CN102325923A - 具有提高的粘附性的纳米颗粒沉积物的制造方法及用于实施这种方法的装置 - Google Patents

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CN102325923A
CN102325923A CN2010800082938A CN201080008293A CN102325923A CN 102325923 A CN102325923 A CN 102325923A CN 2010800082938 A CN2010800082938 A CN 2010800082938A CN 201080008293 A CN201080008293 A CN 201080008293A CN 102325923 A CN102325923 A CN 102325923A
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哈吉·德留·潘
让-安托万·格鲁斯
奥利维耶·蓬斯莱
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C24/00Coating starting from inorganic powder

Abstract

本发明涉及一种用于在基质(2)的表面(4)的至少一部分上实现纳米尺寸颗粒的沉积的装置,包括用于容纳带有纳米尺寸颗粒(6)的液体(8)的第一室(14),其中所述第一室(14)经受高于大气压的压力;并且包括能够将流体升高至其沸点的加热所述流体的装置(16)、在大致等于所述第一室(14)压力的压力下加压的第二室(20),在所述第二室(20)内部发生通过沸腾的沉积,其中,提供加热装置(24)以加热所述基质(2)的表面(4)的至少一部分,并且其中,所述第一室(14)连接至所述第二室(20)以使得可对所述第二室(20)供应大致升高至其沸点的流体。

Description

具有提高的粘附性的纳米颗粒沉积物的制造方法及用于实施这种方法的装置
技术领域
本发明涉及一种用于沉积具有提高的粘附性的纳米颗粒的方法,并涉及一种用于实施这种方法例如用于制造具有改善的热参数(热规格,thermal specification)的热交换表面的装置。
背景技术
热交换器使得可以在称作热交换表面的表面与流体之间交换热。它们经常包括非开放式热交换结构如复合形状的、非常大的管或板,其材料是多种多样的,诸如金属、聚合物或陶瓷。
在表面上蒸发时,流体从表面吸取热,且对所述流体赋予移动以释放吸取的热。
热交换表面的选择中的重要特性是其热阻。热阻与比率1/hS成比例,其中h是交换壁与流体之间的热交换系数,且S是交换表面的面积。设法降低这种热阻;但是由于面积S通常是强加的,因此目标是提高h。可以通过使表面结构化来提高h。在利用强热流施加的情况下,设法延迟临界沸腾流动的出现,其对应于表面上蒸汽膜的出现,并且在这之后,热交换实质上退化。然后发生表面的过热,这能够导致其破坏。
并且已经注意到,当沸腾时,具有很高润湿性能的表面具有非常令人满意的传热参数。在文献:Y.Takata,S Hidaka,JM Cao,T.Nakamura,HYamamoto,M.Masuda,T.Ito,“Effect of Surface Wettability on boiling andevaporation”,in Energy 30(2005)209-220,文献:S.Ujereh,T.Fisher,I.Mudawar,“Effects of Carbon Nanotube Arrays on Nucleate Pool Boiling”inInt.J.of Heat and Mass Transfer50(2007)4023-4038和文献S.Kim,H.KimH.D.,Kim,S.Ahn,M.H.Kim,J.Kim and G.C.Park,“ExperimentalInvestigation of Critical Heat Flux Enhancement by Micro/Nanoscale SurfaceModification in Pool Boiling”,ICNMM2008,June 23-25,2008,Darmstadt,Germany中提出了这种观察结果。实际上,观察到,当液滴在表面上的接触角接近0°时,实质上改善了热交换系数。
