CN102137558A - 具有色彩的壳体及其表面处理方法 - Google Patents

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王仲培
张庆州
简士哲
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吴佳颖
洪新钦
廖名扬
蔡泰生
黄建豪
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Abstract

一种具有色彩的壳体及其表面处理方法,包含基材、色彩层与结合层。基材的表面包含至少一平滑区域,而色彩层覆盖基材的平滑区域。色彩层包含铬金属,其特征在于:色彩层于平滑区域中呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于70.44至72.44,a*坐标介于-7.84至-6.84,而b*坐标介于-8.57至-7.57。结合层设置于基材与色彩层之间,以接合基材与色彩层。

Description

具有色彩的壳体及其表面处理方法
技术领域
本发明涉及一种具有色彩的壳体及其表面处理方法,尤其涉及一种可具有特定色彩与金属质感的壳体及其加工方法。
背景技术
随着科技的迅速演进,手机、掌上计算机(PDA,Personal Digital Assistant)、个人计算机与笔记型计算机等各式电子装置发展迅速,其功能亦愈来愈丰富。为了使电子装置的外壳具有丰富色彩,传统上可利用彩色塑料形成彩色塑料外壳,或藉由喷漆方式在电子装置的壳体表面形成色料层。惟,塑料外壳与喷漆外壳不能呈现良好的金属质感。另一方面,由于金属镀膜本身技术较为复杂而不易精密操控,因此习知技术始终只能于壳体表面形成少数几种传统金属色彩,未能于丰富色彩质感方面有所突破。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种具有特定色彩的具有色彩的壳体及其表面处理方法,以解决习知问题。
一种具有色彩的壳体包含基材、色彩层与结合层。基材的表面包含至少一平滑区域,而色彩层覆盖基材的平滑区域,其中色彩层包含铬金属,且色彩层于平滑区域中呈现的色度区域于国际照明委员会(Commission internationale de l’éclairag,CIE)LAB表色系统的L*坐标介于70.44至72.44,a*坐标介于-7.84至-6.84,而b*坐标介于-8.57至-7.57。结合层设置于基材与色彩层之间,以接合基材与色彩层。
一种具有色彩的壳体的表面处理方法包括以下步骤:提供一基材;形成一结合层,覆盖基材的表面;以及利用一物理气相沉绩工艺形成一色彩层,覆盖结合层表面,其中色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于70.44至72.44,a*坐标介于-7.84至-6.84,而b*坐标介于-8.57至-7.57。
与现有技术相比,所述具有色彩的壳体藉由其色彩层提供特定色彩的金属质感。
附图说明
图1是本发明较佳实施例的具有色彩的壳体的结构示意图。
图2是图1的具有色彩的壳体的部份结构剖面示意图。
图3是本发明较佳实施例的色彩层于CIE LAB表色系统L*坐标的范围的示意图。
图4是本发明较佳实施例的色彩层于CIE LAB表色系统a*坐标与b*坐标的范围的示意图。
图5是本发明较佳实施例对具有色彩的壳体进行表面处理的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合附图,以较佳实施例并配合图式详细描述如下。
请参阅图1及图2,本发明具有色彩的壳体的较佳实施例例如可为一手机的外壳,其包括一基材1、一结合层2、一色彩层3及选择性的覆盖层4。其中结合层2设于基材1的表面,色彩层3设置于结合层2的表面,而覆盖层4可设置于色彩层3的表面。
基材1可包含不锈钢等金属材料或是玻璃等陶瓷材料,基材1可具有至少一待镀膜处理的表面,而待镀膜处理的表面可以包含具有不同表面结构的区域,例如包含至少一平滑区域、至少一较细致的第一雾化区域、至少一较粗糙的第二雾化区域、或具有复数个拉丝状微结构的区域,或前述区域的组合。结合层2设置于基材1与色彩层3之间,以接合基材1与色彩层3。结合层2的材料可包含氮化铬(CrN)或其它可提供附着效果的材料。色彩层3可包含一层或复数层金属材料,例如铬铝合金。覆盖层4可包含任何适当的绝缘材料,以提供保护效果。由于本发明具有色彩的壳体具有前述基材1、结合层2及色彩层3,所形成的具有色彩的壳体的维氏硬度(Vickers hardness)可大于等于300HV。
请参阅图3与图4,当基材1的待镀膜表面包含平滑区域时,本发明所提供的色彩层3于平滑区域中呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标可介于70.44至72.44,a*坐标可介于-7.84至-6.84,而b*坐标可介于-8.57至-7.57。
当基材1的待镀膜表面包含较细致的第一雾化区域时,本发明所提供的色彩层3于第一雾化区域中呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于60.04至62.04,a*坐标介于-5.60至-4.60,而b*坐标介于-6.83至-5.83。
