CN102219360B - 多晶硅铸锭免喷涂熔融石英坩埚的制造方法 - Google Patents
多晶硅铸锭免喷涂熔融石英坩埚的制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102219360B CN102219360B CN2011101180101A CN201110118010A CN102219360B CN 102219360 B CN102219360 B CN 102219360B CN 2011101180101 A CN2011101180101 A CN 2011101180101A CN 201110118010 A CN201110118010 A CN 201110118010A CN 102219360 B CN102219360 B CN 102219360B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- fused quartz
- blank
- raw material
- crucible
- purity fused
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 61
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000005507 spraying Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 12
- 238000005266 casting Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 34
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims abstract description 32
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims abstract description 8
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 claims description 4
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000005550 wet granulation Methods 0.000 claims description 4
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 claims description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 abstract description 9
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract 2
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 abstract 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 11
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 10
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 10
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 8
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 3
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 208000037656 Respiratory Sounds Diseases 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229960001866 silicon dioxide Drugs 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
- C03B19/066—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction for the production of quartz or fused silica articles
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
本发明公开了一种多晶硅铸锭免喷涂熔融石英坩埚的制造方法，其先将高纯熔融石英原料一起通过球磨研磨进行湿法造粒，将料浆充分搅拌后，再加入粉状高纯熔融石英原料混合均匀，然后注入石膏模具中进行充分的脱水成型，脱模；脱模后的坯体在180℃以下进行干燥，制得毛坯；对毛坯进行打磨、清洁预处理；在毛坯内表面喷涂0.2～0.7mm的氮化硅涂层；将喷有氮化硅涂层的毛坯在旋转窑炉中于1000～1300℃下旋转烧结14～24小时。本发明较现有技术缩短了生产周期，简化了生产工艺，大大降低了能耗，提高了生产效率、成品率及企业的经济效益。
Description
技术领域
本发明属于石英坩埚制造领域，具体涉及一种用于多晶硅铸锭的免喷涂熔融石英坩埚的制造方法。
背景技术
太阳能多晶硅的迅猛发展，大大加快了多晶硅熔融铸锭所使用的熔融石英坩埚的研究发展。行业内由于坩埚成品率的问题，目前所生产的石英坩埚大多是未喷涂的，使用者在用这种坩埚时必须自备喷涂设备，在成品坩埚内部喷上一层氮化硅涂层，然后在1000℃以上烧结24个小时以上才能开始装入纯硅料进行使用。市场上也有少量免喷涂石英坩埚，但这只是在坩埚生产后继续喷涂并烧结，工艺并没有改变，而且这种工艺生产周期长，耗能巨大。现行坩埚生产中的打磨工序是在坩埚烧结以后进行，由于烧结后的坩埚硬度很高，导致对设备和磨具的要求也高，而且打磨过程中需要用大量的水进行冷却。另一方面，在烧结过程中一般的烧结窑炉，由于其固定的烧结位点以及其他原因会造成坩埚不同部位受热不均，极易在石英坩埚内部形成瑕疵或裂纹等，这也是目前造成石英坩埚成品率低下的一个重要原因。
发明内容
本发明的目的是为了解决上述问题，提供一种用于多晶硅铸锭的免喷涂熔融石英坩埚的制造方法，该法可使石英坩埚的生产周期缩短，减化了客户使用坩埚的工艺，大大降低了能耗并提高了坩埚成品率。
本发明的目的可以通过以下措施达到：
一种多晶硅铸锭免喷涂熔融石英坩埚的制造方法，其包括如下步骤：
(1)将块状及粒状高纯熔融石英原料一起通过球磨研磨进行湿法造粒，研磨后的料浆粒径为10μm～50μm；
(2)将料浆充分搅拌后，再加入粉状高纯熔融石英原料混合均匀，然后注入石膏模具中进行充分的脱水成型，脱模；
(3)脱模后的坯体在180℃以下进行干燥，制得毛坯；
(4)对毛坯进行打磨、清洁预处理；
(5)在毛坯内表面喷涂0.2～0.7mm的氮化硅涂层；
(6)将喷有氮化硅涂层的毛坯在旋转窑炉中于1000～1300℃下旋转烧结14～24小时。
本发明的高纯熔融石英原料，其纯度一般在99.9％以上。
步骤(1)中，块状高纯熔融石英原料与粒状高纯熔融石英原料的质量比为25～30∶70～75，所述块状高纯熔融石英原料的粒径为20～60mm，所述粒状高纯熔融石英原料的粒径为5～20mm。
步骤(1)中湿法造粒过程中加入两种高纯熔融石英原料质量20～30％的水。
粉状高纯熔融石英原料与步骤(1)中所述料浆的质量比为30～40∶70～60，所述粉状高纯熔融石英原料粒径为50～200目。
步骤(2)中料浆在加入粉状高纯熔融石英原料前充分搅拌72小时以上，优选为72～200小时，进一步优选为100～170小时。该步骤中的脱水成型时间一般为5～20小时，优选为10～15小时。
步骤(3)中干燥温度优选为100～180℃。
步骤(4)中的预处理包括对坯体进行打磨和清洁步骤，打磨过程特别是采用砂轮打磨毛坯底部，该打磨过程一般只需5～25分钟；清洁过程特别是清洁毛坯内表面。
步骤(5)中所述氮化硅涂层为20～25wt％的Si3N4水溶液，该氮化硅涂层的厚度优选为0.5mm。
本发明的旋转窑炉(也称回转窑炉)是指可以带动待烧结产品旋转的烧结窑炉。一种该旋转窑炉的结构为：具有炉体和分布于炉体内部的用于烧结毛坯的烧嘴，其中在所述炉体的底部设有能够绕其中心缓慢旋转的旋转平台，该旋转平台上用以放置所述需烧结的喷有氮化硅涂层的毛坯。旋转平台可以由设于其下部的动力装置驱动。
步骤(6)结束后可采用超声波无损探伤或X射线检查烧结好的石英坩埚，检测坩埚的成品率及其他性能。
本方法在现有工艺的基础上，将打磨步骤从成品后处理提至毛坯预处理，不仅大大降低了处理难度，而且减少了处理设备和用料消耗。本法克服了由于成品率低而将氮化硅后涂的限制，将毛坯烧结和氮化硅涂层制备合二为一，在其他步骤的配合下，不仅简化了工艺流程，更极大地减少了能源消耗和设备投入，同时还提高了坩埚的制备成品率，使成品率从60％左右提高至70～75％。
本发明的方法与无喷涂坩埚相比，因为将坩埚生产中的烧结和氮化硅涂层的烧结合二为一，缩短了生产周期，较之前缩短了30％；简化了客户的生产工艺，提高了客户的生产效率；提高了成品率及企业的经济效益。
本方法采用旋转窑炉进行烧结，避免了固定的烧结位点对毛坯造成的受热不均的问题，极大地提高了坩埚成品率。
本方法与现有的免喷涂坩埚相比，大大降低了能耗，较之前节省了40％以上。
本工艺与现有的工艺相比，提前进行底部研磨预处理杜绝了水资源的浪费，降低了处理难度，也提高了原料的利用率。
