CN102257593B - 平版印刷系统中对射束的同步测量 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种确定多个射束中的单独调制的射束的强度的平版印刷系统，该系统包括具有传感器的测量设备，该传感器具有适于同时感测多个射束并且提供所述多个射束的聚合信号的传感器区域。根据相关联的暂时消隐图案对射束进行单独的调制。本发明进一步涉及用于根据测量的聚合信号和射束的暂时消隐图案来计算各个射束强度的方法。

Description

平版印刷系统中对射束的同步测量

技术领域

本发明涉及一种平版印刷系统，其中，对来自多个射束的各个射束的强度进行确定，该系统包括具有传感器的测量设备，该传感器具有适于同时感测多个射束并且提供其聚合信号的传感器区域。本发明还涉及一种用于根据所测量的聚合信号来计算这样的单独射束强度的方法。

背景技术

带电粒子的曝光射束、光和/或其它类型的放射被用于工业，尤其是用于高度集成的和微图案的半导体器件的制造中。这种半导体器件通常形成在半导体晶圆上，在其上沉积多层适当的材料、对其进行图案化，并随后根据预定图案对其进行蚀刻。曝光射束经常用于图案化步骤。在随后步骤中，暴露在这种射束下的牺牲材料的部分将被蚀刻，而没有暴露在射束下的部分将保持，由此得到例如晶圆上的图案。

在该过程中，曝光射束的剂量需要被准确地监测并且可能相应地被调适；如果剂量过低，则牺牲材料将不会充分反应并且牺牲材料将无法在后续步骤中被蚀刻掉，而如果剂量过高，则射束的一些部分将溢出到不应该被曝光的区域，导致比所需的更大表面被蚀刻。两种情况都导致与希望的图案不同的图案。

不利的是，到达牺牲材料的射束的剂量易于由于例如以下原因而随时间改变：射束源的改变、曝光系统的改变、要传递的图案的改变等。因此，需要能够确定用于射束曝光系统的射束的剂量。优选地，可以在曝光射束击中目标或大约击中目标时快速地为许多射束确定这样的剂量。

为了以快速并可靠的方式确定带电粒子(CP)射束或CP射束的剂量，已经提出了一些解决方案：

在JP2004-200549A中描述了一种多射束平版印刷系统，其中，通过使用在一个平面上提供的法拉第杯，对所有m×n矩阵形式的电子束中的全部电流的绝对值进行测量；并且使用半导体检测器对m×n个射束中的每个射束的相对值进行测量，或通过使用闪烁器和光电倍增器的组合，用于反射电子或次级电子的确定。在图表中示出了针对所有电流标准化的相关电流值，并且这使得能够在接下来的汲取动作中瞬间以改进可靠性进行异常值的检测。法拉第杯用于准确但相对慢地确定撞击在其上的一个或所有电子束的绝对总电流。相对电流测量提供了对一个或多个电子束的电流的相对快速但较不准确并且相对的表示。根据所有单独电子束的相对电流，当已知所有电子束的组合的总电流时，可以做出对所有单独电子束的绝对电流的估计。

在US2006/0,138,359A1(’359)中，公开了一种CP射束曝光装置，其将来自CP射束源的CP射束通过形成在孔径阵列中的多个孔径分成多个CP射束，以使用多个CP射束执行曝光，所述装置包括：

检测单元，检测穿过孔径阵列的孔径的CP射束的强度，以及

网格阵列，其根据由所述检测单元获得的检测结果来调整CP射束的强度。

在根据’359的实施例中，在曝光装置的两个水平处测量射束的强度。首先，针对穿过孔径阵列的每个单独射束或射束组，测量强度。这由以下操作来完成：消隐穿过孔径阵列的所有其它射束，并且将法拉第杯置于单个CP射束附近以测量要被测量的射束或射束组。法拉第杯被置于晶圆表面上或其附近，以获得靠近晶圆表面的射束或射束组的测量值。针对每个射束或射束组的测量的强度被存储在存储器中并且稍后用作参考值。

在对诸如晶圆的目标的图案化阶段期间，可以执行射束强度的额外测量。对被孔径阵列的表面阻挡的射束部分的强度进行测量，所述表面彼此隔离并且与单个孔径或孔径组相关联。假定CP射束被孔径周边的表面所阻挡的部分的强度与CP射束穿过孔径的部分的强度相似。因此，基于在孔径阵列的相关联的阻挡表面上测量的CP射束强度，有可能确定从孔径阵列射出的多个CP射束的大概强度。将在这些测量的期间获得的值与参考值进行比较，并且该系统适于最大化从孔径阵列射出的CP射束的均匀性。