具有良好润湿性的表面可以通过在所述表面上沉积小的颗粒,例如也称作纳米颗粒t的纳米颗粒来制造,其中这些颗粒对用于热交换器中的流体具有良好的润湿性能。
这种颗粒可以通过各种方法沉积在表面上。
第一类型的方法在于在表面上沉积颗粒的薄膜。
第一种方法在于在表面上沉积被称为LANGMUIR-BLODGETT膜的膜,其中这种膜由单层或多层两亲分子,即具有亲水性末端和疏水性末端的分子组成。将含有这种分子的溶剂的液滴引入到装有超纯水的容器中。以膜的形式将分子分布在水的表面上。在溶剂蒸发之后,分子的亲水性末端朝向水排列,且分子的疏水性末端远离水的表面排列。
使分子聚集,以便降低它们之间的空间,且将待覆盖的基质(substrate)垂直浸入到水的表面中。分子膜由于毛细管压力而附着于基质。然后,可以层叠几十张膜。这种技术对于实施来说相当复杂且漫长。此外,其仅适用于具有平坦表面、或者至少具有相对简单构造的表面的基质。
还可以使用化学气相沉积(CVD),更具体地,MOCVD(金属有机化学气相沉积)方法,或者PECVD(等离子体增强化学气相沉积)方法。这些方法适用于其中待覆盖的表面是敞开的且具有有限尺寸的基质。
例如,MOCVD和PECVD仅适用于具有小于25cm直径的基质。实际上,难以控制沉积物在大尺寸表面上的均匀性。
另外,这些方法需要在300℃至800℃之间的非常高的沉积温度,从而使得它们对于在聚合物基质上沉积颗粒是不切实际的。
还存在另一种用于在表面上沉积颗粒的方法,通过所述方法,通过在大气压下使还称作纳米流体(纳米液体,nanofluid)的含有纳米颗粒的溶液沸腾,获得了沉积物。
纳米颗粒在基质表面处的沉积通过在各个蒸汽泡下方产生的液体微膜的蒸发来解释,其中这种纳米流体含有纳米颗粒。
在文献S.J.Kim,I.C.Bang,J Buongiorno,L.W.Hu,“SurfacesWettability Change during Pool Boiling of Nanofluids and its effect on CriticalHeat Flux”(在纳米流体的池沸腾期间的表面润湿性变化及其对临界热流的作用),Int.J.Heat and Mass Transfer(国际传热传质杂志)50(2007)4105-4116中描述了这种方法。
这种方法可以适用于复杂形状的基质;然而,以这种方式制造的纳米颗粒的膜并不充分粘附至基质,因为所述膜能够被容易地破坏。
因此,本发明的一个目的是提供一种用于沉积小尺寸颗粒,更具体地,纳米颗粒的方法,该方法简单且能够适用于复杂形状的表面。
本发明的另一个目的是提供具有更高效率的热交换器。
发明内容
先前提出的目的通过下述来获得:使通过沉积纳米颗粒而获得的基质的表面纳米结构化,从而使待覆盖的表面与纳米流体接触,其中还对所述待覆盖的表面进行加热,且其中将所述纳米流体保持在高于大气压的压力下,使得沉积通过沸腾而进行。
对纳米流体加压的效果是提高沸点,其使得能够提高可以将所述纳米流体加热到的温度,由此提高沉积物对表面的粘附性。
换言之,沉积条件使得它们可在高于标准沸点的高沸点下沉积。然而,这些温度使得能够在聚合物基质上进行沉积。
通过改变纳米流体的沸点,实质上改善了纳米颗粒沉积物的性能。沸点是饱和温度,且这种温度取决于压力。
例如,对纳米流体施加压力使得其沸点在150℃至200℃之间。
有利地,沉积阶段(deposition phase)的持续时间超过10分钟,从而显著地改善了纳米颗粒沉积物的均匀性。
在一个变更的实施方式中,为了实现基质表面的局部结构化而不是全部结构化,对基质的不连续区域进行加热。
因此,本发明的主要主题是一种用于在基质表面的至少一部分上沉积纳米颗粒的方法,所述方法包括下列步骤:
a)将含有纳米尺寸的所述颗粒的液体加热至接近于其沸点的温度,
