CN102149477A - 一种液体扩散装置 - Google Patents

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Abstract

一种液体扩散装置，包括：支撑框架(2)，其具有引导液体射流的上部通道(3)和具有底壁(5)的下部中空管状主体(4)；具有上板(10)的液体射流偏转元件(9)，所述上板固定到容纳在所述管状主体(4)内的下杆(11)；用于将所述下杆(11)可动地连接到所述底壁(5)的连接机构(13)，包括所述下杆(11)的至少一个下接触表面(14)和所述底壁(5)的至少一个上接触表面(15)。所述可动连接机构(13)包括中间接触元件(16)，所述中间接触元件固定到所述下杆(11)的下端部分(12)，并且连续地接触所述底壁(5)的所述上接触表面(15)以避免由于所述接触表面(14，15)的原因而导致的所述下杆(11)向下移位。

Description

一种液体扩散装置
技术领域
本发明总体上用于农业和工业应用的灌溉系统领域中，尤其涉及一种液体扩散装置。
背景技术
在用于输送水或其它液体的灌溉系统中使用的液体扩散装置通常被称为“喷洒器”，包括支撑框架，所述支撑框架被设计为连接到液压系统并且具有用于将液体射流引导到特定形状的扩散板的喷嘴。
扩散板又安装到具有旋转下杆的偏转元件，所述旋转杆具有这样的尺寸使得在喷射压力下进行围绕它自身的中心轴线的旋转运动和围绕射流限定轴线的旋转或旋进运动的组合运动以用于射流的均匀圆周偏转。
在例如US5,950,927和US6,176,440中所述的现有技术的方案中，所述旋转杆具有形成有圆锥形或球形滚动表面的下部分，所述滚动表面被设计为在形成于框架的下部分中、也为圆锥形或球形的滚动轨道上滚动。
这些方案具有的明显缺陷是不允许所述表面和滚动轨道的恒定连接，这导致不均匀偏转射流的高风险。
此外，射流施加于偏转体上的正常工作压力导致两个接触表面的变形，导致效率损失。
US5,439,174公开了一种装置，其中所述杆和框架通过CV接头被连接，所述CV接头沿轴向方向锁定所述杆，因此锁定孔偏转体，同时允许它旋转和摆动。
所述接头由球形元件组成，所述球形元件与所述杆的下端一体化并且容纳在形成于框架的下部分中的凹腔中，球形元件可以在所述凹腔内旋转。
然而，在该情况下，正常工作压力也可以导致球形元件的变形，并且因此导致偏转体的向下移位，即使程度很小。
因此，板离喷嘴的距离长于最佳装置校准距离，并且射流将不被最佳地偏转。
US5,588,595公开了类似于上述的另一种偏转装置，其中球形元件锁定在包含多个共面间隔的球轴承的辊箱中。
球形元件被布置在中心并且同时接触所有辊以允许下杆振动。
然而，在该情况下，由喷射压力导致的各种球形部件的变形也可以导致装置的初始取向的变化，导致它的低效操作。
此外，滚柱罩很容易受到外来物质(即，灰尘和沙子)的累积的影响，因此不规则灌溉的风险高，也可能导致完全堵塞。
发明内容
本发明的一个目标是通过提供一种扩散装置克服以上缺陷，该扩散装置具有简单和有效的构造并且相对成本合算。
本发明的另一个目标是提供一种扩散装置，该扩散装置允许在偏转板与射流输送喷嘴之间保持恒定距离，由此保证最佳的装置操作，即使长期使用之后。
本发明的进一步目标是提供一种扩散装置，该扩散装置被保护免于进入外来物质，从而尤其耐受多尘和污染环境并且在其中具有正常操作。
在下面更清楚解释的这些和其它目标通过如权利要求1中所述的液体扩散装置实现，所述液体扩散装置包括：支撑框架，其带有引导液体射流的上部通道和限定第一纵轴线并且具有基本横向底壁的下部中空管状主体；具有上部偏转板的液体射流偏转元件，所述上部偏转板位于离所述通道的预定距离处并且固定到限定第二纵轴线的下杆，所述下杆保持在所述管状主体内；用于将所述下杆可动地连接到所述底壁的连接机构，其包括所述下杆的至少一个下接触表面和所述底壁的至少一个上接触表面，从而响应液体射流作用于所述板上使得所述下杆相对于所述底壁的旋转和所述第二纵轴线围绕所述第一轴的摆动。
本发明的特征在于所述可动连接机构包括中间接触元件，所述中间接触元件固定到所述下杆的下端部分并且连续地接触所述底壁的所述上接触表面。
因此，在接触表面的磨损之后，所述中间接触元件甚至将防止所述下杆和因此与之固定的板的最微小的向下移位，由此随着时间保持所述板离所述通道的距离基本不变。
附图说明
从本发明的扩散装置的优选、非排他实施例的详细描述将更显而易见本发明的更多特征和优点，所述实施例在附图的帮助下作为非限定性例子被描述，在附图中：
图1是本发明的液体扩散装置的透视图；
图2是图1的装置的横截面图；
图3是图2的细节的放大透视图；
图4是图3的细节的侧视图。
具体实施方式
参考以上附图，本发明的扩散装置(通常由附图标记1标示)可以用于在可能具有很大表面积的表面上(例如在农业区的灌溉中)分配液体。
该扩散装置可以连接到用于液体输送的液压系统(未显示)，并且可以单独或与其它类似装置组合安装到根据预期射流长度将设置在预定高度的固定或旋转式支撑臂(也未显示)。
根据本发明，一种液体扩散装置包括支撑框架2，该支撑框架具有沿预定方向引导液体射流的上部通道3和限定第一纵轴线L并且具有基本横向的底壁5的下部中空管状主体4。
