CN102316846A - 用于处理结合松散处理的损伤头发的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种处理一种或多种毛干的方法，每个毛干包括角质层和包裹在所述角质层内的皮质层。所述方法包括：选择可以穿透具有约5埃至约5,000埃孔径的毛干的一种或多种聚合物；并通过向所述毛干施用有效量的包含所述聚合物的组合物来处理所述毛干。

Description

用于处理结合松散处理的损伤头发的方法
相关申请的交叉参考
本申请是2008年3月3日提交的美国专利申请系列号No.12/041,081的部分继续申请，在此要求其优先权，将其公开的内容在此引入作为参考。
发明背景
随着流行或名人时尚的潮流，越来越多的消费者进行头发处理以追求时髦的发型。这些处理的变化极大，但是松散处理是使头发粗糙的一种。虽然这些发型技术极大满足了消费者的需要，但是也引起了严重的头发损伤，特别是当这些处理反复使用时。而且，对头发的多种日常行为，例如梳理头发、吹干头发和阳光照射加重了对头发的损伤。
普遍接受的是化学处理和/或UV照射引起头发的损伤，其导致头发角质层的孔隙度和膨胀增加。这是当头发损伤发生时，头发变得毛躁、粗糙和黯淡的原因。并且，当损伤发生在头发皮质层时，头发会丧失其抗张强度，因为皮质层被认为是人类头发拉伸性质的主要原因。头发的角质层是扭转机械性质的重要因素，但是对体积纵向机械强度的贡献较小。因此，抗张强度的测量不仅仅是一种对头发损伤的评价方法，而且还是测定损伤是否已经渗透到皮质层的指征。受损头发回复自然属性的方法之一是恢复其降低的抗张强度。
因此，需要一种克服至少一些上述问题的处理头发的方法。
发明简述
本发明提供一种处理一种或多种毛干的方法，每个毛干包括角质层和包裹在所述角质层内的皮质层，所述方法包括：选择可以穿透具有约5埃至约5,000埃孔径的毛干的一种或多种聚合物；并通过向所述毛干施用有效量的包含所述阴离子聚合物或共聚物的组合物来处理所述毛干。
发明详述
用可以穿透具有约5埃至约5,000埃孔径的毛干的一种或多种聚合物处理一种或多种毛干。
在一个实施方案中，毛干的孔径为约10埃至约1000埃。
在另一个实施方案中，处理的目的是滋养和/或修复毛干。
在另一个实施方案中，处理的目的是改善头发的抗张强度。
通常，使用的聚合物应该具有足以渗透进入毛干皮质层，但是不易于从皮质层移出的大小。本领域普通技术人员可以决定一种聚合物是否满足这一具体标准，而不需过度的实验。因此，线性聚合物、支化聚合物、超支化聚合物或枝状聚合物可满足这一标准。
多种类型和构型的聚合物都可用于处理毛干。
在一个实施方式中，聚合物选自由均聚物、共聚物、三元共聚物，及其组合组成的组。
在另一个实施方式中，聚合物选自由阳离子聚合物(CIP2)、阴离子聚合物(CIP1)、非离子性聚合物、两性聚合物、两性离子聚合物、及其组合组成的组。
在另一个实施方式中，聚合物是线性的。本领域普通技术人员了解术语线性聚合物的范围，然而，在目前的情况下，该定义可扩展为包括具有少数支链或桥接或链间交联以链状方式排列的聚合物。
在另一个实施方案中，所述聚合物具有约300道尔顿至约80,000道尔顿的重均分子量，除了聚DADMAC之外，聚DADMAC的所述重均分子量范围的上限小于15,000道尔顿。
在其主要的方面，本发明涉及一种化妆用可接受的头发修复聚合物，其组成包括基于聚合物固体计约0.1至约10重量％的阴离子聚合物，其中该阴离子聚合物由聚丙烯酸均聚物或约10至约90摩尔％的聚丙烯酸或其碱加成盐和约90至约20摩尔％的一种或多种阴离子或非离子单体的共聚物组成。