当基材1的待镀膜表面包含较粗糙的第二雾化区域时,本发明所提供的色彩层3于第二雾化区域中呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于68.50至70.50,a*坐标介于7.46至6.46,而b*坐标介于7.89至6.89。
当基材1的待镀膜表面包含具有复数个拉丝状微结构的区域时,本发明所提供的色彩层3于拉丝状微结构区域中呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于59.87至61.87,a*坐标介于6.23至5.23,而b*坐标介于7.59至6.59。
请参阅图5,并一并参阅图1与图2,本发明具有色彩的壳体的表面处理方法包括以下步骤:首先,形成一手机外壳的基材1,基材1是由不绣钢等金属材料或是玻璃等陶瓷材料制成。形成基材1后可进一步对基材1进行表面处理,以满足外壳的外观色质需要,或可进一步调整基材1的平整度使后续形成于其表面上的结合层2具有高附着性。
其次,于基材1表面上的预定位置形成一结合层2,例如结合层2的材料较佳包含氮化铬。实际生产中可以采用物理气相沉积工艺溅镀的方法于基材1的表面上形成结合层2,以基材1为基材,利用一铬靶材溅镀,采用射频(RF)能量源激发氩气电浆以27至33标况毫升每分(standard cubic centimeter per minute,sccm)的流量冲击靶材,使靶材表面的材质喷溅出来,沉积至基材1表面。
接着,于结合层2表面形成一色彩层3。色彩层3的材料较佳包含铬铝合金。实际生产中亦可以采用物理气相沉积工艺溅镀的方法形成色彩层3。于本发明的较佳实施例中,形成色彩层3的物理气相沉积工艺轰击铬靶材的功率介于2.7至3.3千瓦,物理气相沉积工艺轰击铝靶材的功率介于27至33千瓦,物理气相沉积工艺的偏压介于180至220伏特,物理气相沉积工艺的工艺温度介于摄氏180至220度,物理气相沉积工艺的工艺时间介于81至99分,物理气相沉积工艺的工艺压力介于4.2至3.5毫托耳,基材于物理气相沉积工艺中的公转转速介于1.8至2.2转速每分(revolution per minute,rpm),基材于物理气相沉积工艺中的公转转速介于7.2至8.8rpm。针对工艺气体流量部份,物理气相沉积工艺包括提供氩气与氧气,且氩气的流量介于54至66sccm,氧气的流量介于162至198sccm。
根据上述流程步骤,本发明可于基材1与结合层2上形成所需的特定色彩与金属质感。如前所述,当基材1的待镀膜表面分别为平滑区域、较细致的第一雾化区域、较粗糙的第二雾化区域,以及具有复数个拉丝状微结构的区域时,前述流程步骤所形成的色彩层3的色度坐标(L*,a*,b*)分别为(70.44~72.44,-7.84~-6.84,-8.57~-7.57)、(60.04~62.04,-5.60~-4.60,-6.83~-5.83)、(68.50~70.50,-7.46~-6.46,-7.89~-6.89),以及(59.87~61.87,-6.23~-5.23,-7.59~-6.59),此为习知具有色彩的壳体所无法提供的色彩范围。
其后,可选择性于色彩层3的表面形成一覆盖层4。覆盖层4可包含任何适当的绝缘材料,以提供保护效果。
可以理解,本发明具有色彩的壳体的较佳实施例同样适用于笔记型计算机、掌上计算机等其它种类的电子装置,或是任何需具有特定色彩与金属质感的装置。使用装配有本发明具有色彩的壳体的较佳实施例的手机时,覆盖于结合层表面的色彩层可提供特定色彩的金属质感,以满足外壳的外观色质需要,从而形成具有丰富色彩与良好金属质感的装置。
应该指出,上述实施方式仅为本发明的较佳实施方式,本领域技术人员还可在本发明精神内做其它变化。这些依据本发明精神所做的变化,都应包含在本发明所要求保护的范围之内。

Claims (49)

1.一种具有色彩的壳体,其包括一基材,一色彩层,以及一结合层,所述基材的表面包含至少一平滑区域,所述色彩层覆盖所述基材的所述平滑区域,所述色彩层包含铬金属,所述结合层设置于所述基材与所述色彩层之间,以接合所述基材与所述色彩层,其特征在于:所述色彩层于所述平滑区域中呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于70.44至72.44,a*坐标介于-7.84至-6.84,而b*坐标介于-8.57至-7.57。
2.如权利要求1所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述基材为金属材料或陶瓷材料。
3.如权利要求1所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述结合层包含氮化铬。
4.如权利要求3所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述结合层是于一物理气相沉积工艺中利用一铬靶材所形成。
5.如权利要求1所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述色彩层包含铬铝合金。
6.如权利要求5所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述色彩层是于一物理气相沉积工艺中利用一铬靶材与一铝靶材所形成。