附图说明
图1为一种旋转窑炉结构示意图。
图中，1-炉体，2-旋转平台，3-坩埚坯体，4-烧嘴。
具体实施方式
本实施采用的旋转窑炉的结构如图1所示，包括炉体1、旋转平台2，和烧嘴4，其中烧嘴4分布于炉体1的内部，旋转平台2位于炉体1的底部，在旋转平台2的下部设在驱动装置，用以使旋转平台2能够围其中心进行缓慢旋转。坩埚坯体3均匀地放置在旋转平台2上，或者均匀地放置设于旋转平台2上的坯体架上。
实施例1
将250kg粒径为50～60mm的块状高纯熔融石英原料和750kg粒径为10～20mm的粒状高纯熔融石英原料(块状及粒状高纯熔融石英原料的质量组分：二氧化硅＞99.9％，氧化铝＜2000ppm，氧化铁＜50ppm，氧化钠＜50ppm，其它组分为原料中不可避免的杂质；下同)，投入球磨机中加入250kg的水进行湿法研磨，研磨后的料浆粒径控制在10μm～30μm。
将料浆导出球磨机后进行搅拌120小时，检查料浆的物理及化学性能；再加入673kg的干粉(100目粉状高纯熔融石英原料)进行充分搅拌；搅拌均匀后转入浇注罐注入石膏模具中，在模具中静置10个小时后进行脱模。
脱模后的坩埚毛坯进行干燥，干燥温度控制在140℃。
对干燥后的毛坯进行底部打磨，打磨时间为15分钟。
清洁打磨后的坩埚内表面。
在清洁后的坩埚内表面喷上一层0.3mm厚度的氮化硅涂层(21wt％的Si3N4水溶液)。
将喷涂好后的坩埚毛坯放入图1所示的旋转窑炉内进行旋转烧结，烧结的温度控制在1200℃，烧结时间为20小时。
用超声波无损探伤或X射线检查烧结好的石英坩埚，除去次品，即得本发明的免喷涂熔融石英坩埚。
经性能检测得知：本实施例得到的免喷涂熔融石英坩埚，成品率为75％～79％，其室温弯曲强度在17MPa以上，体积密度为1.85～1.98g/cm3，真密度为2.16～2.23g/cm3，线性膨胀系数为0.6×10-6/℃，气孔率为11％～14％。
实施例2
将300kg粒径为40～50mm的块状高纯熔融石英原料和700kg粒径为10～15mm的粒状高纯熔融石英原料，投入球磨机中加入250kg的水进行湿法研磨，研磨后的料浆粒径控制在10μm～50μm。
将料浆导出球磨机后进行搅拌168小时，检查料浆的物理及化学性能；再加入680kg的干粉(100目粉状高纯熔融石英原料)进行充分搅拌；搅拌均匀后转入浇注罐注入石膏模具中，在模具中静置15个小时后进行脱模。
脱模后的坩埚毛坯进行干燥，干燥温度控制在100℃。
对干燥后的毛坯进行底部打磨，打磨时间为15分钟。
清洁打磨后的坩埚内表面。
在清洁后的坩埚内表面喷上一层0.5mm厚度的氮化硅涂层(22wt％的Si3N4水溶液)。
将喷涂好后的坩埚毛坯放入图1所示的旋转窑炉内进行旋转烧结，烧结的温度控制在1300℃，烧结时间为24小时。
用超声波无损探伤或X射线检查烧结好的石英坩埚，即得本发明的免喷涂熔融石英坩埚。
经性能检测得知：本实施例得到的熔融石英坩埚，成品率为76％～79％，其室温弯曲强度在17MPa以上，体积密度为1.85～1.98g/cm3，真密度为2.16～2.23g/cm3，线性膨胀系数为0.6×10-6/℃，气孔率为11％～14％。
对比例1
将250kg粒径为50～60mm的块状高纯熔融石英原料和750kg粒径为10～20mm的粒状高纯熔融石英原料，投入球磨机中加入250kg的水进行湿法研磨，研磨后的料浆粒径控制在10μm～30μm。
将料浆导出球磨机后进行搅拌120小时，检查料浆的物理及化学性能；再加入673kg的干粉(100目粉状高纯熔融石英原料)进行充分搅拌；搅拌均匀后转入浇注罐注入石膏模具中，在模具中静置10个小时后进行脱模。
脱模后的坩埚毛坯进行干燥，干燥温度控制在140℃。
将干燥后的坩埚毛坯放入一般梭式窑炉内进行烧结，烧结的温度控制在1200℃，烧结时间为20小时，得到熔融石英坩埚。
用数控铣床配金刚石磨轮外加纯水冷却进行底部打磨，打磨时间为40分钟。
用超声波无损探伤或X射线检查打磨后的石英坩埚，除去次品，再次干燥坩埚，干燥温度为140℃，干燥时间为2小时。
在干燥后的坩埚内表面喷上一层0.3mm厚度的氮化硅涂层(21wt％的Si3N4水溶液)。
将喷涂好后的坩埚放入梭式窑炉内进行烧结，烧结的温度控制在1200℃，烧结时间为24小时。
经性能检测得知：本例得到的熔融石英坩埚，成品率在60％左右，其室温弯曲强度均在17MPa以上，体积密度为1.85～1.98g/cm3，真密度为2.16～2.23g/cm3，线性膨胀系数为0.6×10-6/℃，气孔率为11％～14％。
Claims (4)
1.一种多晶硅铸锭免喷涂熔融石英坩埚的制造方法，其特征在于：包括如下步骤：
（1）将块状及粒状高纯熔融石英原料一起通过球磨研磨进行湿法造粒，研磨后的料浆粒径为10μm～50μm；所述块状高纯熔融石英原料与粒状高纯熔融石英原料的质量比为25～30:70～75，所述块状高纯熔融石英原料的粒径为20～60mm，所述粒状高纯熔融石英原料的粒径为5～20mm；