b)将所述基质表面的至少一部分加热至大致等于所述沸点的温度,
c)使所述液体与所述表面接触,
d)在高于其标准沸点的温度下使所述表面上的液体沸腾,从而导致所述纳米颗粒在所述表面上沉积,
其中,所述步骤a)、b)和c)在高于大气压的压力下进行。
有利地,步骤c)通过使所述液体沿着所述表面流动来实现,其中所述液体沿着所述表面的流动以例如小于或等于0.1m/s的低速进行。
例如,所施加的压力在5巴至10巴之间,使得获得了在150℃至200℃之间的流体沸点。
颗粒在所述液体中的浓度例如按质量计在0.01%至1%之间。
所述沉积的颗粒可以是TiO2、SiO2、α-Al2O3、γ-Al2O3、勃姆石AlO(OH)、三水铝石(水铝氧,三水铝矿)Al(OH)3、ZrO2、HfO2、SnO2、Sb2O5、Ta2O5、Nb2O5、ZnO和/或银,且所述流体是水或乙二醇。
在一个变更的实施方式中,在不连续区域(离散区域)中对表面进行加热。
本发明的另一个主题是一种用于制造热交换表面的方法,所述热交换表面用于实施根据本发明方法的热交换器,其中所沉积的颗粒是对于旨在用于所述热交换器中的热交换流体具有良好润湿性能的颗粒。
在一个示例性实施方式中,在沉积具有良好润湿性的颗粒之前,完成了包括步骤a)、b)和c)的第一阶段,其中所述颗粒是对于所述热交换流体具有低润湿性的颗粒,使得在基质与具有良好润湿性的颗粒的层之间形成低润湿性的颗粒的层。
本发明的另一个主题是旨在实现纳米尺寸的颗粒在基质表面的至少一部分上的沉积的装置,所述装置包括旨在容纳带有(装有)待沉积的所述纳米尺寸的颗粒的液体的第一室(第一壳,first enclosure),其中所述第一室经受(处于)高于大气压的压力;且包括能够将液体升高至其沸点的加热所述液体的装置、在大致等于所述第一室压力的压力下加压的第二室,在所述第二室内部发生所述纳米颗粒的沉积,其中提供加热装置以将基质表面的至少一部分加热至所述沸点,并且其中所述第一室连接至所述第二室以使得可对所述第二室供应大致升高至其沸点的液体,从而使得当其与受热表面的所述部分接触时,所述液体开始沸腾。
在一个有利的实例中,所述第二室至少部分地直接通过所述基质形成,其中所述基质形成具有两个开口端的通道,其中在所述通道表面的至少一部分上发生沉积,并且其中旨在将至少一端连接至所述第一室。
根据本发明的装置可以包括第二连接以在液体已进入所述第二室之后,使所述液体返回至所述第一室,以便形成闭合回路,整个回路被加压。
在一个示例性实施方式中,将所述第一室和所述第二室组合。
有利地,根据本发明的装置可以包括用于沿着所述基质的表面低速循环所述液体的装置,例如液压泵。
附图说明
使用接下来的说明和附图,将更好地理解本发明,其中:
-图1A至图1C是根据本发明的方法的沉积步骤的示意图,
-图2是根据本发明的方法的示例性实施的示意图,
-图3A是可以通过根据本发明的方法获得的结构化的变更实施方式的示意图,
-图3B是图3A的放大图,
-图4A至图4D是能够使用根据本发明方法结构化的表面的各种实例的示意图,
-图5是根据本发明以不连续方式结构化的表面的示意图。
具体实施方式
可以将下面将描述的纳米颗粒的沉积方法用于在具有不同功能的所有类型的物体(对象)上产生沉积物。这种表面的一种有利应用是热交换,但是本发明不以任何方式受限于这种应用。
在图1A至图1C中,可以看到施加至具有表面4的基质2的根据本发明的方法的步骤,在所述表面4上设法沉积纳米尺寸的颗粒6,其在下文中叫做纳米颗粒。
根据本发明,使用在下文中称作纳米流体8的含有纳米颗粒6的液体溶液。
使这种溶液与基质2的表面4接触。将纳米流体8升高至接近于其沸点且有利地低于其沸点的温度,并且还将基质2加热至大致高于沸点。
根据本发明,设法在最高可能的沸点下实现沉积。为了实现这种目的,首先选择具有高标准沸点的液体,其次对纳米流体8进行加压,以便提高纳米流体8的沸点,从而使得纳米流体8的沸点高于其标准沸点。表述“加压(受压)”在本申请中表示经受高于大气压的压力。