当使用上述装置来测量从孔径阵列射出的多个射束中的实际各个射束的强度时，测量设备(在该情况中是法拉第杯)应该被放置在靠近在图案化阶段期间射束将到达目标的位置。对测量设备的定位可以针对从孔径阵列射出的多个射束中的每个射束进行重复，这要花费时间，并且对于要测量上千射束的系统来说是特别不切实际的。此外，在射束到达目标的水平之前测量大概CP射束强度的孔径阵列上的检测表面必须被精确地对准，并且不允许有与CP射束的实质干扰。检测表面的精确对准需要复杂的设计。此外，当孔径很小时，例如当使得上千射束从孔径阵列射出或达到高的射束分辨率时，CP射束可受到检测表面发射的电信号的影响，使得该方案对于其中使用上千个单独CP射束的系统来说是不切实际的。

显然地，业界仍需要用于快速确定多个(例如，成千上万个)射束中的每个射束的剂量的系统和方法，这种系统和方法将制造过程延迟最小的时间量，并且优选地仅使用单个传感器。

发明内容

为此目的，根据本发明的第一方面，提供一种多射束平版印刷系统，该平版印刷系统包括：射束源，用于提供多个射束；消隐器阵列，包括用于所述多个射束中的每个射束的消隐器，所述阵列适于基本上允许多个射束通过；控制设备，用于向所述消隐器阵列提供暂时消隐图案，所述暂时消隐图案指示每个射束何时应该被消隐而何时不该被消隐，由此使用唯一的暂时消隐图案来调制每个射束；以及，测量设备，布置在所述消隐器阵列的下游，包括传感器，所述传感器具有用于直接并同时地感测多个单独地调制的射束的传感器区域，以提供所述多个射束的聚合信号。该实施例允许直接和同时地测量多个射束，产生聚合信号。有利地是，在测量期间传感器可以保持在某个位置上以避免需要花时间重新对传感器进行对准以用于单个射束的测量。另一优点是，传感器可以被放置在与要被暴露给射束的目标相同的水平，因此允许在射束要击中诸如晶圆的目标时对射束进行测量。同时测量多个单独射束的另一优点是良好的可量测性而无需增加传感器的构造的复杂性。由于该传感器提供了聚合信号而不是针对每个射束的单独信号，因此如现有技术中的精细布线配置可以被忽略，并且通过增加传感器的区域，可容易地使系统适于测量额外的射束。因此，有可能同时获得多个射束(例如，至少几十万个射束)的聚合信号。由于仅需要单个传感器，因此系统的空间和维护需要以及构造复杂度都可以保持在最小。此外，由于对多个射束的聚合强度进行测量，传感器的动态范围可以更小。然而，最重要的是，用于精确测量这样的聚合信号所需的时间可以显著地小于用于精确测量单个射束的小的多的强度所需的时间。本实施例可以允许在大约10秒内确定500,000或更多的射束的单个射束强度。

在该系统的实施例中，进一步包括：解调器，适于将所述聚合信号解调为针对每个单独射束的强度值。有关针对所有单个射束的暂时消隐图案以及根据时间的聚合信号的信息提供了使解调器推导单个射束强度值的足够的信息。解调是可能的，这是因为任何两个射束的两个暂时消隐图案都是不相同的。如果两个射束的暂时消隐图案是相同的，则无法从一系列聚合信号测量值推导出这样的两个射束是否分别具有85％和95％的强度，或者这两个相同的射束是否分别具有例如95％和85％、或100％和80％的强度。

在实施例中，解调器包括电子数据处理器113，电子数据处理器113适于向所述控制设备提供所述暂时消隐图案，并且基于它们相应的暂时消隐图案和根据时间的多个射束的聚合信号来计算各个射束的强度的测量值。典型地，用于单个射束的暂时消隐图案被存储在诸如计算机的电子数据处理器的存储器中。电子数据处理器向控制设备提供这些图案。接着，在预定的时间，控制设备向消隐器阵列提供消隐图案。每次向消隐器阵列提供不同图案时，可以对聚合的强度信号进行测量并且测量值被存储在电子数据处理器的存储器中。因此，当完成所有测量之后，有充分的信息可用于使电子数据处理器计算各个射束强度。在本文的下述部分中描述了可以完成上述内容的方法。

