋清洗；
b对珍珠进行超声波除油，喷淋清洗；
c对珍珠进行纯水超声波处理2次以上；
d对珍珠进行纯水漂洗2次以上；
e对珍珠进行热风干燥；
2)将洗净干燥后的珍珠固定在真空多弧离子镀膜机炉膛内的转架上，采用真空机组进行抽排大气，真空度保持在1.0-5.0×10-3；
3)采用红外线将炉内温度加温至30-150℃；
4)在炉内通入氧气，溅射总气压范围为0.1～7Pa；
5)将Ti靶加负偏电压到400-600V，进行镀膜1-30分钟。
2.根据权利要求1所述的一种高光泽高透明度的珍珠制备方法，其特征在于镀膜前的珍珠清洗及干燥处理采用超声波除蜡、除油、喷淋，纯水超声波处理、纯水漂洗，以及热风烘干珍珠。
3.根据权利要求1所述的一种高光泽高透明度的珍珠制备方法，其特征在于真空多弧离子镀膜机的真空度保持在1.0-5.0×10-3。
4.根据权利要求1所述的一种高光泽高透明度的珍珠制备方法，其特征在于采用红外线加热炉内温度至30-150℃。
5.根据权利要求1所述的一种高光泽高透明度的珍珠制备方法，其特征在于通入氧气后，溅射总气压范围为0.1～7Pa。
6.根据权利要求1所述的一种高光泽高透明度的珍珠制备方法，其特征在于 将Ti靶加负偏电压到400-600V，镀膜时间为1-30分钟。
7.根据权利要求1所述的一种高光泽高透明度的珍珠制备方法，其特征在于所采用的靶材为钛靶，通过与氧气反应生成二氧化钛膜层，溅射至珍珠上，镀层厚度在30-1000nm。
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| CN201010239496XA CN102334784A (zh) | 2010-07-27 | 2010-07-27 | 一种高光泽高透明度的珍珠制备方法 |
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