实际上,本发明人已经观察到,通过提高发生沉积的温度而提高了纳米颗粒的沉积层的粘附性。与现有技术相比,高温对制造的结构进行了改性,且明显提高了纳米颗粒对表面4的粘附性。实际上,根据本发明人,高温使得可原位结晶,且提高了基质与纳米颗粒之间的范德华力。
在纳米流体8中存在蒸汽泡9,如图1A所图解示出的。其中分散纳米颗粒6的液体如图1B中所图解示出的进行蒸发;然后,使纳米颗粒粘附至基质2的表面4,并形成纳米颗粒10的层(图1C)。
纳米颗粒10的层的厚度可以使用下列关系式计算:
δ = - δ · 0 ln ( 1 - kt ) / k - - - ( I )
其中
Figure BDA0000084430990000082
是通过下面的关系式(III)给出的初始沉积速度(m/s),t是以秒计的沸腾时间,且k是由下列关系式(II)限定的常数:
k = Q eva υ 0 ρ f H fg - - - ( II )
其中Qeva是以W/m2计的用于蒸发液体的热流。
Figure BDA0000084430990000084
其中
Figure BDA0000084430990000085
是纳米颗粒在流体中的体积浓度,Q是以W/m计的表面热流,ρg是以kg/m3计的气相中的密度,且Hfg是从液相变为气相的潜热。
纳米颗粒的材料是例如TiO2、SiO2、或者此外是α-Al2O3、γ-Al2O3、勃姆石AlO(OH)、三水铝石Al(OH)3、ZrO2、HfO2、SnO2、Sb2O5、Ta2O5、Nb2O5、ZnO和/或银,且含有它们的液体可以是例如水或乙二醇。
纳米流体的压力使得液体的沸点在150℃至200℃之间,那么所述压力在5巴至10巴之间。
图2示出了用于实施根据本发明方法的装置12的一个实例,该装置12适用于在管2的内表面4上沉积纳米颗粒。
所述装置12包括第一室14,其中用于在压力下将所述纳米流体8升高至沸点,其中所述第一室14因此装备有由符号16示意性表示且指定的加热装置,以及由符号18示意性表示且指定的加压装置。
有利地,在所述第一室14中设置搅拌系统19以保证纳米流体颗粒的大体上均匀的浓度,所述纳米流体将被注射以实现沉积。
所述装置还包括其中实际发生沉积的第二室20;导管(duct)21,所述导管21设置在所述第一室14与所述第二室20之间以在所述第二室20内部在压力下将纳米流体大致升高至其沸点。
将包含“准备用于沉积”的纳米颗粒的溶液引入到所述第二室20中。预先制造了所述纳米颗粒并将所述纳米颗粒添加至溶液中以形成纳米流体。
在代表性实例中,所述第二室20通过待处理的管直接形成。
可以设置用于将纳米流体从所述第一室14传输至所述第二室20的泵26。
此外,还在所述第二室20与所述第一室14之间设置将流体从所述管传输至所述室14的导管22。
在代表性的特定情况下,所述沉积装置还包括第二室中的基质的加热装置24,其中所述加热装置在通过待覆盖的管道直接形成的第一室的外部。
这些加热装置24可以是任何类型的;例如,它们可以是通过电磁耦合的电加热装置,或者通过使用流体的热交换器的间接加热装置。甚至可以决定在炉中放置管,更通常地基质。对于本领域技术人员已知的所有其他类型的加热都是可用的。
作为实例,流体的纳米颗粒浓度可以在按质量计0.01%至1%之间。
第一室14内的压力在5巴至10巴之间且沸点在150℃至200℃之间。
施加至管的热流在0.1W/cm2至100W/cm2之间。
现在我们将解释根据本发明的纳米颗粒的沉积。
在室14中在5巴至10巴下将纳米流体加热至其沸点Te。
将管2大致加热至所述沸点Te。
当纳米流体处于稍微低于其沸点的温度下时,通过泵26将纳米流体传输至加热的管2中。
有利地,以非常慢的速度将纳米流体注入到管中以确保在管内部在其整个长度内流体的恒定浓度,且因此确保沿着管长度的更均匀的沉积。纳米流体的流速为约0.1m/s。这种循环具有其释放在纳米流体内产生的蒸汽泡的优势。
有利地,将纳米流体循环相当长的时间,有利地至少10分钟,从而提高沉积的层的均匀性。实际上,已经观察到,沉积的持续时间越长,沉积的层的结构越均匀。
