CN102247821B - 高pH耐受性色谱填料及制备方法 - Google Patents
高pH耐受性色谱填料及制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102247821B CN102247821B CN 201010178559 CN201010178559A CN102247821B CN 102247821 B CN102247821 B CN 102247821B CN 201010178559 CN201010178559 CN 201010178559 CN 201010178559 A CN201010178559 A CN 201010178559A CN 102247821 B CN102247821 B CN 102247821B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- reaction
- silica
- silica gel
- hybrid layer
- packing material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 239000000945 filler Substances 0.000 title abstract description 29
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 93
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims abstract description 35
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 28
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims abstract description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 18
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 238000012856 packing Methods 0.000 claims description 14
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 claims description 13
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 8
- 230000005526 G1 to G0 transition Effects 0.000 claims description 4
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical group O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 abstract description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 15
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 10
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 10
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 230000035800 maturation Effects 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 5
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 4
- BONDTMGRIMOWRZ-UHFFFAOYSA-N N-ethylsilyl-N-methylmethanamine Chemical compound CC[SiH2]N(C)C BONDTMGRIMOWRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000007445 Chromatographic isolation Methods 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010019133 Hangover Diseases 0.000 description 1
- HMDDXIMCDZRSNE-UHFFFAOYSA-N [C].[Si] Chemical compound [C].[Si] HMDDXIMCDZRSNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- OWMVSZAMULFTJU-UHFFFAOYSA-N bis-tris Chemical compound OCCN(CCO)C(CO)(CO)CO OWMVSZAMULFTJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- KCWYOFZQRFCIIE-UHFFFAOYSA-N ethylsilane Chemical compound CC[SiH3] KCWYOFZQRFCIIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- 238000004366 reverse phase liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229940126586 small molecule drug Drugs 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
本发明提供了一种高性能色谱填料及其制备方法。该填料以超高纯全多孔球形硅胶为基体，预先通过反应涂覆一层厚度几个nm的具有高pH耐受性的无机/有机杂化层的方式进行表面修饰。该填料在保持了其它硅胶基质填料所具有的优点的同时，克服了传统硅胶填料pH使用范围相对狭窄的局限性，将pH使用范围拓宽到1-12.5。该填料制备时，采用了无机/有机杂化聚合物预制后，再和硅胶基体反应，将杂化层涂覆到硅胶基体上的工艺方法。
Description
技术领域
本发明涉及一种功能性化学材料及其制备方法，尤其涉及一种在医药、食品、化工、环保等领域中用于组份分离纯化和含量分析测定的高性能色谱填料及其制备方法。
背景技术
当今超过80%的小分子药物有一个或多个易离子化的基团。离子态存在的药物分子，与原先中性状态相比，在溶解性和疏水性上相差较大，在普通的反相色谱条件下（pH2-7），色谱分离效果很差。调节流动相pH比弱碱pKa大2个单位或比弱酸pKa小2个单位，可有效抑制离子化的发生而使药物分子绝大部分处于中性分子状态，从而取得很好的色谱峰形和分离效果。因此改善色谱填料的pH稳定性，可大大拓宽色谱应用方法的选择性和灵活性。
硅胶基质填料是骨架为Si-O键的比表面积很大的多孔材料，有机械强度高、柱效高和保留行为可预测的优点，但pH稳定性表现差。对于硅胶基质的反相色谱柱，其可耐受的流动相pH范围是2－8，pH超过8的流动相条件，Si-O键易断裂，造成硅胶基体的溶解流失，产生柱床空洞或塌陷而导致色谱峰形变差，分离度下降,色谱柱寿命短等不良后果；流动相酸性过强，键合相则易水解，同样会造成色谱性能的下降。
色谱柱生产商和研究者为提高硅胶基质填料的pH稳定性已做出了很多努力。许多的诸如高密度键合、涂覆和封尾等对硅胶表面“屏蔽”以避免高pH下的不良后果的技术，取得了一定的效果。采用聚合物基质填料，也是一种解决方案。尽管聚合物基质在pH1-14的全范围都能保持稳定，但其孔径分布宽、微孔众多、机械强度和结构强度差所导致的耐压性能远不如硅胶基质，以及溶剂变化会导致聚合物溶胀或收缩等缺点，限制了在高效液相色谱领域中的使用。
无机/有机杂化填料，是复合材料的一种，目的是将无机和有机组分结合，产生一种两者单独存在所不具备的优良特性。美国专利6686035的发明就属于此类，是基于第一代甲基杂化颗粒技术的产品，杂化颗粒骨架中硅碳有机结构分布于整个结构网络，不仅仅是在颗粒表面。这样虽有极好的pH稳定性（pH1-12），但聚合物基质的一些缺点也带了过来，如柱效低、柱压高、拖尾过大、分离选择性难以预测以及机械强度低等问题，这些缺点至少部分是因为孔径分布范围过大造成的。实际上，只有表面一层含的有机质才起到耐高pH流动相侵蚀的作用，等到流动相开始接触到内层基体时，色谱性能早已因表面层被侵蚀所造成的柱床塌陷和吸着在表面层的固定相流失而完全或几乎完全丧失了，因此内层的有机杂化是浪费的、不必要的。
综上所述，研制一种既能保持硅胶基质的高柱效等优点，又能像聚合物基质一样有极高pH耐受性的色谱填料，非常必要。
发明内容
本发明的目的，在于提供一种高性能的色谱填料，既保持硅胶基质填料的高柱效、高机械强度等优良的色谱应用特性，又具有很高的pH耐受性，满足更广泛的色谱应用条件的需要。
为了实现上述目的，本发明采用了以下技术方案：
选用多孔硅胶，最优选择是选用超高纯全多孔球形硅胶作基质，在其表面进行一次或多次的和有机硅烷化合物反应而进行的化学修饰。先进行的化学修饰是在硅胶表面形成具有高pH耐受性的无机/有机杂化层。
硅胶基质表面所进行的化学修饰除了涂覆反应形成杂化层外，还有色谱固定相的键合反应修饰和封端处理修饰。
杂化层涂覆选用两种有机硅烷做反应试剂，其中一种可用分子式R1 aSiX4-a表示，另一种用分子式R(R2 bSiX3-b)n表示。这里的R是碳原子数1-8个的饱和脂族烷基；R1和R2是碳原子数1-4个的饱和脂族烷基；X是反应活性基团；a、b是可选范围是0，1，2三个正整数；n是2-8之间的正整数。
R含有的碳原子数优选范围是1-3；R1和R2含有的碳原子数优选范围是1-2个；X反应基优选范围有：Cl、OCH3、OC2H5、(CH3)2N、(CH3CH2)2N、I、Br、CN、OOCH3、O(CO)CH3和O3SCF3。
最佳方案是选a=0，n=3，b为0和1。
制备该种涂覆无机/有机杂化层的高性能色谱填料的方法，包括以下步骤：
1)：用两种有机硅烷，R1 aSiX4-a和R(R2 bSiX3-b)n预制无机/有机杂化聚合物。这里的R是碳原子数1-8个的饱和脂族烷基；R1和R2是碳原子数1-4个的饱和脂族烷基；X是反应活性基团；a、b分别为整数0、1或2；n是2-8的整数；