7.如权利要求1所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述具有色彩的壳体的维氏硬度(Vickers hardness)大于等于300HV。
8.如权利要求1所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述基材的表面更包含一第一雾化区域,所述色彩层覆盖所述第一雾化区域,且所述色彩层于所述第一雾化区域中呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于60.04至62.04,a*坐标介于-5.60至-4.60,而b*坐标介于-6.83至-5.83。
9.如权利要求1所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述基材的表面更包含一第二雾化区域,所述色彩层覆盖所述第二雾化区域,且所述色彩层于所述第二雾化区域中呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于68.50至70.50,a*坐标介于-7.46至-6.46,而b*坐标介于-7.89至-6.89。
10.如权利要求1所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述基材的表面更包含复数个拉丝状微结构,所述色彩层覆盖所述拉丝状微结构,且所述色彩层于所述拉丝状微结构上呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于59.87至61.87,a*坐标介于-6.23至-5.23,而b*坐标介于-7.59至-6.59。
11.一种具有色彩的壳体,其包括一基材,一色彩层,以及一结合层,所述基材的表面包含至少一第一雾化区域,所述色彩层覆盖所述基材的所述第一雾化区域,所述色彩层包含铬金属,所述结合层设置于所述基材与所述色彩层之间,以接合所述基材与所述色彩层,其特征在于:所述色彩层于所述第一雾化区域中呈现的色度区域于CIELAB表色系统的L*坐标介于60.04至62.04,a*坐标介于-5.60至-4.60,而b*坐标介于-6.83至-5.83。
12.如权利要求11所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述基材为金属材料或陶瓷材料。
13.如权利要求11所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述结合层包含氮化铬。
14.如权利要求13所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述结合层是于一物理气相沉积工艺中利用一铬靶材所形成。
15.如权利要求11所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述色彩层包含铬铝合金。
16.如权利要求15所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述色彩层是于一物理气相沉积工艺中利用一铬靶材与一铝靶材所形成。
17.如权利要求11所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述具有色彩的壳体的维氏硬度大于等于300HV。
18.如权利要求11所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述基材的表面更包含一第二雾化区域,所述色彩层覆盖所述第二雾化区域,且所述色彩层于所述第二雾化区域中呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于68.50至70.50,a*坐标介于-7.46至-6.46,而b*坐标介于-7.89至-6.89。
19.如权利要求11所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述基材的表面更包含复数个拉丝状微结构,所述色彩层覆盖所述拉丝状微结构,且所述色彩层于所述拉丝状微结构上呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于59.87至61.87,a*坐标介于-6.23至-5.23,而b*坐标介于-7.59至-6.59。
20.一种具有色彩的壳体,其包括一基材,一色彩层,以及一结合层,所述基材的表面包含至少一第二雾化区域,所述色彩层覆盖所述基材的所述第二雾化区域,所述色彩层包含铬金属,所述结合层设置于所述基材与所述色彩层之间,以接合所述基材与所述色彩层,其特征在于:所述色彩层于所述第二雾化区域中呈现的色度区域于CIELAB表色系统的L*坐标介于68.50至70.50,a*坐标介于-7.46至-6.46,而b*坐标介于-7.89至-6.89。
21.如权利要求20所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述基材为金属材料或陶瓷材料。
22.如权利要求20所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述结合层包含氮化铬。
23.如权利要求22所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述结合层是于一物理气相沉积工艺中利用一铬靶材所形成。
