CN102189708A - 压片机双层吸尘装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种压片机双层吸尘装置,包括连接吸风管的吸尘主通道,位于转台一侧,所述吸尘装置包括上、下两个吸尘口,上吸尘口设于转台面上的中模孔处,下吸尘口位于下冲杆表面上,所述下吸尘口包括第一吸尘入口,和连接第一吸尘入口与主通道的第一副通道。本发明采用上下两个吸尘口分别对中模台面及下冲杆表面进行吸尘。当中模台面上有粉尘时,通过上吸尘口进行吸尘,当从中模孔内漏下的粉尘粘在下冲杆表面时,通过下吸尘口进行吸尘,从而达到理想的吸尘效果。
Description
技术领域
本发明涉及一种旋转式压片机,具体说是一种压片机的双层吸尘装置。
背景技术
在我国的药品、化工、食品等行业中,通常将具有一定作用的固体粉末或颗粒状物料压制成片剂形成药片或保健品。人们通常将压制成药片的机械称作为旋转式压片机。在压片机上有一种将从加料器底部与转台台面间漏出的少量粉末吸除干净的装置称为吸尘装置。目前市场上吸尘装置通常是整体式单层结构,一般采用钣金焊接制作,吸尘口与中模台面的间隙难以保证,故吸尘效果较差,仅适应于低速旋转的压片机,且仅能吸除中模台面上的粉尘,从中模孔内漏下的少量粉末,则无法吸除,中模孔内漏下的这些粉末易粘结在下冲杆的表面,易造成下冲粘冲现象。而中模台面上粉末无法吸除干净,易造成片重差异及压制双色或三色时的混色现象。同时吸附在吸尘装置内腔的粉末难以清除,粉尘结块后会堵住吸风通道的部分截面,降低风量,吸尘效果大打折扣,要求操作工每隔一段时间周期,停车清洁,清洗下冲杆及吸尘装置,大大降低了生产效率。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种组合式压片机双层吸尘装置,吸尘效果好,防止下冲杆粘冲现象。
本发明采用以下技术方案:
一种压片机双层吸尘装置,包括连接吸风管的吸尘主通道,位于转台一侧,其特征是:所述吸尘装置包括上、下两个吸尘口,上吸尘口设于转台台面上的中模孔处,下吸尘口位于下冲杆表面上,所述下吸尘口包括第一吸尘入口,和连接第一吸尘入口与主通道的第一副通道。
优选地,所述第一副通道为下吸风盖和下吸风板之间形成的间隙,下吸风板上设有连接主通道与第一副通道的连接孔,所述第一吸尘入口为在下吸风板前端侧面上设的横向吸尘槽。
优选地,所述上吸尘口包括第二吸尘入口,和连接第二吸尘入口与主通道的第二副通道,所述第二副通道为上吸风盖和上吸风板之间形成的间隙,上吸风板上设有连接主通道与第二副通道的连接孔,所述第二吸尘入口为在上吸风板的下平面上设的纵向吸尘孔。
优选地,所述下吸风盖与上吸风板间设有上垫块,下吸风板之下依次有下垫块和密封垫,所述密封垫设于转台台面罩的上表面之上,所述吸尘主通道穿过上吸风板、上垫块、下吸风盖、下垫块、密封垫、台面罩,与吸风管接头连接。
优选地,所述上吸风盖、上垫块、下吸风盖、下垫块、密封垫相互间的连接为可拆卸连接。
优选地,所述吸风管接头、台面罩、密封垫、下垫块通过内六角螺钉紧固;所述下垫块、下吸风板、下吸风盖、上垫块、上吸风板通过内六角螺钉紧固;上吸风板、上吸风盖通过沉头螺钉紧固。
优选地,所述上、下吸风板的前端纵面为圆弧面,分别与压片机的上、下冲杆杆顶的圆柱表面配合。
优选地,上吸风板的底面高出转台面2~3mm间隙,下吸风板圆弧面离下冲杆外表面2~3mm间隙。
本发明采用上下两个吸尘口分别对中模台面及下冲杆表面进行吸尘。当中模台面上有粉尘时,通过上吸尘口进行吸尘,当从中模孔内漏下的粉尘粘在下冲杆表面时,通过下吸尘口进行吸尘,从而达到理想的吸尘效果。当发现吸尘效果不明显时,粉尘已在型腔内结块而堵塞了吸尘口,只需拆下上、下吸尘口的盖板,即可彻底清除腔内的粉末,操作非常方便。
本发明有如下优点:1、安装及清洁腔粉末结块方便;2、只需调整上、下垫块的厚度,就能保证吸尘口与中模台面及下冲杆表面间的间隙大小且能保证间隙大小均匀一致,达到理想的吸尘效果;3、外形美观。
附图说明
图1为本发明涉及的压片机双层吸尘装置的俯视图。
图2为图1的A-A向剖视图。
图3为下吸风板的结构示意图。
图4为上吸风板的结构示意图。
图5为本发明的吸尘路径。
具体实施方式
图1~2为本发明涉及的双层吸尘装置的剖视图和俯视图。所述双层吸尘装置包括台面罩1、密封垫2、吸风管接头3、下垫块4、下吸风板5、下吸风盖6、上垫块7、上吸风板8、上吸风盖9、内六角螺钉10、沉头螺钉11、转台12、内六角螺钉13。其中吸风管接头3安装在台面罩1下表面上,密封垫2安装在台面罩1的上表面,下垫块4装在密封垫2的上面,用内六角螺钉13将台面罩1、密封垫2、吸风管接头3、下垫块4连接并紧固,然后依次将下吸风板5、下吸风盖6、上垫块7、上吸粉板8装在下垫块4上,用内六角螺钉10连接,最后用沉头螺钉1将上吸风盖9固定在上吸风板8上。见图3,和图4,上吸风板8的下平面上开有多个吸尘孔16作为第二吸尘入口,该吸尘孔16是纵向的,用于吸取中模转台上的药粉。上吸风板8与上吸风盖9之间形成连通吸尘口与主通道14的间隙(第二副通道),由此粉尘自下向上进入吸尘口,经过间隙,到达主通道14,上吸风板8上设有连接主通道14与第二副通道的连接孔。下吸风板5的侧平面上开有多个吸尘槽15作为第一吸尘入口,该吸尘槽15是横向的,用于吸取下冲杆18表面上的粘尘。下吸风板5与下吸风盖6之间形成连通吸尘口与主通道14的间隙(第一副通道),由此粘尘侧向进入吸尘槽15,经过间隙,到达主通道14,下吸风板5上设有连接主通道14与第一副通道的连接孔。下吸尘口位于中模下的环槽内。上、下吸风板8、5的吸尘前端都为圆弧面,配合于具有圆柱形杆顶表面的上、下冲杆17、18。上吸风板8的底面高出中模台面2~3mm间隙,下吸风板5圆弧面离下冲杆18外表面2~3mm间隙。图5所示为吸尘路径。