在实施例中，传感器区域适于同时感测系统的多个射束的所有射束。常见地，消隐器阵列中的消隐器仅能够基本上消隐一个射束，例如，消隐器可以能够消隐一个射束的99％，允许该射束的1％作为剩余射束穿过。估计单个剩余射束的信号的方法是测量当多个射束中没有射束被消隐时的聚合信号，当所有多个射束中仅有一个射束被消隐时的聚合信号，以及射束的信号对比。从第一中减去第二和第三提供了单个射束的剩余信号。

在实施例中，传感器区域是连续区域。当适于同时感测多个射束中的所有射束的传感器区域连续时，射束到传感器上的对准可以保持简单。

在系统的实施例中，多个射束包括多个带电粒子射束，传感器包括适于测量由多个射束产生的聚合电流的电流测量设备。有利地，根据本发明，需要相当少的电布线，尤其是在传感器区域中，导致更少不希望的所用带电粒子射束的偏转和/或散射。带电粒子射束对电场的灵敏性可以作为被消隐器阵列利用的优点；这样的消隐器阵列可以包括被光电池包围的孔径阵列。当这样的光电池受到光照射时，在孔径周围产生适于对单个射束进行偏转的局部电流。因此，可以有效地构造整个消隐阵列而不使用电控线，并且可以使用不与CP射束相干扰的光源来控制整个消隐阵列。

在实施例中，电流测量设备包括一个或多个法拉第杯、电流钳和/或闪烁材料和光子计数器。法拉第杯的使用提供了简单的传感器的优点，同时传感器自身对于反向散射的CP射束的散射高度不敏感。此外，使用法拉第杯进行的测量提供了法拉第杯所收集的带电粒子的数量和法拉第杯所产生的测量电流之间的直接关系。在电流钳或类似设备用于测量电流的情况下，在图案化阶段期间可以使用电流钳，因为其不在测量期间阻挡射束。除了带电粒子的数量之外，粒子的能量也是受关注的，可以使用光子计数器和诸如钇铝石榴石晶体的闪烁材料。

在实施例中，根据本发明的系统进一步包括：目标定位系统，所述目标定位系统包括用于承载和移动要曝光于射束的目标的工件台，其中，所述测量设备被安装在工件台上。当测量设备被安装在所述工件台上时，在测量期间可以使射束和测量设备之间的距离基本上等于在图案化阶段期间该射束和目标之间的距离，因此，提供了射束将要击打目标时射束强度的良好指示。

在实施例中，系统进一步包括：会聚装置，用于将多个射束引导到传感器区域。通过引导多个射束，与如果不允许各个射束组合，例如，如果特定的传感器区域被分配给对应的射束相比，可以使用小得多的传感器区域。优选地，会聚装置位于平版印刷系统的光学柱的端部。在实施例中，会聚装置被包括在测量设备中。

在实施例中，会聚装置包括诸如光学透镜或静电透镜的会聚元件。

在实施例中，测量设备进一步包括：放置在所述传感器区域前方的刀口或刀口阵列。使用由该实施例获得的测量值，有可能以与各个射束强度的计算相类似的方式来计算各个射束轮廓。

在实施例中，刀口或刀口阵列基本上被置于所述系统的像平面中。

根据本发明的第二方面，提供了一种多射束平版印刷系统，包括用于将多个射束投射到目标上的多射束柱，其中，所述多射束柱包括：射束源，用于提供多个射束；消隐器阵列，被布置在射束源和目标之间，包括用于多个射束中的每个射束的消隐器，其中，所述阵列适于基本上允许多个射束通过；控制设备，用于向消隐器阵列提供消隐图案，所述消隐图案指示每个射束何时应该被消隐而何时不该被消隐；投射装置，用于将多个射束投射到目标上；其中，所述系统进一步包括：传感器，布置在所述多射束柱的下游，用于检查所述多射束柱的吞吐量，其中，所述传感器包括传感器区域，该传感器区域适于同时感测所述多个射束的所有射束，并且其中，所述传感器被布置为提供所述多个射束的聚合信号。该步骤允许使用与目标的图案化期间将使用的相同的光学设备来对射束强度进行准确测量。在测量期间，不需要使用可能影响该测量的额外的光学设备，也不需要对多个射束进行与目标的图案化期间适当的偏转相比不同的偏转。