24.如权利要求20所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述色彩层包含铬铝合金。
25.如权利要求24所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述色彩层是于一物理气相沉积工艺中利用一铬靶材与一铝靶材所形成。
26.如权利要求20所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述具有色彩的壳体的维氏硬度大于等于300HV。
27.如权利要求20所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述基材的表面更包含复数个拉丝状微结构,所述色彩层覆盖所述拉丝状微结构,且所述色彩层于所述拉丝状微结构上呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于59.87至61.87,a*坐标介于-6.23至-5.23,而b*坐标介于-7.59至-6.59。
28.一种具有色彩的壳体,其包括一基材,一色彩层,以及一结合层,所述基材的表面包含复数个拉丝状微结构,所述色彩层覆盖所述基材的所述拉丝状微结构,所述色彩层包含铬金属,所述结合层设置于所述基材与所述色彩层之间,以接合所述基材与所述色彩层,其特征在于:所述色彩层于所述拉丝状微结构上呈现的色度区域于CIELAB表色系统的L*坐标介于59.87至61.87,a*坐标介于-6.23至-5.23,而b*坐标介于-7.59至-6.59。
29.如权利要求28所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述基材为金属材料或陶瓷材料。
30.如权利要求28所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述结合层包含氮化铬。
31.如权利要求30所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述结合层是于一物理气相沉积工艺中利用一铬靶材所形成。
32.如权利要求28所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述色彩层包含铬铝合金。
33.如权利要求32所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述色彩层是于一物理气相沉积工艺中利用一铬靶材与一铝靶材所形成。
34.如权利要求28所述的具有色彩的壳体,其特征在于:所述具有色彩的壳体的维氏硬度大于等于300HV。
35.一种具有色彩的壳体的表面处理方法,包含:
提供一基材;
形成一结合层,覆盖所述基材的表面;以及
利用一物理气相沉积工艺形成一色彩层,覆盖所述结合层表面,其特征在于:所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于70.44至72.44,a*坐标介于-7.84至-6.84,而b*坐标介于-8.57至-7.57。
36.如权利要求35所述的表面处理方法,其特征在于:所述基材为金属材料与陶瓷材料。
37.如权利要求35所述的表面处理方法,其特征在于:形成所述结合层的步骤包含一物理气相沉积工艺。
38.如权利要求37所述的表面处理方法,其特征在于:所述物理气相沉积工艺包含利用一铬靶材进行溅镀,而所述结合层包含氮化铬。
39.如权利要求35所述的表面处理方法,其特征在于:所述物理气相沉积工艺包含利用一铬靶材与一铝靶材进行溅镀,而所述色彩层包含铬铝合金。
40.如权利要求39所述的表面处理方法,其特征在于:所述物理气相沉积工艺轰击所述铬靶材的功率介于2.7至3.3千瓦。
41.如权利要求39所述的表面处理方法,其特征在于:所述物理气相沉积工艺轰击所述铝靶材的功率介于27至33千瓦。
42.如权利要求35所述的表面处理方法,其特征在于:所述物理气相沉积工艺的偏压介于180至220伏特。
43.如权利要求35所述的表面处理方法,其特征在于:所述物理气相沉积工艺的工艺温度介于摄氏180至220度。
44.如权利要求35所述的表面处理方法,其特征在于:所述物理气相沉积工艺的工艺时间介于81至99分。
45.如权利要求35所述的表面处理方法,其特征在于:所述物理气相沉积工艺的工艺压力介于4.2至3.5毫托耳。
46.如权利要求35所述的表面处理方法,其特征在于:所述物理气相沉积工艺包括提供氩气,且氩气的流量介于54至66标况毫升每分(standard cubiccentimeter per minute,sccm)。
47.如权利要求35所述的表面处理方法,其特征在于:所述物理气相沉积工艺包括提供氧气,且氧气的流量介于162至198sccm。
48.如权利要求35所述的表面处理方法,其特征在于:所述基材于所述物理气相沉积工艺中的公转转速介于1.8至2.2转速每分(revolution per minute,rpm)
49.如权利要求35所述的表面处理方法,其特征在于:所述基材于所述物理气相沉积工艺中的自转转速介于7.2至8.8rpm。
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