工作时,将工业用吸尘器用软管与吸管接头3连接,启动吸尘器,中模转台面上的粉尘通过上吸风板8下平面上的吸尘孔16吸入吸尘装置内,下冲杆18表面的粉末通过下吸风板5前端圆弧面上的吸尘槽15吸入吸尘装置内。本发明涉及的双层吸尘装置,就是采用上下两个吸尘口分别对中模台面及下冲杆18表面进行吸尘。当中模台面上有粉尘时,通过上吸尘口进行吸尘,当从中模孔内漏下的粉尘粘在下冲杆18表面时,通过下吸尘口进行吸尘,从而达到理想的吸尘效果。当发现吸尘效果不明显时,粉尘已在型腔内结块而堵塞了吸尘口,只需拆下上、下吸尘口的盖板,即可彻底清除腔内的粉末,操作非常方便。
按照上述技术方案操作实施的组合式双层吸尘装置,具有吸尘效果好,外观漂亮,造型美观,安装调节方便,型腔内部易清洁等特点。
Claims (8)
1.一种压片机双层吸尘装置,包括连接吸风管的吸尘主通道(14),位于转台(12)一侧,其特征是:所述吸尘装置包括上、下两个吸尘口,上吸尘口设于转台面上的中模孔处,下吸尘口位于下冲杆(18)表面上,所述下吸尘口包括第一吸尘入口,和连接第一吸尘入口与主通道(14)的第一副通道。
2.根据权利要求1所述的压片机双层吸尘装置,其特征是:所述第一副通道为下吸风盖(6)和下吸风板(5)之间形成的间隙,下吸风板(5)上设有连接主通道(14)与第一副通道的连接孔,所述第一吸尘入口为在下吸风板(5)前端侧面上设的横向吸尘槽(15)。
3.根据权利要求2所述的压片机双层吸尘装置,其特征是:所述上吸尘口包括第二吸尘入口,和连接第二吸尘入口与主通道(14)的第二副通道,所述第二副通道为上吸风盖(9)和上吸风板(8)之间形成的间隙,上吸风板(8)上设有连接主通道(14)与第二副通道的连接孔,所述第二吸尘入口为在上吸风板(8)的下平面上设的纵向吸尘孔(16)。
4.根据权利要求3所述的压片机双层吸尘装置,其特征是:所述下吸风盖(6)与上吸风板(8)间设有上垫块(7),下吸风板(5)之下依次有下垫块(4)和密封垫(2),所述密封垫(2)设于转台台面罩(1)的上表面之上,所述吸尘主通道(14)穿过上吸风板(8)、上垫块(7)、下吸风盖(6)、下垫块(4)、密封垫(2)、台面罩(1),与吸风管接头(3)连接。
5.根据权利要求4所述的压片机双层吸尘装置,其特征是:所述上吸风盖(9)、上垫块(7)、下吸风盖(6)、下垫块(4)、密封垫(2)相互间的连接为可拆卸连接。
6.根据权利要求5所述的压片机双层吸尘装置,其特征是:所述吸风管接头(3)、台面罩(1)、密封垫(2)、下垫块(4)通过内六角螺钉(13)紧固;所述下垫块(4)、下吸风板(5)、下吸风盖(6)、上垫块(7)、上吸风板(8)通过内六角螺钉(10)紧固;上吸风板(8)、上吸风盖(9)通过沉头螺钉(11)紧固。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的压片机双层吸尘装置,其特征是:所述上、下吸风板(8、5)的前端纵面为圆弧面,分别与压片机的上、下冲杆(17、18)杆顶的圆柱表面配合。
8.根据权利要求7所述的压片机双层吸尘装置,其特征是:上吸风板(8)的底面高出转台面2~3mm间隙,下吸风板(5)圆弧面离下冲杆(18)外表面2~3mm间隙。
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CN103042711A (zh) * | 2011-10-15 | 2013-04-17 | 四川制药制剂有限公司 | 具有扫底功能的压片机 |
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WO2019025077A1 (de) * | 2017-08-04 | 2019-02-07 | Korsch Ag | Verkleidung für einen rotor einer tablettiermaschine und verfahren zum abführen von überschüssigen tablettiermaterial aus einem pressraum einer tablettiermaschine |
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C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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