框架2可以在上部管状通道3的入口6处连接到灌溉系统，并且可以在出口7处配备有用于沿预定方向引导液体射流的固定或可拆卸式喷嘴8。
优选地，管状通道3可以与用于轴向射流输送的下部管状主体4同轴。
然而，根据本领域中已知的布置，管状通道3和/或与其相联的喷嘴8也可以布置在偏心位置。
扩散装置1还包括具有上部偏转板10的液体射流偏转元件9，所述上部偏转板位于距离管状通道3一个预定距离的位置处并且固定到下杆11，所述下杆保持在管状主体4中并且具有限定第二纵轴线X的下端部分12。
还设有用于将下杆11可动地连接到管状主体4的底壁5的机构13。
可动连接机构13具有下杆11的下接触表面14和底壁5的上接触表面15，所述上和下接触表面适于被成形以允许下杆11相对于底壁5的旋转运动。
此外，上和下接触表面14、15适于被构造为响应于液体射流在偏转元件9上的作用允许第二纵轴线X围绕第一纵轴线L的摆动。
根据本发明的特定特征，可动连接机构13包括中间接触元件16，所述中间接触元件固定到下杆11的下端部分12并且连续地接触底壁5的上接触表面15。
中间接触元件16的目的是防止由于接触表面14、15中的一个或两个磨损的原因所导致的下杆11的任何向下移位，所述磨损可能由装置1的连续使用产生。
因此，上部偏转板10离管状通道3的出口7的距离将保持基本恒定以用于扩散装置1的最佳操作，即使在扩散装置1的长期使用之后。
在如图中所示的本发明的优选的非排他构造中，下杆11的端部12可以具有邻近下接触表面14形成的基本轴向的中空容座17。
中空容座17可以具有敞开底部以接收中间接触元件16并且允许中间接触元件16邻接底壁5的接触表面15。
特别地，中空容座17可以形成这样的尺寸使得可密封地保持中间接触元件16，从而锁定中间接触元件16的旋转并且限制与接触表面15的摩擦，而不会阻碍下杆11在底壁5上的运动。
优选地，上接触表面15可以形成有例如球形的预定半径的向上凸面。
在另一方面，下杆11的下接触表面14可以是基本凹入的，其半径基本对应于凸起的上接触表面15的半径。
因此，下和上接触表面14、15可以彼此相匹配以便于下杆11的旋转运动，所述旋转运动可以是第二纵轴线X围绕第一纵轴线L的旋进ω1和下杆11围绕第二纵轴线X的旋转ω2。
然而应当理解两个接触表面14、15可以具有与图中相反的构造，即，带有凸起的下表面14和凹入的上表面15。
有利地，管状主体4的底壁5可以具有容纳第一球19的凹入中心部分18，第一球的外表面限定出凸起的上接触表面15。
第一球19可以自由地容纳在凹入中心部分18中，并且当与下杆11的接触表面14相互作用时容易围绕它的中心自由旋转。
然而，在本发明的特别优选的实施例中，第一球19可以被限制在底壁5的凹入中心部分18内以最小化接触表面14、15的摩擦磨损。
而且，中间接触元件16可以是第二球，第二球具有小于第一球19的直径Ф1的最大直径Ф2。
中间接触元件16的中空容座17可以形成于上接触表面14的基本中央区域中。
所以，中间接触元件16和第一球19可以沿着第二纵轴线X恒定地对准并且在第二纵轴线X延伸通过的各自局部区域相互接触。
有利地，中间接触元件16和第一球19可以由具有较高硬度和耐磨性的金属、陶瓷、复合或其它材料制造。
通过该特定构造，很小的摩擦将存在于两个球16、19之间，并且中间接触元件16将基本不受磨损影响，同时下杆11的复杂旋进ω1和旋转ω2运动将不受限制。
然而，框架2、中空管状主体4和偏转元件9或仅仅它的下杆11可以由塑料制造以减小扩散装置1的成本。
在本发明的另一个方面中，轴向保持机构20可以被设置用于相对于底壁5轴向地保持下杆11并且防止下杆5的任何过度向上行程，由此避免偏转机构9的任何未对准。
轴向保持机构20可以形成在下部管状主体4的底壁5上和接触表面14、15的周边上。
此外，轴向保持机构20可以包括基本轴向的保持元件21，该保持元件从底壁5向上突出并且具有径向环形边缘22。
在附图的构造中，保持元件21由三个不同元件组成，仅仅显示了其中的两个，所述元件基本类似并且彼此成角度地间隔，每个具有各自的径向边缘22。
在它的端部12，下杆11可以具有基本圆周径向膨胀边缘24，所述膨胀边缘被设计为与径向环形边缘22相互作用以防止或限制下杆11沿着第一纵轴线L和/或第二纵轴线X移位。
以上公开清楚地说明了本发明满足预期目标并且尤其符合提供这样一种液体扩散装置的要求，所述液体扩散装置将扩散元件保持在它的适当位置，即使在长期使用之后，由此保证了液体扩散效率。
由于管状主体和保持机构的特定构造，下杆的连接部分将被保护免于进入可能堵塞或阻碍它的运动的外来物质和杂质。
所以，该扩散装置能够尤其耐受多尘和污染环境并且在其中正常工作。
在附带权利要求公开的创造性概念内，本发明的扩散装置容易进行许多变化和变型。其中的所有细节可以由其它技术等效部件代替，并且材料可以根据不同需要变化而不脱离本发明的范围。
尽管特别参考附图描述了该扩散装置，但是在本公开和权利要求中涉及的附图标记仅仅是为了很好地理解本发明，而不应当被理解为以任何方式限制权利要求范围。