2)：用预制好的无机/有机杂化聚合物和无水的硅胶基体反应，进行表面化学修饰，形成杂化层；
3)：使未反应的反应活性基团全部水解；
4):将产物进行脱水烘干。
1)、2)、3)和4)四个步骤各自进行的总次数为1-5次，最优选择范围是各自进行的总次数为1-2次。
杂化层涂覆后，需要进一步的特定色谱性能的固定相的键合，键合修饰所用有机硅烷有：R1SiX3、R1R2SiX2或R1R2 2SiX，这里R1和R2代表的是不同的有机基团。最后，还需用成熟的封尾工艺对填料进行封尾处理，进一步减少表面残留的硅醇基的不良色谱效应。
本发明的高pH耐受性色谱填料具有以下的特点和优点：
1、硅胶基体本身还保持在原先状态，没有被杂化；在硅胶基质表面涂覆的杂化层厚度严格控制在2nm左右，不会堵塞和破坏原硅胶基体的多孔结构，使填料保持了普通硅胶基质填料所具有的所有优良特性，特别是高柱效、低柱压和高机械强度；通过控制无机/有机杂化层中有机成分所占的比例在较高的程度，使2nm厚的杂化层足够可以耐受最高pH12.5的流动相条件使用，具有很大范围的pH稳定性。
2、由于有机成分的引入，杂化层表面的硅醇基的密度比纯硅胶基体表面的小，使得本发明填料因硅醇基次级吸附引起的拖尾效应大大减弱。在中性条件下，测定碱性物质时，可获得更好更对称的色谱峰形。
3、杂化层表面硅醇基密度的减少，使本发明填料键合相发生相塌陷的可能性大大降低，可以在100%纯水相条件下应用。
4、硅胶基体本身特性在本发明的工艺中没有发生改变，可以通过选择不同特性的硅胶基体来赋予本发明填料的所需要的特性，如可选择不同粒径、粒径分布、孔径、孔径分布、比表面积和孔容量的硅胶基体来进行表面杂化层的涂覆处理，使本发明填料的产品设计具有很大的灵活性，容易满足一些特定应用条件下的需要。
具体实施方式
实施例1
第一步：将10克TEOS（浓度95%四乙氧基硅）溶解在20ml正己烷中，并和18克三（二甲氨基）乙基硅烷（tris(dimethylamino)ethylsilane）混匀，加入0.2ml的5%HCl溶液作催化剂，在室温下搅拌10分钟后放置待用。
第二步：将109.5克粒径5um、孔径120埃、比表面积为320m2/g的裸硅胶，在120摄氏度下真空干燥2小时以上，准确称量干燥后的硅胶重为100.1克；加入到容量1升的园底烧瓶中；然后加入500.5ml色谱级甲苯试剂，与硅胶搅拌混匀后，将第一步反应的产物全部加入此园底烧瓶中，继续搅拌并加热回流12小时以上。
第三步：冷却后，过滤，并用甲苯、甲醇、热水和丙酮分别对产物进行洗涤，以除去未反应的过量试剂，特别是必须使具有反应活性的基团完全水解，洗涤除去。
第四步：洗涤过滤完成后，将制得的填料通风处晾干3小时，然后放入真空干燥箱，在80摄氏度下，干燥4小时。
四步完成后，产物测得的载碳量为4.35%.目前产物是经杂化层涂覆处理的硅胶，在此基础上，然后进行C18固定相的键合衍生化反应和用三甲基氯硅烷（TMS）封尾等常规硅胶基质填料所必须的化学修饰。在硅胶基质表面上的一些成熟的常规修饰工艺也都适用于杂化层表面。
实施例2
第一步：将10克TEOS（浓度95%四乙氧基硅）溶解在20ml正己烷中，并和22克三（二甲氨基）乙基硅烷混匀，加入0.2ml的5%HCl溶液作催化剂，在室温下搅拌10分钟后放置待用。
第二步：将110.3克粒径5um、孔径120埃、比表面积为320m2/g的裸硅胶，在120摄氏度下真空干燥2小时以上，准确称量干燥后的硅胶重为100.3克；加入到容量1升的园底烧瓶中；然后加入501.5ml色谱级甲苯试剂，与硅胶搅拌混匀后，将第一步反应的产物全部加入此园底烧瓶中，继续搅拌并加热回流12小时以上。
第三步：冷却后，过滤，并用甲苯、甲醇、热水和丙酮分别对产物进行洗涤，以除去未反应的过量试剂，特别是必须使具有反应活性的基团完全水解，洗涤除去。
第四步：洗涤过滤完成后，将制得的填料通风处晾干3小时，然后放入真空干燥箱，在80摄氏度下，干燥4小时。
四步完成后，产物测得的载碳量为4.67%.目前产物是经杂化层涂覆处理的硅胶，在此基础上，然后进行C18固定相的键合衍生化反应和用三甲基氯硅烷（TMS）封尾等常规硅胶基质填料所必须的化学修饰。在硅胶基质表面上的一些成熟的常规修饰工艺也都适用于杂化层表面。
实施例3
第一步：将10克TEOS（浓度95%四乙氧基硅）溶解在20ml正己烷中，并和22克三（二甲氨基）乙基硅烷混匀，加入0.2ml的5%HCl溶液作催化剂，在室温下搅拌10分钟后放置待用。
第二步：将109.8克粒径5um、孔径120埃、比表面积为320m2/g的裸硅胶，在120摄氏度下真空干燥2小时以上，准确称量干燥后的硅胶重为100克；加入到容量1升的园底烧瓶中；然后加入500ml色谱级甲苯试剂，与硅胶搅拌混匀后，将第一步反应的产物全部加入此园底烧瓶中，再加入50克吡啶，继续搅拌并加热回流12小时以上。
第三步：冷却后，过滤，并用甲苯、甲醇、热水和丙酮分别对产物进行洗涤，以除去未反应的过量试剂，特别是必须使具有反应活性的基团完全水解，洗涤除去。
第四步：洗涤过滤完成后，将制得的填料通风处晾干3小时，然后放入真空干燥箱，在80摄氏度下，干燥4小时。
四步完成后，产物测得的载碳量为5.56%.目前产物是经杂化层涂覆处理的硅胶，在此基础上，然后进行C18固定相的键合衍生化反应和用三甲基氯硅烷（TMS）封尾等常规硅胶基质填料所必须的化学修饰。在硅胶基质表面上的一些成熟的常规修饰工艺也都适用于杂化层表面。