在优选实施例中，传感器区域被置于与目标基本上相同的水平。这导致对射束要击打目标时的射束强度的高度准确和实际的测量。在传感器包括法拉第杯的情况下，法拉第杯的入口优选地被置于与目标基本上相同的水平处。

根据本发明的第三方面，提供一种用于在前述的系统中同时测量多个射束的方法，所述方法包括如下步骤：

i)提供多个暂时消隐图案，所述多个暂时消隐图案包括用于每个射束消隐器的暂时消隐图案，每个暂时消隐图案表示在一个时间间隔内的相关射束的调制，

ii)通过向与射束相关联的每个消隐器流入相关联的暂时消隐图案，感测所有未消隐射束的聚合射束强度信号，并且在根据时间流入暂时图案的期间测量所述信号，来在所述时间间隔期间同时调制多个射束，

iii)基于各个射束的相关联的暂时消隐图案和根据时间的信号来计算各个射束的强度的测量值。

使用该方法，可以根据仅使用一个传感器进行的聚合测量来计算各个射束的强度。确定这些各个强度的速率可以是非常高的，因为不需要针对射束的每次测量重新对准传感器。此外，使用该方法，当在任何时间都有若干射束未被消隐时，可以减小剩余信号在确定各个射束强度的过程中对精确度的影响。

在该实施例中，该方法的步骤iii)包括：通过基于各个射束的相关联的暂时消隐图案和根据时间的信号计算各个射束的强度的测量值，对所述信号进行解调。

在实施例中，所述暂时消隐图案彼此基本上是正交的。暂时消隐图案之间的高度独立性使得所得到的聚合信号较容易被解码。

在实施例中，在步骤i)和ii)期间，所述多个射束中基本上只有一半是打开的。在该实施例中，测量的聚合信号的范围基本上可以被减小，以允许具有更小范围的更灵敏的传感器的使用，并且允许更快速地执行测量。此外，由于一个单独射束强度的轻微变化基本上可以被另一个单独射束强度的轻微变化消除，因此对聚合信号和由其导出的各个射束强度的噪声影响小得多。

在该实施例中，使用伪随机数产生多个暂时消隐图案。纵观历史，已经设计了许多用于产生伪随机数的方法，并且已经广泛测试了许多计算机实现的随机数产生器。在Texas Instruments 1996年的出版物“What is an LFSR？”中公开了一种使用线性反馈移位寄存器的流行且已知的方法，该方法适于产生暂时消隐图案。这种消隐图案的高度不规则性使得它们较不容易受到潜在干扰的影响，潜在干扰例如可以存在于测量设备的电源中并且可以影响结果的准确性。另外，通过将这些图案的一个或多个部分替换为伪随机产生的图案，随机元件可以被添加到非随机产生的暂时消隐图案中。

在实施例中，从具有正交行的正交矩阵的行中导出暂时消隐图案，所述正交矩阵诸如是哈达马(Hadamard)矩阵或沃尔什(Walsh)矩阵。使用这样的矩阵作为起始点，可产生大量的暂时消隐图案。

在实施例中，对所述暂时消隐图案进行选择，使得每个暂时消隐图案包含大量的开关转换。有利地是，可以由此减小射束强度的周期变化对聚合信号上的影响。这样的周期变化例如可以取决于对射束产生器进行供电的电源频率。当暂时消隐图案的若干集合可用时，那些各个射束的暂时消隐图案具有最大数量的开关转换的集合是优选的。

在实施例中，暂时消隐图案被布置成使得在基本上任何时间，未消隐射束的总数量基本上是常数。换句话说，在测量期间的任何时间，到达传感器的多个射束的射束数量基本上是相同的，允许传感器的减小的动态范围。

在实施例中，传感器包括电流测量设备，该电流测量设备用于测量由所述多个射束产生的聚合电流，其中，所述电流测量设备进一步包括能够在第一设置和第二设置之间切换的可变增益放大器，第一设置包括高增益和低噪声设置，第二设置包括低增益和高噪声设置；其中，所述方法包括当期望所述聚合电流较小时将所述可变增益放大器设置为所述第一设置，当期望所述聚合电流较大时将所述可变增益放大器设置为所述第二设置。