“阴离子单体”指如本文定义的具有净负电荷高于某一pH值的单体。代表性的阴离子单体包括丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、2-丙烯酰氨基-2-甲基丙烷磺酸、磺丙基丙烯酸或甲基丙烯酸或它们的其它水溶形式或其它可聚合的羧酸或磺酸的碱加成盐、磺甲基化丙烯酰胺、烯丙基磺酸盐、乙烯基磺酸钠等。优选的阴离子单体是丙烯酸和2-丙烯酰氨基-2-甲基丙烷磺酸。
“碱加成盐”指由羧酸(-CO2H)基与合适的碱反应得到的盐，比如金属阳离子或四烷基铵阳离子的氢氧化物、碳酸盐、或碳酸氢盐，或氨或足够碱性的有机伯胺、仲胺或叔胺与羧酸基反应形成的盐。代表性的碱金属或碱土金属盐包括钠盐、锂盐、钾盐、钙盐、镁盐等。用于形成碱加成盐的代表性的有机胺包括乙胺、二乙胺、乙二胺、乙醇胺、二乙醇胺、哌嗪等。优选的碱加成盐包括钠盐和铵盐。
特别地，聚(丙烯酸钠)具有的重均分子量为约3,000道尔顿至约15,000道尔顿，用于处理漂白损伤的头发以改善头发的抗张强度。
更特别地，将具有分子量约1000道尔顿至约12000道尔顿的丙烯酸和2-丙烯酰氨基-2-甲基-1-丙磺酸或碱加成盐的共聚物加入到市售松散剂基质中，以防止头发受松散剂损伤。
包含所述聚合物的组合物可以是各种形式。本领域普通技术人员知道如何将化妆用可接受的赋形剂和/或组合物的其它组分与所述聚合物配制在一起。
下述实施例并不意味着限制。
实施例
对于此实施例部分，聚合物的重均分子量是用尺寸排阻色谱/多角度激光散射(或SEC/MALLS)技术测定。尺寸排阻色谱(SEC)是使用TOSOH BIOSCIENCE的一系列TSK-GEL PW柱、Wyatt技术公司的多角度激光散射检测器(MALLS，型号：DAWN DSP-F)和干涉折射计(OPTILAP DSP)进行。数据收集和分析用Wyatt技术公司的ASTRA软件进行。
a.抗张强度测量
在化学损伤的头发上进行抗张强度试验。实验方案包括下列步骤。
在40+/-1℃，将褐色未处理过的头发浸泡在含有1.7％氢氧化铵和10％尿素的6％过氧化氢溶液中15分钟进行漂白。然后将漂白的头发在1％(固体)聚合物溶液中处理5分钟，并用去离子水冲洗10秒钟。
从每个处理实验组和未处理(“对照”)实验组随机选择四十根发丝，使用纤维维度分析系统(Mitutoyo，Model LSM 5000)测量直径。将头发样本置于DiaStron Miniature Tensile Tester(Model 170/670)中测定湿态下的抗张强度。使用DiaStron软件(MTTWIN应用软件5.0版)计算用头发直径归一化的总工作力(work force)。使用Tukey HSD统计分析对从40根发丝得到的平均值进行分析，以比较所有的测试的配对(JMP统计软件(美国北卡罗来纳州卡里的SAS学会)的ANOVA单因素方差分析)。将实验结果和统计分析总结于下表中。
b.使用市售松散剂处理的方法
含有聚合物的松散剂指将阴离子聚合物以0.5％(固体)水平加入到市售松散剂中。对照指不含聚合物的松散剂。
“初始”指抗张强度是在刚刚将聚合物加入到松散剂之后试验的。
“在…之后”指抗张强度是在包含聚合物的松散剂在45℃温度下经过3个月的稳定性试验之后试验的。
戴上手套，并将市售松散剂(Sofn’free/Cortical cream relaxer/Superfor Coarse Hair，M & M Products)以头发与松散剂为1∶2的重量比慢慢施用到发束上。用铝箔包盖处理的头发15分钟。用温水彻底地洗涤头发，直到除去所有的松散剂。让毛发风干，测试抗张强度。