实施例4
第一步：将10克TEOS（浓度95%四乙氧基硅）溶解在20ml正己烷中，并和20克双三（二甲氨基）硅基乙烷（bistris(dimethylamino)silylethane）混匀，加入0.2ml的5%HCl溶液作催化剂，在室温下搅拌10分钟后放置待用。
第二步：将109.1克粒径5um、孔径120埃、比表面积为320m2/g的裸硅胶，在120摄氏度下真空干燥2小时以上，准确称量干燥后的硅胶重为99.1克；加入到容量1升的园底烧瓶中；然后加入495.5ml色谱级甲苯试剂，与硅胶搅拌混匀后，将第一步反应的产物全部加入此园底烧瓶中，继续搅拌并加热回流12小时以上。
第三步：冷却后，过滤，并用甲苯、甲醇、热水和丙酮分别对产物进行洗涤，以除去未反应的过量试剂，特别是必须使具有反应活性的基团完全水解，洗涤除去。
第四步：洗涤过滤完成后，将制得的填料通风处晾干3小时，然后放入真空干燥箱，在80摄氏度下，干燥4小时。
四步完成后，产物测得的载碳量为3.95%.目前产物是经杂化层涂覆处理的硅胶，在此基础上，然后进行C18固定相的键合衍生化反应和用三甲基氯硅烷（TMS）封尾等常规硅胶基质填料所必须的化学修饰。在硅胶基质表面上的一些成熟的常规修饰工艺也都适用于杂化层表面。
实施例5
第一步：将5克TEOS（浓度95%四乙氧基硅）溶解在20ml正己烷中，并和10克三（二甲氨基）乙基硅烷混匀，加入0.1ml的5%HCl溶液作催化剂，在室温下搅拌10分钟后放置待用。
第二步：将109.9克粒径5um、孔径120埃、比表面积为320m2/g的裸硅胶，在120摄氏度下真空干燥2小时以上，准确称量干燥后的硅胶重为100.3克；加入到容量1升的园底烧瓶中；然后加入501.5ml色谱级甲苯试剂，与硅胶搅拌混匀后，将第一步反应的产物全部加入此园底烧瓶中，继续搅拌并加热回流12小时以上。
第三步：冷却后，过滤，并用甲苯、甲醇、热水和丙酮分别对产物进行洗涤，以除去未反应的过量试剂，特别是必须使具有反应活性的基团完全水解，洗涤除去。
第四步：洗涤过滤完成后，将制得的填料通风处晾干3小时，然后放入真空干燥箱，在80摄氏度下，干燥4小时。
用最后一部得到的产物替代裸硅胶，重复进行以上四个步骤各一次，完成后，产物最终测得的载碳量为4.16%。目前产物是经杂化层涂覆处理的硅胶，在此基础上，然后进行C18固定相的键合衍生化反应和用三甲基氯硅烷（TMS）封尾等常规硅胶基质填料所必须的化学修饰。在硅胶基质表面上的一些成熟的常规修饰工艺也都适用于杂化层表面。
Claims (9)
1.一种硅胶基质的色谱填料，其特征在于：硅胶基质表面进行过一次或多次的和有机硅烷化合物反应而进行的化学修饰，先进行的化学修饰是在硅胶表面形成具有高pH耐受性的无机/有机杂化层，硅胶表面涂覆的杂化层选用两种有机硅烷做反应试剂，其中一种可用分子式R1 aSiX4-a表示，另一种用分子式R(R2 bSiX3-b)n表示，这里的R是碳原子数1-8个的饱和脂族烷基；R1和R2是碳原子数1-4个的饱和脂族烷基；X是反应活性基团；a、b是可选范围是0，1，2三个正整数；n是2-8之间的正整数。
2.根据权利要求1所述的色谱填料，其特征在于：硅胶基质选择范围是多孔硅胶。
3.根据权利要求2所述的色谱填料，其特征在于：多孔硅胶是超高纯全多孔球形硅胶颗粒。
4.根据权利要求1所述的色谱填料，其特征在于：硅胶基质表面所进行的化学修饰除了涂覆反应形成杂化层外，还有色谱固定相的键合反应修饰和封端处理修饰。
5.根据权利要求1所述的色谱填料，其特征在于：R含有的碳原子数范围是1-3；R1和R2含有的碳原子数范围是1-2个；X反应基选自：Cl、OCH3、OC2H5、(CH3)2N、(CH3CH2)2N、I、Br、CN、OOCH3、O(CO)CH3和O3SCF3。
6.权利要求1所述的色谱填料，杂化层涂覆后，需要做进一步的色谱固定相键合反应修饰，键合修饰所用有机硅烷为：R1SiX3、R1R2SiX2或R1R2 2SiX，其中R1和R2代表的是不同的有机基团，且R1和R2是碳原子数1-4个的饱和脂族烷基；X是反应活性基团。
7.一种涂覆无机/有机杂化层的高性能色谱填料的制备方法，包括以下步骤：
1)用两种有机硅烷，R1 aSiX4-a和R(R2 bSiX3-b)n预制无机/有机杂化聚合物，其中R是碳原子数为1-8的饱和脂族烷基；R1和R2是碳原子数1-4个的饱和脂族烷基；X是反应活性基团；a、b分别为整数0，1或2；n是2-8的整数；
2)用预制好的无机/有机杂化聚合物和无水的硅胶基体反应，进行表面化学修饰，硅胶基体表面形成无机/有机杂化层；
3)使未反应的过量反应活性基团全部水解；及
4)将产物进行脱水烘干。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于：1)、2)、3)和4)四个步骤各自进行的总次数为1-5次。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于：1)、2)、3)和4)四个步骤各自进行的总次数为1-2次。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201010178559 CN102247821B (zh) | 2010-05-21 | 2010-05-21 | 高pH耐受性色谱填料及制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201010178559 CN102247821B (zh) | 2010-05-21 | 2010-05-21 | 高pH耐受性色谱填料及制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102247821A CN102247821A (zh) | 2011-11-23 |