通过基于期望的聚合电流(可能为某因子乘以穿过消隐器阵列的射束的数量)来调适放大器的增益，可以获得高准确度的测量值。

根据本发明的第四方面，提供了一种适合用于上述系统的测量设备，所述设备包括传感器，该传感器具有被布置成用于同时感测多个射束以提供所述多个射束的聚合信号的传感器区域，该设备进一步包括放置在所述传感器区域前方的刀口或刀口阵列。射束在刀口阵列的刀口上的位置可以通过对射束进行偏转来控制，或者通过将测量设备放置到希望的位置来控制。对于刀口的每个位置，这里所述的任何方法可以用于导出多个射束中的每个射束的轮廓。

总的来说，本发明涉及一种平版印刷系统，其中，确定来自多个射束的单独调制的射束的强度，该系统包括具有传感器的测量设备，该传感器具有适于同时感测多个射束并且提供所述多个射束的聚合信号的传感器区域。根据相关联的暂时消隐图案对射束进行单独调制。本发明进一步涉及根据测量的聚合信号和射束的暂时消隐图案来计算各个射束强度的方法。

无论任何情况，说明书中所述和所示出的各个方面和特征可以分别地应用。这些各个方面，尤其是在随附从属权利要求中描述的方面和特征，可以成为分案专利申请的主题。

附图说明

将根据在附图中示出的示例性实施例来阐明本发明，其中：

图1示出了根据本发明的多射束平版印刷系统的图；

图2示出了根据本发明的包括目标定位系统的多射束平版印刷系统的剖面图；

图3示出了其行可以用作暂时消隐图案的4阶哈达马矩阵；

图4示出了根据本发明获得的基于时间的信号的图。

具体实施方式

图1示出了根据本发明的系统。通过例如计算机或电子数据处理器113向控制设备112提供多个暂时消隐图案。射束源101提供射束102，射束102穿过准直器103，准直器103适于将扩散的射束102转换成主要平行的射束。然后，得到的主要平行的射束被投射到孔径阵列104并且部分地穿过孔径阵列104。孔径阵列将射束分成多个射束105，多个射束105从孔径阵列射出。聚光透镜106用于在各个射束到达射束消隐器阵列107之前对各个射束进行会聚。消隐器阵列适于基本上仅使得对应于暂时图案的多个射束通过，该暂时图案借助控制设备112流入消隐器阵列。消隐器阵列包括偏转器阵列1071、以及在该偏转器阵列1071下游一定距离处的另一孔径阵列1072。随后，由测量设备110测量的多个射束的聚合信号被存储在计算机113处以用于根据本发明的方法的进一步处理。因此，计算机113可以用于在一旦测量完成时就对该聚合信号进行解调，也就是说，计算机可以适于基于各个射束的相关联的暂时消隐图案和根据时间的聚合信号，来计算各个射束的强度的测量值。多个射束成像的位置108基本上与射束在图案化阶段期间将要撞击目标的位置具有相同的水平或高度。

图2示出了根据本发明的包括目标定位系统的多射束平版印刷系统1的剖面图。目标3，例如硅晶圆，被保持在用于保持目标的目标台5上。目标台被置于y方向平移工件台6上，y方向平移工件台6又置于x方向平移工件台7上。x方向平移工件台进一步包括测量设备2，测量设备2包括基本上与目标位于相同水平的传感器区域。位于真空腔4中的光学柱111提供多个射束。只要图案化新的目标，并且要监测多个射束中各个射束的剂量的可能改变时，工件台被置于测量设备能够被其强度要被测量的所有射束达到的位置。在对这些各个射束的强度进行测量和计算之后，可以相应地调整所述强度，移动该工件台以将目标定位在射束下方并开始对目标的图案化。可以通过使用会聚装置在多个射束到达传感器区域之前对多个射束进行会聚来减小用于测量设备的所需传感器区域。作为替换，测量设备可以包括用于确定多个射束中的每个射束的射束轮廓的刀口阵列。通过对于射束相对于刀口阵列的若干不同位置，计算入射到传感器上的射束的射束强度，可以获得多个射束中每个射束的单独的射束轮廓。

在图3中示出了其行被用作暂时消隐图案的正交矩阵H。该矩阵是4阶哈达马矩阵，但是，基于测量所需要的准确度，可以使用另一正方矩阵。为了计算方便，这些矩阵优选地是二元矩阵。举例来说，假定有具有如下强度的四个射束：

i_b＝(0.9，1.3，1.1，0.8)

