CN102137567A - 具有色彩之壳体及其表面处理方法 - Google Patents
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Abstract
一种具有色彩之壳体及其表面处理方法，包含基材、色彩层与结合层。所述基材的表面包含至少一平滑区域，所述色彩层覆盖基材的平滑区域。所述色彩层包含铬金属，所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于81.59至83.59，a*坐标介于-0.55至0.45，而b*坐标介于-0.60至0.40。
Description
技术领域
本发明涉及一种具有色彩之壳体及其表面处理方法，尤其涉及指一种可具有特定色彩与金属质感的具有色彩之壳体及其加工方法。
背景技术
随着科技的迅速演进，行动电话、个人数字助理(PDA，Personal Digital Assistant)、个人计算机与笔记型计算机等各式电子装置发展迅速，其功能亦愈来愈丰富。为了使电子装置的外壳具有丰富色彩，传统上可利用彩色塑料形成彩色塑料外壳，或藉由喷漆方式在电子装置的壳体表面形成色料层。惟，塑料外壳与喷漆外壳不能呈现良好的金属质感。另一方面，由于金属镀膜本身技术较为复杂而不易精密操控，因此现有技术始终只能在壳体表面形成少数几种传统金属色彩，未能于丰富色彩质感方面有所突破。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种可以具有特定色彩的具有色彩之壳体及其表面处理方法。
一种具有色彩之壳体包含基材、色彩层与结合层。所述基材的表面包含至少一平滑区域，所述色彩层覆盖基材的平滑区域，所述色彩层包含铬金属，所述色彩层于平滑区域中呈现的色度区域于国际照明委员会(Commission internationale de l’éclairag，CIE)LAB表色系统的L*坐标介于81.59至83.59，a*坐标介于-0.55至0.45，而b*坐标介于-0.60至0.40。
一种具有色彩之壳体之表面处理方法包括以下步骤：提供一基材；形成一结合层，覆盖所述基材的表面；以及利用一物理气相沉绩制程形成一色彩层，覆盖所述结合层表面，其中色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于81.59至83.59，a*坐标介于-0.55至0.45，而b*坐标介于-0.60至0.40。
所述的具有色彩之壳体藉由其色彩层提供特定色彩的金属质感。
附图说明
图1是本发明较佳实施例具有色彩之壳体的结构示意图。
图2是图1具有色彩之壳体的部分结构剖面示意图。
图3是本发明较佳实施例之色彩层于CIE LAB表色系统L*坐标之范围的示意图。
图4是本发明较佳实施例之色彩层于CIE LAB表色系统a*坐标与b*坐标之范围的示意图。
图5是本发明较佳实施例对具有色彩之壳体进行表面处理的流程示意图。
具体实施方式
请参阅图1及图2，本发明具有色彩之壳体的较佳实施例例如可为一行动电话的外壳，包括基材1、结合层2、色彩层3及选择性之覆盖层4。所述结合层2设于基材1的表面，所述色彩层3设置于结合层2的表面，而覆盖层4可设置于色彩层3的表面。
所述基材1可包含不锈钢等金属材料或是玻璃等陶瓷材料，所述基材1可具有至少一待镀膜处理的表面，而待镀膜处理的表面可以包含具有不同表面结构的区域，例如包含至少一平滑区域。所述结合层2设置于基材1与色彩层3之间，以接合基材1与色彩层3。所述结合层2的材料可包含氮化钛(CrN)或其它可提供附着效果的材料。所述色彩层3可包含一层或复数层金属材料，例如铬合金。所述覆盖层4可包含任何适当的绝缘材料，以提供保护效果。由于本发明具有色彩之壳体具有所述基材1、结合层2及色彩层3，所形成之具有色彩之壳体的维氏硬度(Vickers hardness)可大于等于500HV。
请参阅图3与图4，当基材1的待镀膜表面包含平滑区域时，本发明所提供的色彩层3于平滑区域中呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于81.59至83.59，a*坐标介于-0.55至0.45，而b*坐标介于-0.60至0.40。
请参阅图5，并一并参阅图1与图2，本发明具有色彩之壳体之表面处理方法包括以下步骤：首先，形成一行动电话外壳的基材1，所述基材1系由不锈钢等金属材料或是玻璃等陶瓷材料制成。形成基材1后可进一步对基材1进行表面处理，以满足外壳的外观色质需要，或可进一步调整基材1的平整度使后续形成于其表面上的结合层2具有高附着性。
其次，在基材1表面上的预定位置形成一结合层2，例如结合层2的材料较佳包含氮化钛。实际生产中可以采用物理气相沉积制程溅镀的方法在基材1的表面上形成结合层2，以基材1为基材，利用一钛靶材溅镀，采用射频(RF)能量源激发氩气电浆以27至33标准立方公分每分钟(standard cubic centimeter per minute，sccm)的流量冲击靶材，使靶材表面的材质喷溅出来，沉积至基材1表面。
接着，在结合层2表面形成一色彩层3。所述色彩层3的材料较佳包含铬合金。实际生产中亦可以采用物理气相沉积制程溅镀的方法形成色彩层3。本发明的较佳实施例中，形成色彩层3的物理气相沉积制程轰击铬靶材的功率介于18至22千瓦，物理气相沉积制程之偏压介于216至264伏特，物理气相沉积制程的制程温度介于摄氏88.2至107.8度，物理气相沉积制程的制程时间介于9至11分钟，物理气相沉积制程的制程压力介于3.6至4.4毫托耳，基材于物理气相沉积制程中的公转转速介于1.8至2.2转速每分钟(revolution per minute，rpm)，基材于物理气相沉积制程中的自转转速介于7.2至8.8rpm。针对制程气体流量部份，物理气相沉积制程包括提供氩气与氮气，且氩气的流量介于27至33sccm，氮气的流量介于54至66sccm。
