CN102251223A - 用于旋转靶的配电装置 - Google Patents

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黄峰
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Abstract

本发明涉及一种用于旋转靶的配电装置,包括有导电杆头,特点是:导电杆头顶端设置有容纳槽,容纳槽内设置有电极碳刷组件。由此,实现了分离式的构造,便于后续的维护与替换。同时,能够有效适应旋转式驱动为主的镀膜装置使用需求,能够顺畅旋转。

Description

用于旋转靶的配电装置
技术领域
本发明涉及一种配电装置,尤其涉及一种用于旋转靶的配电装置。
背景技术
目前生产镀膜玻璃的设备中大多采用平面溅射阴极靶材,其工作原理是:将需镀膜的玻璃送入真空镀膜室内,真空镀膜室内通入一定量的高纯工艺气体一如氧气、氮气或氩气,在电磁场及游离电子的作用下工艺气体形成带正电的等离子体,等离子体在载有高负电压的阴极的吸引下,在磁场的控制下,按照一定的轨迹和力度轰击固定安装在真空镀膜室内的平面阴极靶材上的镀膜用材料,镀膜材料被气体分子碰撞出来,按照一定方向沉积在玻璃上形成一定厚度的膜层。
但是,现有的配电装置采用了一体式的构造无法进行分离,由此导致了后续维护困难,提升了制造与维护成本。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术存在的以上问题,提供一种用于旋转靶的配电装置。
为实现本发明的目的用于旋转靶的配电装置,包括有导电杆头,其中:所述的导电杆头顶端设置有容纳槽,所述的容纳槽内设置有电极碳刷组件。
进一步地,上述的用于旋转靶的配电装置,其中,所述的电极碳刷组件包括有电极环,所述的电极环外圆周上分布有石墨片。
采用本发明技术方案,实现了分离式的构造,便于后续的维护与替换。同时,能够有效适应旋转式驱动为主的镀膜装置使用需求,能够顺畅旋转。
本发明的目的、优点和特点,将通过下面优先实施例的非限制性说明进行图示和解释,这些实施例是参照附图仅作为例子给出的。
附图说明
图1是导电杆头的构造示意图;
图2是电极环的构造示意图;
图3是旋转靶的配电装置的构造示意图。
具体实施方式
如图1~3所示的用于旋转靶的配电装置,包括有导电杆头1,其特别之处在于:本发明所采用的导电杆头1顶端设置有容纳槽2。同时,在容纳槽2内设置有电极碳刷组件。
结合本发明一较佳的实施方式来看,为了便于实现旋转靶后续的顺畅运转,同时也为了满足配电过程中的电流稳定,在电极碳刷组件包括有电极环3,所述的电极环3外圆周上分布有石墨片4。
进一步来看,通过多次对比试验后发现石墨片4之间等距离分布后能够将整体的配电效果维持在较为优化的状态,有利于镀膜中靶材组件的运作。
通过上述的文字表述并结合附图可以看出,采用本发明后,实现了分离式的构造,便于后续的维护与替换。同时,能够有效适应旋转式驱动为主的镀膜装置使用需求,能够顺畅旋转。
当然,以上仅是本发明的具体应用范例,对本发明的保护范围不构成任何限制。除上述实施例外,本发明还可以有其它实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案,均落在本发明所要求保护的范围之内。

Claims (2)

1.用于旋转靶的配电装置,包括有导电杆头,其特征在于:所述的导电杆头顶端设置有容纳槽,所述的容纳槽内设置有电极碳刷组件。
2.根据权利要求1所述的用于旋转靶的配电装置,其特征在于:所述的电极碳刷组件包括有电极环,所述的电极环外圆周上分布有石墨片。
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Date Code Title Description
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20111123