表1：阴离子聚合物的化学式和分子量
  名称   分子量   化学式
  阴离子聚合物I   10000   聚(丙烯酸钠)
表2：表1中所列处理的抗张强度测量
  名称   抗张强度(J)   提高百分比(％)
  对照   0.000955
  阴离子聚合物I   0.00115   20.42
表3：阴离子共聚物的化学式和分子量
Figure BPA00001421842900041
表4：表3中所列处理的抗张强度测量
Figure BPA00001421842900042
c.表面积测量
在处理和未处理过的发束上进行表面积分析，以了解低分子量聚合物物质是否会渗入毛干。实验方案包括下列步骤。
通过氮吸附分析进行表面积分析。使用Quantachrome Autosorb-1C仪器进行头发样品上的氮吸附分析。将样品切成非常细小的片段，然后加入到样品池中，在样品池中将样品在145℃和真空下放置0.5小时。要得到精确的测量，完全除水是必要的，所以使用145℃。该数值是基于差式扫描量热仪(DSC)收集的数据，其中脱水峰在约125℃处出现。对所有的样品，均使用5-ptBET(Brunauer-Emmett-Teller)表面积分析。表面积的下降表明低分子量聚合物渗入头发并占据遍布毛干的孔空间。
将表面分析研究的结果示于图5中。图5的气体吸附分析表明用聚合物II处理的毛干表面积显著降低，这说明低分子量聚合物有效地渗透到毛干中。

Claims (15)

1.处理一种或多种受损毛干的方法，每个毛干包括角质层和包裹在所述角质层内的皮质层，所述方法包括：选择可以穿透具有约5埃至约5,000埃孔径的毛干的一种或多种阴离子聚合物；并通过向所述毛干施用有效量的包含所述阴离子聚合物的组合物来处理所述毛干。
2.权利要求1的方法，其中所述阴离子聚合物具有的重均分子量为约300道尔顿至约80,000道尔顿。
3.权利要求1的方法，其中所述头发受到化学损伤和/或UV损伤和/或热损伤和/或松散剂损伤。
4.权利要求1的方法，其中所述阴离子聚合物选自由均聚物、共聚物和三元共聚物及其组合组成的组。
5.权利要求1的方法，其中所述阴离子聚合物是线性的或具有少数支链或桥接或链间交联的链状方式。
6.权利要求1的方法，其中在施用松散处理之前，向头发施用包含阴离子聚合物的组合物。
7.权利要求1的方法，其中在施用松散处理的同时，向头发施用包含阴离子聚合物的组合物。
8.权利要求1的方法，其中在施用松散处理之后，向头发施用包含阴离子聚合物的组合物。
9.权利要求1的方法，其中所述阴离子聚合物具有低分子量。
10.权利要求9的方法，其中所述阴离子聚合物具有约300道尔顿至约10,000道尔顿的低分子量。
11.权利要求9的方法，其中所述阴离子聚合物具有约300道尔顿至约12,000道尔顿的低分子量。
12.权利要求1的方法，其中所述组合物包含一种或多种化妆用可接受的赋形剂。
13.权利要求1的方法，其中所述赋形剂选自水、糖、表面活性剂、润湿剂、矿脂、矿物油、脂肪醇、脂肪酯软化剂、蜡和含硅酮蜡、硅油、硅氧烷液、硅酮表面活性剂、挥发性烃油、季氮化合物、胺官能化的硅酮、调理聚合物、流变改性剂、抗氧化剂、防晒活性剂、约C10至C22的二长链胺、约C10至C22的长链脂肪胺、脂肪醇、乙氧基化的脂肪醇和二尾磷脂。
14.权利要求1的方法，其中所述组合物是头发松散剂。
15.权利要求1的方法，其中所述孔径为约5埃到约5,000埃。
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