（2）将料浆充分搅拌100～170小时后，再加入粉状高纯熔融石英原料混合均匀，然后注入石膏模具中进行充分的脱水成型，脱模；所述粉状高纯熔融石英原料与步骤（1）中所述料浆的质量比为30～40:70～60，所述粉状高纯熔融石英原料粒径为50～200目；
（3）脱模后的坯体在180℃以下进行干燥，制得毛坯；
（4）对毛坯进行打磨、清洁预处理；其中打磨过程为采用砂轮打磨毛坯底部，清洁过程为清洁毛坯内表面；
（5）在毛坯内表面喷涂0.2～0.7mm的氮化硅涂层；所述氮化硅涂层为20～25wt%的Si3N4水溶液；
（6）将喷有氮化硅涂层的毛坯在旋转窑炉中于1000～1300℃下旋转烧结14～24小时；所述旋转窑炉具有炉体和分布于炉体内部的用于烧结毛坯的烧嘴，其中在所述炉体的底部设有能够绕其中心缓慢旋转的旋转平台，该旋转平台上用以放置所述需烧结的喷有氮化硅涂层的毛坯。
2.根据权利要求1所述的多晶硅铸锭免喷涂熔融石英坩埚的制造方法，其特征在于：步骤（1）中湿法造粒过程中加入高纯熔融石英原料质量20～30%的水。
3.根据权利要求1所述的多晶硅铸锭免喷涂熔融石英坩埚的制造方法，其特征在于：步骤（2）中脱水成型的时间为5～20小时。
4.根据权利要求1所述的多晶硅铸锭免喷涂熔融石英坩埚的制造方法，其特征在于：步骤（3）中干燥温度为100～180℃。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2011101180101A CN102219360B (zh) | 2011-05-08 | 2011-05-08 | 多晶硅铸锭免喷涂熔融石英坩埚的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2011101180101A CN102219360B (zh) | 2011-05-08 | 2011-05-08 | 多晶硅铸锭免喷涂熔融石英坩埚的制造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102219360A CN102219360A (zh) | 2011-10-19 |
| CN102219360B true CN102219360B (zh) | 2013-01-09 |
Family
ID=44776110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2011101180101A Expired - Fee Related CN102219360B (zh) | 2011-05-08 | 2011-05-08 | 多晶硅铸锭免喷涂熔融石英坩埚的制造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN102219360B (zh) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102528899A (zh) * | 2011-12-27 | 2012-07-04 | 咸阳陶瓷研究设计院 | 一种压力注浆法制备石英陶瓷坩埚的生产工艺 |
| JP2013227171A (ja) * | 2012-04-26 | 2013-11-07 | Kyodo Fine Ceramics Co Ltd | 単結晶シリコン育成用るつぼ、単結晶シリコン育成用るつぼの製造方法、及び単結晶シリコンの製造方法 |
| CN104803610A (zh) * | 2014-01-26 | 2015-07-29 | 季勇升 | 用于多晶硅铸锭的高纯免喷涂熔融石英坩埚的制造方法 |
| CN106336208B (zh) * | 2016-08-26 | 2019-01-15 | 佛山市高明区明城镇新能源新材料产业技术创新中心 | 一种均相熔融石英坩埚的制备方法 |
| CN109267150A (zh) * | 2018-09-30 | 2019-01-25 | 江西中材太阳能新材料有限公司 | 一种复合结构石英陶瓷坩埚及其制备方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0268166A2 (de) * | 1986-11-18 | 1988-05-25 | Bayer Ag | Gegenüber Metall- und Salzschmelzen resistente Werkstoffe, ihre Herstellung und deren Verwendung |
| CN1386111A (zh) * | 2000-07-11 | 2002-12-18 | 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 | 制造旋转对称的石英玻璃坩埚的方法和装置 |