在控制设备向消隐器阵列流入暂时图案的一部分的每个时间间隔n，测量装置测量的聚合信号x_n将是：

x_n＝(i_b·H)

或者，在本例中是：

x_n＝(4.1，0.3，-0.1，-0.7)

实际中，聚合信号还将包含一些噪声。如果四个测量值的噪声的模型是：

e_n＝(0.092，0.067，-0.104，0.007)

则所测量的包括噪声的聚合信号将是：

X_n＝x_n+e_n

＝(4.192，0.367，-0.204，-0.693)

为了找回各个射束对聚合信号的贡献，这样计算就够了：

${\hat{l}}_b=(X_n\·H)/4$

$=\left(\mathrm{0.915,1,364,1.078,0.834}\right)$

在该例子中，为了清楚和简单起见，使用哈达马矩阵，尽管也可以使用具有类似特性的其它类型的正方矩阵，其中一些还具有额外的优点。在任何一种情况中，该方法有利地利用这样的事实：由于所有暂时消隐图案具有与其它暂时消隐图案的基本上为零的内积，因此通过取一个暂时消隐图案与聚合信号的内积可以滤除除该一个暂时消隐图案以外的所有暂时消隐图案对聚合信号的贡献。在该例子中，由于矩阵H的第一列的和远大于随后列的和，因此聚合信号的第一元素具有比其它元素大得多的值。如果聚合信号的第一元素被忽视了，则测量设备的动态范围可以显著地减小，代价是少测量一个射束。作为替换，为减小测量设备的动态范围需求，可以使用所有的列都具有基本上相同的和的矩阵。从伪随机产生的矩阵的行中导出的暂时消隐图案特别提供了所需的特性，诸如在测量期间对干扰和随机噪声的改进的抵制，所述测量设备的减小的动态范围允许使用更小噪声测量设备。

在图4中，示出了根据本发明的方法中使用的随时间变化的信号的图。用于获得信号的暂时消隐器图案组成了6阶哈达马矩阵的行。信号中的峰值是由矩阵的第一列的和远大于其它列的和的事实引起的。使用这些哈达马矩阵导出的暂时消隐器图案，在测量开始时，所有射束穿过消隐器阵列，然而在其它时间仅有一半射束穿过消隐器阵列。该图示出了通过少测量一个射束和/或使用例如伪随机产生的矩阵来从其导出暂时消隐器图案能够实现的动态范围的改进。

总的来说，本发明涉及确定来自多个射束的各个调制的射束的强度的平版印刷系统，包括具有传感器的测量设备，该传感器具有适于同时感测多个射束并且提供所述多个射束的聚合信号的传感器区域。根据相关联的暂时消隐器图案来单独地调制射束。本发明进一步涉及根据所测量的聚合信号和射束的暂时消隐图案来计算各个射束强度的方法。

应当理解，包括上述描述是为了示出优选实施例的操作，并且不用于限制本发明的范围。根据上述讨论，许多对本领域技术人员显而易见的修改也包含在本发明的范围的精神内。例如，尽管所描述的实施例都涉及带电粒子射束，但是本发明还适用于诸如远紫外光的光学平版印刷系统。

Claims (20)

1.一种多射束平版印刷系统，包括：

射束源，用于提供多个射束；

消隐器阵列，包括用于所述多个射束中的每个射束的消隐器，所述消隐器阵列适于基本上允许多个射束通过；

控制设备，用于向消隐器阵列提供暂时消隐图案，所述暂时消隐图案指示每个射束何时应该被消隐而何时不该被消隐，由此每个射束使用唯一的暂时消隐图案来调制；以及

测量设备，布置在所述消隐器阵列的下游，包括传感器，所述传感器具有用于直接并同时地感测多个单独调制的射束的传感器区域，以提供随时间改变的多个射束的聚合信号；以及

解调器，适于将所述聚合信号解调为针对每个单独射束的强度值。

2.根据权利要求1所述的多射束平版印刷系统，其中，所述解调器包括电子数据处理器，所述电子数据处理器适于向控制设备提供所述暂时消隐图案，并且用于基于它们对应的暂时消隐图案和根据时间的所述多个射束的所述聚合信号来计算各个射束的强度的测量值。

3.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述传感器区域被安置为同时感测所述系统的所述多个射束中的所有射束。