在代表性实例中,装置在闭合回路中运行,且在进入管中之后,将纳米流体返回至室中,然后再次注入到管中。在室中对纳米流体再次加热。可以使所述流体再次装有纳米颗粒。闭合回路运行使得可制造完全加压式装置,简化制造,特别是在密封方面。但是应当理解,具有开路的装置不超出本发明的范围。
如果期望制造用于热交换器的热交换表面,则能够制造对将用于热交换器中的流体具有良好润湿性能的纳米颗粒的沉积物。如果所用流体是水,则纳米颗粒具有亲水性能。表述“对流体具有良好润湿性能的纳米颗粒”是指构成纳米颗粒的形成平坦表面的材料,其自身对流体具有良好的润湿性能,即,流体液滴的外缘与平坦表面之间的接触角小于90°。在水的情况下,据称表面是亲水性的。低润湿性是指流体液滴与平坦表面之间的接触角大于90°。
但是应当理解,能够沉积具有任何类型的性能的纳米颗粒。
而且,在其中期望制造特别有效的交换表面的图3A和图3B中显示的方法变体中,实现了具有低润湿性或无润湿性的纳米颗粒的第一层28的沉积以及高度润湿的纳米颗粒的覆盖所述第一层28的第二层30的沉积。
如果用于热交换器中的流体是水或水溶液,则因此制造了在基质上沉积的第一疏水层28和在所述第一层28上沉积的第二亲水层30。如在图3B中图解示出的,由于疏水层28而出现具有较低能量的蒸汽簇27,但是同时因为亲水层30而提供了非常润湿表面的优异性能。实际上,亲水层30促进了蒸汽泡9的分离和表面的再润湿。
因此,与仅使用润湿纳米颗粒获得的结构化的情况相比,这种结构化使得能够具有用于引发较低程度的成核的能量。
图4A至图4D是部件各种形状的示意图,其表面的一部分可以使用根据本发明的方法进行处理。能够看出,通过本发明可以简单地结构化复合形状的表面、封闭型的表面。
在图4A中,这是具有平坦表面102的平坦基质。
在图4B中,其是管,与图2相关地描述了所述管内表面的结构化。
在图4C中,基质202具有带有中空方形基底的截棱锥形状。
在图4D中,基质302具有带有孔的罐型容器形状。
箭头Q象征为了沉积目的基质经受的热流。
有利地,旨在使其表面结构化的形成通道的部件特别适合于根据图1的装置的沉积。
与图2相关地描述的方法有利地使得可直接将管用作其内部实现沉积的加压室(受压室,pressurised enclosure),其简化了装置且使得能够至少部分解决与待处理的基质尺寸相关的问题。
在敞开形状的基质的情况下,装置具有与所述基质分离的第二室,且所述基质放置在所述第二室的内部。在这种情况下,将在纳米流体可接近的基质的所有表面上进行结构化。
具有单个加压室(受压室)的沉积装置也是可能的,在所述加压室中将纳米流体加热至其沸点,且在所述加压室中浸渍并加热基质。在这种情况下,在纳米流体可接近的基质的所有表面上进行纳米颗粒的沉积。
图2的装置特别适合于结构化封闭表面,且具有结构化任何尺寸的基质的优势,因为所述基质不受必须将基质引入到其中的装置的尺寸的限制。
而且,可以在各种类型的材料上实现沉积,因为纳米流体的沸点可以通过根据材料改变存在于装置中的压力来调节。因此能够设想在聚合物,例如PC(聚碳酸酯)或PEEK(聚醚醚酮)、PEI(聚醚酰亚胺)、PSU(聚砜)、PPSU(聚苯砜)、PA(聚酰胺)、POM(聚甲醛)、PBI(聚苯并咪唑)、PPS(聚苯硫醚)(Polyphenilene sulphide)上在金属材料上实现沉积。
而且,与在大气压下进行沉积的情况相比,根据本发明的方法使得可更快速且更均匀地沉积。
另外,使用本发明得到的沉积物是多孔的,其作用是提高比表面积,这在热交换器的情况下对于再润湿是有利的。
沉积物的孔隙率在25%至80%之间,有利地为约40%。
根据本发明获得的沉积物的多孔性在例如将纳米颗粒用作催化剂的情况下也是有利的。可以使用充当催化剂的纳米颗粒如Pd、Pt、Ni或CeO,或者可以纳米多孔形式制造载体,以便在其上沉积催化剂颗粒。
在上述实例中,设法在基质的表面上制造均匀且连续的沉积物。但是,使用本发明,还可以非常简单地实现表面的不连续结构化,如图5中所显示的。基质的表面包括区域32和区域34,所述区域32设法用纳米颗粒的层覆盖,所述区域34设法不用纳米颗粒覆盖。为了实现这个目的,仅对设法实现纳米颗粒的沉积的区域32进行加热是足够的。在这种情况下,在区域32中应用热流Q,同时在受热区域32和在非受热区域34两者上循环沸腾的纳米流体。然后,在受热区域32中局部实现沉积。