| CN102247821B true CN102247821B (zh) | 2013-06-26 |
Family
ID=44975600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 201010178559 Active CN102247821B (zh) | 2010-05-21 | 2010-05-21 | 高pH耐受性色谱填料及制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN102247821B (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102489271A (zh) * | 2011-11-24 | 2012-06-13 | 济南大学 | 耐碱性硅胶色谱填料的制备方法 |
| US10453675B2 (en) * | 2013-09-20 | 2019-10-22 | Versum Materials Us, Llc | Organoaminosilane precursors and methods for depositing films comprising same |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101717513A (zh) * | 2009-11-10 | 2010-06-02 | 中国药科大学 | 一种杂化有序介孔硅胶色谱固定相填料及制备方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5021479B2 (ja) * | 2004-10-01 | 2012-09-05 | フェノメネクス インコーポレイテッド | テンプレーティッド多層有機／無機グラフィティングを用いたｐＨ安定クロマトグラフィー媒体 |
-
2010
- 2010-05-21 CN CN 201010178559 patent/CN102247821B/zh active Active
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101717513A (zh) * | 2009-11-10 | 2010-06-02 | 中国药科大学 | 一种杂化有序介孔硅胶色谱固定相填料及制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN102247821A (zh) | 2011-11-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Yu et al. | Chiral metal–organic framework d-His-ZIF-8@ SiO2 core–shell microspheres used for HPLC enantioseparations | |
| Sharma et al. | Toward efficient nanoporous catalysts: Controlling site-isolation and concentration of grafted catalytic sites on nanoporous materials with solvents and colorimetric elucidation of their site-isolation | |
| CA2581627C (en) | Ph stable chromatographic media using templated multilayer organic/inorganic grafting | |
| Haginaka et al. | Uniform-sized molecularly imprinted polymer for (S)-ibuprofen: Retention properties in aqueous mobile phases | |
| Lin et al. | Thiol-epoxy click polymerization for preparation of polymeric monoliths with well-defined 3D framework for capillary liquid chromatography | |
| CN105688993B (zh) | 一种负载型聚合酸性离子液体催化剂及其制备方法和应用 | |
| CN103551118B (zh) | 一种柱[5]芳烃键合硅胶固定相及其制备方法与应用 | |