Claims (10)

1.一种液体扩散装置，包括：
支撑框架(2)，其具有用于引导液体射流的上部通道(3)和限定有第一纵轴线(L)以及设有基本横向底壁(5)的下部中空管状主体(4)；
具有上板(10)的液体射流偏转元件(9)，所述上板位于距离所述上部通道(3)一个预定距离的位置处并且固定到下杆(11)，所述下杆(11)限定有第二纵轴线(X)并且容纳在所述管状主体(4)内；
用于将所述下杆(11)可动地连接到所述底壁(5)的连接机构(13)，其包括所述下杆(11)的至少一个下接触表面(14)和所述底壁(5)的至少一个上接触表面(15)，所述上和下接触表面(14，15)被成形为响应于液体射流在所述上板(10)上的作用使得所述下杆(11)相对于所述底壁(5)旋转以及使得所述第二纵轴线(X)相对于所述第一纵轴线(L)摆动；
其特征在于：所述连接机构(13)包括固定到所述下杆(11)的下端部分(12)的中间接触元件(16)，所述中间接触元件(16)连续地接触所述底壁(5)的所述上接触表面(15)以避免由于所述接触表面(14，15)磨损的原因所导致的所述下杆(11)向下移位，并且保持所述上板(10)离所述上部通道(3)的距离基本不变。
2.根据权利要求1所述的液体扩散装置，其中所述下杆(11)的所述下端部分(12)具有向下敞开的中空容座(17)，以提供用于所述中间接触元件(16)的安置腔。
3.根据权利要求2所述的液体扩散装置，其中所述中间接触元件(16)被稳定地包在所述中空容座(17)中。
4.根据权利要求3所述的液体扩散装置，其中所述管状主体(4)的所述下接触表面(15)是基本凸起的，并且具有朝上凸起的凸面并且具有预定曲率半径。
5.根据权利要求4所述的液体扩散装置，其中所述下杆(11)的所述下接触表面(14)是至少部分凹入的并且具有朝下凹入的凹面，所述凹面具有基本对应于凸起的所述上接触表面(15)的曲率半径的曲率半径。
6.根据权利要求4或5所述的液体扩散装置，其中所述管状主体(4)的所述底壁(5)具有用于容纳第一球(19)的中心凹入部分(18)，所述第一球(19)被固定到所述凹入部分(18)中并且具有提供所述底壁(5)的所述上接触表面(15)的外表面。
7.根据权利要求6所述的液体扩散装置，其中所述中间接触元件(16)是第二球，所述第二球的最大直径(f2)小于所述第一球(19)的直径(f1)。
8.根据权利要求6或7所述的液体扩散装置，其中所述中间接触元件(16)和所述第一球(19)沿着所述第二纵轴线(X)对准并且在横向于所述第二纵轴线(X)的其各自局部区域成相互接触关系。
9.根据前述权利要求中的任一项所述的液体扩散装置，其中所述液体扩散装置包括相对于所述底壁(5)保持所述下杆(11)的轴向保持机构(20)，以防止所述下杆(11)与所述底壁(5)轴向分离。
10.根据权利要求9所述的液体扩散装置，其中所述轴向保持机构(20)包括所述下杆(11)的所述下端部分(12)中的插入基本管状轴向保持元件(21)中的、且具有预定外部直径的至少一个径向边缘，所述基本管状轴向保持元件(21)与所述底壁(5)成一体的并且具有环形径向边缘(22)，所述环形径向边缘(22)的最小内部直径小于所述至少一个径向边缘(23)的所述外部直径。
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