| CN101348324A (zh) * | 2008-08-27 | 2009-01-21 | 常熟华融太阳能新型材料有限公司 | 用于多晶硅结晶的不透明石英坩埚及其制造方法 |
| CN101913776A (zh) * | 2010-09-03 | 2010-12-15 | 山东理工大学 | 氮化硅涂层石英坩埚的制备方法 |
-
2011
- 2011-05-08 CN CN2011101180101A patent/CN102219360B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0268166A2 (de) * | 1986-11-18 | 1988-05-25 | Bayer Ag | Gegenüber Metall- und Salzschmelzen resistente Werkstoffe, ihre Herstellung und deren Verwendung |
| CN1386111A (zh) * | 2000-07-11 | 2002-12-18 | 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 | 制造旋转对称的石英玻璃坩埚的方法和装置 |
| CN101348324A (zh) * | 2008-08-27 | 2009-01-21 | 常熟华融太阳能新型材料有限公司 | 用于多晶硅结晶的不透明石英坩埚及其制造方法 |
| CN101913776A (zh) * | 2010-09-03 | 2010-12-15 | 山东理工大学 | 氮化硅涂层石英坩埚的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN102219360A (zh) | 2011-10-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102219360B (zh) | 多晶硅铸锭免喷涂熔融石英坩埚的制造方法 | |
| CN102225837B (zh) | 用于多晶硅铸锭的免喷涂熔融石英坩埚的制造方法 | |
| CN105645782B (zh) | 用于多晶硅铸锭的高效免喷涂熔融石英坩埚的制造方法 | |
| CN100439468C (zh) | 一种抛磨块 | |
| CN102554811B (zh) | 一种湿法制备砂轮的方法 | |
| CN104402415B (zh) | 一种可控硅深径产品的生产方法 | |
| CN104529412B (zh) | 一种纳米级六方氮化硼/二氧化硅复相陶瓷材料的制备方法 | |
| CN103991041B (zh) | 一种高球形气孔率超细粒度陶瓷结合剂cbn砂轮的制备方法 | |
| CN102531612A (zh) | 氮化硅材料和氮化硅材料制成的隔热盘罩的制备方法 | |
| CN102249523B (zh) | 多晶硅铸锭用免喷涂熔融石英坩埚的制造方法 | |
| CN104744051B (zh) | 一种氮化硅坩埚的制作方法 | |
| CN104803610A (zh) | 用于多晶硅铸锭的高纯免喷涂熔融石英坩埚的制造方法 | |
| CN104477977B (zh) | 一种熔盐法合成Dy2TiO5粉体的方法 | |
| CN106032323B (zh) | 一种以TiAl粉体为原料的Ti2AlC陶瓷粉体制备方法 | |
| CN104128897B (zh) | 一种采用湿化学方法成型微波烧结制备陶瓷cBN砂轮的方法 | |
| CN105541305A (zh) | 可控硅180mm内径产品的制备方法 | |
| CN108724026A (zh) | 一种用于碲锌镉晶片磨削的树脂砂轮、其制备方法及应用 | |
| CN104909800A (zh) | 一种添加瓷砖废料并经辊道窑烧成发泡赤泥瓷砖的方法 | |
| CN104858021A (zh) | 石英砂的表面处理方法 | |
| CN103086721A (zh) | 利用碳化硅固体废料制备碳化硅陶瓷的方法 | |
| CN104446388B (zh) | 一种改善氧化铝型芯浆料流动性的方法 | |
| CN109420989A (zh) | 一种树脂金刚石砂轮及其制备方法 | |
| CN102674809A (zh) | 一种低成本抛光块 | |
| CN107311223B (zh) | 一种片状钛酸镁钾及其制备方法 | |
| CN110885238A (zh) | 一种陶瓷微晶刚玉制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20130109 |