| JP2004538468A (ja) | クロマトグラフィー分離用多孔質有機・無機ハイブリッドモノリス状物質、およびその製造方法 | |
| CN102247821B (zh) | 高pH耐受性色谱填料及制备方法 | |
| AU8187798A (en) | Mono- and di-derivatives of cyclodextrins, synthesis thereof and purification and use thereof in a support | |
| Mou et al. | Synthesis of fuel bioadditive by esterification of glycerol with acetic acid over hydrophobic polymer-based solid acid | |
| CN105777988A (zh) | 一种含p有机聚合物及其制备方法和应用 | |
| Simons et al. | Comparison of supports for the electrostatic immobilisation of asymmetric homogeneous catalysts | |
| CN114471496A (zh) | 一种多模式和多功能分子笼高效液相色谱固定相的制备方法及应用 | |
| Jia et al. | Nanoporous array anodic titanium-supported co-polymeric ionic liquids as high performance solid-phase microextraction sorbents for hydrogen bonding compounds | |
| Li et al. | Enantiomeric separation on a homochiral porous organic cage-based chiral stationary phase by gas chromatography | |
| JPS63218857A (ja) | 液体クロマトグラフイ−用充てん剤 | |
| CN102101043B (zh) | 聚乙烯基咪唑型硅胶填料的制备方法 | |
| Ma et al. | Trifluoromethyl-functionalized 2D covalent organic framework for high-resolution separation of isomers | |
| CN103551133A (zh) | 一种多作用力混合模式键合硅胶固定相及其制备方法与应用 | |
| Yang et al. | A chiral porous organic polymer COP-1 used as stationary phase for HPLC enantioseparation under normal-phase and reversed-phase conditions | |
| CN101837284A (zh) | 一种聚乙烯基四唑分离介质及其制备方法和应用 | |
| Li et al. | Direct synthesis of sulfonic group tethered mesoporous poly (ionic liquid) for catalyzing deoximation reactions | |
| Chen et al. | Preparation and chiral recognition of a mono [6A-N-1-(2-hydroxy)-phenylethylimino-6A-deoxy]-β-cyclodextrin HPLC stationary phase | |
| CN110743622B (zh) | 一种蒙脱土固载手性化合物及其制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| ASS | Succession or assignment of patent right |
Owner name: ZHEJIANG WELCH MATERIALS, INC. Effective date: 20130521 |
|
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20130521 Address after: 201203 Shanghai Zhangjiang hi tech Park Cailun Road No. 1 Building No. 511 720 Applicant after: WELCH MATERIALS TECHNOLOGY (SHANGHAI) Co.,Ltd. Applicant after: ZHEJIANG YUEXU MATERIAL TECHNOLOGY CO.,LTD. Address before: 201203 Shanghai Zhangjiang hi tech Park Cailun Road No. 1 Building No. 511 720 Applicant before: Welch Materials Technology (Shanghai) Co.,Ltd. |