进行试验以显示根据本发明的方法对于颗粒在基质上的粘附性的效果。
所述试验在于使用纳米流体的液滴在受热表面上实现纳米颗粒的沉积。在本发明情况下,这是在水中的SiO2。基质由铝制成。实现了基质和纳米流体在三种加热温度80℃,110℃,175℃下的沉积。
将纳米颗粒沉积在基质的表面上。然后使用称为“Taber
Figure BDA0000084430990000131
”的装置对表面的一部分进行磨损。
目视观察到,温度越高,沉积物越均匀。
借助于表面光度仪,通过测量经磨损表面和未磨损表面的外观(分布,轮廓,profile)来测量沉积颗粒的粘附性,并且将在每个温度下通过磨损除去的颗粒的百分比示于下表中:
  沉积温度   通过磨损除去的颗粒的百分比
  80℃   75%
  110℃   50%
  175℃   33%
观察到,沉积温度越高,纳米颗粒在基质上的粘附性越好。
根据本发明的沉积方法特别适合于两相热交换器、两相热虹吸管、热管的制造且特别适合于实现表面的亲水或疏水处理。

Claims (14)

1.一种在基质表面的至少一部分上沉积纳米颗粒的方法,包括下列步骤:
a)将含有纳米尺寸的所述颗粒的液体加热至接近于其沸点的温度;
b)将所述基质表面的至少一部分加热至大致等于所述沸点的温度;
c)使所述液体与所述表面接触;
d)在高于其标准沸点的温度下使所述表面上的液体沸腾,导致所述纳米颗粒在所述表面上沉积,
其中,所述步骤a)、b)和c)在高于大气压的压力下进行。
2.根据权利要求1所述的沉积方法,其中,步骤c)通过使所述液体沿着所述表面流动来实现。
3.根据前一权利要求所述的沉积方法,其中,所述液体沿着所述表面的流动以小于或等于0.1m/s的速度进行。
4.根据权利要求1至3中的一项所述的沉积方法,其中,施加的压力在5巴至10巴之间,使得所述液体的沸点在150℃至200℃之间。
5.根据权利要求1至4中的一项所述的沉积方法,其中,颗粒在所述液体中的浓度按质量计在0.01%至1%之间。
6.根据权利要求1至4中的一项所述的沉积方法,其中,所述颗粒是TiO2、SiO2、α-Al2O3、γ-Al2O3、勃姆石AlO(OH)、三水铝石Al(OH)3、ZrO2、HfO2、SnO2、Sb2O5、Ta2O5、Nb2O5、ZnO和/或银,而所述液体是水或乙二醇。
7.根据权利要求1至6中的一项所述的沉积方法,其中,在不连续区域中对所述表面进行加热。
8.一种用于制造用于实施根据前述权利要求中的一项所述方法的热交换器的热交换表面的方法,其中,沉积的颗粒是对于旨在用于所述热交换器中的热交换流体具有良好润湿性能的颗粒。
9.根据前一权利要求所述的用于热交换器的热交换表面的制造方法,其中,在沉积具有良好润湿性的颗粒之前,完成了包括步骤a)、b)和c)的第一阶段,其中,所述颗粒是对于所述热交换流体具有低润湿性的颗粒,使得在所述基质与具有良好润湿性的颗粒的层之间形成低润湿性的颗粒的层。
10.一种用于在基质(2)的表面(4)的至少一部分上实现纳米尺寸颗粒的沉积的装置,包括用于容纳带有待沉积的所述纳米尺寸颗粒(6)的液体(8)的第一室(14),其中,所述第一室(14)经受高于大气压的压力;并且包括能够将液体升高至其沸点的加热所述液体的装置(16)、在大致等于所述第一室(14)压力的压力下加压的第二室(20),在所述第二室(20)内部发生所述纳米颗粒的沉积,其中,提供加热装置(24)以将所述基质(2)的表面(4)的至少一部分加热至所述沸点,并且其中,所述第一室(14)连接至所述第二室(20)以使得可对所述第二室(20)供应大致升高至其沸点的液体,使得当液体与受热表面的所述部分接触时,所述液体开始沸腾。
11.根据前一权利要求所述的用于制造纳米尺寸颗粒的沉积物的装置,其中,所述第二室(20)至少部分地直接通过所述基质(2)形成,其中,所述基质(2)形成具有两个开口端的通道,并且其中,在所述通道表面的至少一部分上发生沉积,并且其中用于将至少一端连接至所述第一室(20)。