4.根据权利要求1或2所述的系统，其中，所述传感器区域是连续区域。

5.根据权利要求1或2所述的系统，其中，所述多个射束包括多个带电粒子射束，并且所述测量设备包括电流测量传感器，所述电流测量传感器被布置为测量由所述多个射束产生的聚合电流。

6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述电流测量传感器包括一个或多个法拉第杯、电流钳和／或闪烁材料和光子计数器。

7.根据权利要求1或2所述的系统，进一步包括：目标定位系统，所述目标定位系统包括用于承载和移动将要被曝光于所述射束的目标的工件台，其中，所述测量设备安装在所述工件台上。

8.根据权利要求1或2所述的系统，进一步包括：会聚元件，该会聚元件用于将所述多个射束引导到所述传感器区域上。

9.根据权利要求1或2所述的系统，其中，所述测量设备进一步包括放置在所述传感器区域前方的刀口或刀口阵列。

10.根据权利要求9所述的系统，其中，所述刀口或刀口阵列被置于所述系统的像平面中。

11.一种用于在根据前述权利要求中任一项所述的系统中同时测量多个射束的方法，所述方法包括如下步骤：

i)提供多个暂时消隐图案，该多个暂时消隐图案包括用于每个消隐器的暂时消隐图案，每个暂时消隐图案表示在一定时间间隔内的相关联的射束的调制，

ii)通过向与射束相关联的每个消隐器流入相关联的暂时消隐图案，来在所述时间间隔期间对所述多个射束进行调制，感测所有未消隐射束的聚合射束强度信号，并且在流入所述暂时图案期间测量根据时间的所述信号，其中在任何时间都有若干射束未被消隐，

iii)基于各个射束的相关联的暂时消隐图案和根据时间的信号来计算各个射束的强度的测量值。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述步骤iii)包括：通过基于各个射束的相关联的暂时消隐图案和根据时间的信号计算各个射束的强度的测量值，来对所述信号进行解调。

13.根据权利要求11或12所述的方法，其中，所述多个射束的暂时消隐图案彼此是正交的。

14.根据权利要求11或12所述的方法，其中，在步骤i)和ii)期间，只有所述多个射束中的一半是被打开的。

15.根据权利要求11或12所述的方法，其中，使用伪随机数产生多个暂时消隐图案。

16.根据权利要求11或12所述的方法，其中，对所述暂时消隐图案进行选择，使得每个暂时消隐图案包含大量的开关转换。

17.根据权利要求11或12所述的方法，其中，对所述暂时消隐图案进行安排，使得在任何时间，未消隐射束的总数量是常数。

18.根据权利要求11或12所述的方法，其中，所述测量设备包括电流测量传感器，该电流测量传感器被布置成随时间改变测量由多个射束产生的聚合电流，其中，所述测量设备进一步包括能够在如下状态之间切换的可变增益放大器：

第一设置，包括高增益和低噪声设置，以及

第二设置，包括低增益和高噪声设置，

其中，所述方法包括当期望所述聚合电流较小时，将所述可变增益放大器设置为所述第一设置，或者当期望所述聚合电流较大时将所述可变增益放大器设置为所述第二设置的步骤。

19.一种适合用于根据权利要求1-10中任一项的系统的测量设备，所述设备包括传感器，该传感器具有被布置成同时感测多个射束，以提供所述多个射束的聚合信号的传感器区域，该设备进一步包括放置在所述传感器区域前方的刀口或刀口阵列。

20.一种多射束平版印刷系统，包括用于向目标投射多个射束的多射束柱，其中，所述柱包括：

射束源，用于提供多个射束；

消隐器阵列，被布置在所述射束源和所述目标之间，该消隐器阵列包括用于所述多个射束中的每个射束的消隐器，其中，所述阵列适于允许多个射束通过；

控制设备，用于向所述消隐器阵列提供消隐图案，所述消隐图案指示每个射束何时应该被消隐而何时不该被消隐；

投射装置，用于将所述多个射束投射到所述目标上；

传感器，布置在所述多射束柱的下游，用于检查所述多射束柱的吞吐量，其中，所述传感器包括传感器区域，该传感器区域适于同时感测所述多个射束中的所有射束，并且其中，所述传感器被布置成随时间改变提供所述多个射束的聚合信号；以及

解调器，适于通过基于各个射束的相对应的暂时消隐图案和根据时间的所述多个射束的聚合信号计算各个射束的强度的测量值，来对所述聚合信号进行解调。

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