|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract | ||
| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |
Application publication date: 20111123 Assignee: ZHEJIANG YUEXU MATERIAL TECHNOLOGY CO.,LTD. Assignor: ZHEJIANG YUEXU MATERIAL TECHNOLOGY CO.,LTD.|WELCH MATERIALS TECHNOLOGY (SHANGHAI) Co.,Ltd. Contract record no.: 2014330000012 Denomination of invention: High pH tolerance chromatographic filler and preparation method thereof Granted publication date: 20130626 License type: Exclusive License Record date: 20140127 |
|
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of invention: High pH tolerance chromatographic filler and preparation method thereof Effective date of registration: 20140922 Granted publication date: 20130626 Pledgee: Agricultural Bank of China Limited by Share Ltd. Jinhua Economic Development Zone Branch Pledgor: ZHEJIANG YUEXU MATERIAL TECHNOLOGY CO.,LTD.|WELCH MATERIALS TECHNOLOGY (SHANGHAI) Co.,Ltd. Registration number: 2014990000782 |
|
| PLDC | Enforcement, change and cancellation of contracts on pledge of patent right or utility model | ||
| C56 | Change in the name or address of the patentee |
Owner name: YUEXU TECHNOLOGY (SHANGHAI) CO., LTD. Free format text: FORMER NAME: WELCH MATERIALS HANGHAI INC. |
|
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 201203 Shanghai Zhangjiang hi tech Park Cailun Road No. 1 Building No. 511 720 Patentee after: WELCH MATERIALS (SHANGHAI) Inc. Patentee after: ZHEJIANG YUEXU MATERIAL TECHNOLOGY CO.,LTD. Address before: 201203 Shanghai Zhangjiang hi tech Park Cailun Road No. 1 Building No. 511 720 Patentee before: Welch Materials Technology (Shanghai) Co.,Ltd. Patentee before: ZHEJIANG YUEXU MATERIAL TECHNOLOGY CO.,LTD. |
|
| CP02 | Change in the address of a patent holder | ||
| CP02 | Change in the address of a patent holder |
Address after: 201600 Room 102, 1st Floor, 2nd Floor, 3rd Floor, Building 10, No. 85, Mingnan Road, Songjiang District, Shanghai Patentee after: WELCH MATERIALS (SHANGHAI) Inc. Patentee after: ZHEJIANG YUEXU MATERIAL TECHNOLOGY CO.,LTD. Address before: Building 511, No. 1, Lane 720, Cailun Road, Zhangjiang High tech Park, Shanghai, March 2012 Patentee before: WELCH MATERIALS (SHANGHAI) Inc. Patentee before: ZHEJIANG YUEXU MATERIAL TECHNOLOGY CO.,LTD. |