12.根据权利要求10或11所述的用于实现纳米尺寸颗粒的沉积的装置,包括第二连接(22)以在所述液体进入所述第二室(20)之后,使所述液体返回到所述第一室(14)中,以便形成闭合回路,其中整个回路被加压。
13.根据权利要求10所述的用于实现纳米尺寸颗粒的沉积的装置,其中,将所述第一室和所述第二室组合。
14.根据权利要求10至13所述的装置,包括沿着所述基质的表面低速循环所述液体的装置(26),例如液压泵。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10327338B2 (en) * 2016-06-17 2019-06-18 Nanoshield Technology Co., Ltd. Method for coating a device and devices having nanofilm thereon
WO2024014380A1 (ja) * 2022-07-11 2024-01-18 京セラ株式会社 金属フィルムおよび電子部品

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040086648A1 (en) * 2002-10-30 2004-05-06 Xiangyang Zhou Hydrothermal deposition of thin and adherent metal oxide coatings for high temperature corrosion protection
US20060093746A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-04 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for atomic layer deposition
CN101326001A (zh) * 2005-12-11 2008-12-17 Scf科技公司 纳米材料的生产

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6183895A (ja) * 1984-09-28 1986-04-28 Hitachi Ltd 伝熱面およびその製造方法
US6915964B2 (en) * 2001-04-24 2005-07-12 Innovative Technology, Inc. System and process for solid-state deposition and consolidation of high velocity powder particles using thermal plastic deformation
JP5176205B2 (ja) * 2008-04-30 2013-04-03 ハリマ化成株式会社 多層配線基板の製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040086648A1 (en) * 2002-10-30 2004-05-06 Xiangyang Zhou Hydrothermal deposition of thin and adherent metal oxide coatings for high temperature corrosion protection
US20060093746A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-04 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for atomic layer deposition
CN101326001A (zh) * 2005-12-11 2008-12-17 Scf科技公司 纳米材料的生产

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