根据上述流程步骤，本发明可在基材1与结合层2上形成所需的特定色彩与金属质感。如前所述，当基材1的待镀膜表面为平滑表面时，前述流程步骤所形成的色彩层3的色度坐标(L*，a*，b*)为(81.59~83.59，-0.55~0.45，-0.60~0.40)，此为现有具有色彩之壳体所无法提供之色彩范围。
其后，可选择性在色彩层3的表面形成一覆盖层4。所述覆盖层4可包含任何适当的绝缘材料，以提供保护效果。
可以理解，本发明具有色彩之壳体的较佳实施例同样适用于笔记型计算机、个人数字助理等其它种类的电子装置，或是任何需具有特定色彩与金属质感的装置。使用装配有本发明具有色彩之壳体的较佳实施例的行动电话时，覆盖于结合层表面的色彩层可提供特定色彩的金属质感，以满足外壳的外观色质需要，从而形成具有丰富色彩与良好金属质感的装置。
应该指出，上述实施方式仅为本发明的较佳实施方式，本领域技术人员还可在本发明精神内做其它变化。这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。
Claims (21)
1.一种具有色彩之壳体，其特征在于，包含基材、色彩层及结合层，所述基材的表面包含至少一平滑区域，所述色彩层覆盖基材的平滑区域，所述色彩层包含铬金属，所述色彩层于平滑区域中呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于81.59至83.59，a*坐标介于-0.55至0.45，而b*坐标介于-0.60至0.40，所述结合层设置于基材与色彩层之间，以接合基材与色彩层。
2.如权利要求1所述的具有色彩之壳体，其特征在于：所述基材为金属材料或陶瓷材料。
3.如权利要求1所述的具有色彩之壳体，其特征在于：所述结合层包含氮化钛。
4.如权利要求3所述的具有色彩之壳体，其特征在于：所述结合层在物理气相沉积制程中利用钛靶材所形成。
5.如权利要求1所述的具有色彩之壳体，其特征在于：所述色彩层包含铬合金。
6.如权利要求5所述的具有色彩之壳体，其特征在于：所述色彩层在物理气相沉积制程中利用铬靶材所形成。
7.如权利要求1所述的具有色彩之壳体，其特征在于：所述具有色彩之壳体的维氏硬度(Vickers hardness)大于等于500HV。
8.一种具有色彩之壳体之表面处理方法，该方法包括下列步骤：
提供一基材；
形成一结合层，覆盖该基材的表面；以及
利用一物理气相沉积制程形成一色彩层，覆盖所述结合层的表面，所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于81.59至83.59，a*坐标介于-0.55至0.45，而b*坐标介于-0.60至0.40。
9.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述基材为金属材料或陶瓷材料。
10.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述形成结合层的步骤包含物理气相沉积制程。
11.如权利要求10所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程包含利用钛靶材进行溅镀，所述结合层包含氮化钛。
12.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程包含利用铬靶材进行溅镀，所述色彩层包含铬合金。
13.如权利要求12所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程轰击铬靶材的功率介于1.8至2.2千瓦。
14.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程之偏压介于216至264伏特。
15.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程的制程温度介于摄氏88.2至107.8度。
16.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程的制程时间介于9至11分钟。
17.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程的制程压力介于3.6至4.4毫托耳。
18.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程包括提供氩气，所述氩气的流量介于27至33标准立方公分每分钟(standard cubiccentimeter per minute，sccm)。
19.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述物理气相沉积制程包括提供氮气，所述氮的流量介于54至66标准立方公分每分钟。
20.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述基材于该物理气相沉积制程中的公转转速介于1.8至2.2转速每分钟(revolution per minute，rpm)。
21.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于：所述基材于该物理气相沉积制程中的自转转速介于7.2至8.8rpm。
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