CN102102217A - 一种微弧氧化制造氧化铝薄膜方法 - Google Patents

一种微弧氧化制造氧化铝薄膜方法 Download PDF

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任先武
金鹏飞
周明军
张洪泉
尤佳
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Abstract

氧化铝薄膜微弧氧化制造方法,属于传感器领域,包括微弧氧化成膜方法、铝基片材料与尺寸、微弧氧化电参数、微弧氧化时间、电解液体系与添加剂、电解液温度、电解液酸碱度、氧化膜的清洗与漂洗。经如下工艺过程操作:铝基片制备-微弧氧化电源参数设定-电解液的配制-电解液温度调整-电解液pH值调整-微弧氧化工艺-线切割-超声清洗-酒精漂洗-自然干燥。该制造方法可获得一致性、重复性、稳定优良的α-Al2O3薄膜湿度传感器,广泛应用于军工、石油、化工、微电子等领域。

Description

一种微弧氧化制造氧化铝薄膜方法
(一)技术领域
本发明属于传感器技术与制造领域,涉及到氧化铝薄膜稳定性的一种湿度传感器的制造方法。
(二)背景技术
水份是影响绝缘、设备腐蚀及老化的一个重要因素。含水量过高,会使绝缘材料的绝缘性能下降并加速其腐蚀与老化,从而导致运行设备的可靠性降低,寿命缩短。
水分的测量常用的有高分子电容式、陶瓷电阻式湿度传感器,通常用于环境湿度控制要求不高、湿度较大的场合。在湿度控制严格、湿度较小的环境,镜面式露点仪、电解式水分析仪、压电石英晶体水分仪可检测到-70℃露点以下,多数情况可作为低湿标准,缺点是设备庞大、造价高,不适合在线测试等。电容式氧化铝薄膜湿度传感器适用于低湿环境水分的检测,具有体积小、操作方便、经济实用、响应速度快等特点。
电容式氧化铝薄膜传感器关键性能指标是其稳定性,而稳定的关键取决于氧化铝薄膜结构。通常氧化铝有α、β、γ三种结构,其中高温稳定相α-Al2O3在多数环境下是一种稳定的结构形式。阳极氧化是氧化铝成膜最常见的方式,但其所制成的膜结构为复合相,稳定性差。为获得单一的α-Al2O3薄膜,提高氧化铝薄膜的稳定性,我们采用了微弧氧化成膜的方法,总结出一套完善的工艺程序,获得了稳定性、一致性、重复性优良的电容式氧化铝湿度传感器。
(三)发明内容
本发明的目的是提供一种氧化铝成膜新方法,使传感器氧化铝薄膜成为稳定的单一的α-Al2O3薄膜。
本发明的目的是这样实现的:
a.在纯铝基片上通过高温等离子微弧氧化工艺制造氧化铝薄膜;
b.按规定的铝基片纯度、厚度及尺寸制成高温等离子微弧氧化阳极;以石墨作为阴极;
c.按规定设定微弧氧化电源参数,包括电压大小、方波电压占空比;
d.按规定配制高温等离子微弧氧化电解液与添加剂;按规定调整电解液的温度及PH值;
e.按规定的时间进行高温等离子微弧氧化;
f.氧化后的铝基片,采用超声波清洗30~60分钟,介质为酒精,纯度为分析纯;随后用酒精漂洗不少于5次,自然干燥。
本发明还包含这样一些特征:
1、所述的纯铝纯度大于99.5%,且硅、镁总含量小于0.001%。
2、所述的高温等离子微弧氧化电源采用方波脉冲供电方法,其空占比为10~90%,电压大小为400~600V。
3、所述的电解液与添加剂为磷酸盐体系;添加剂为稀土氯化物。
4、所述的电解液温度为30~80℃、PH值为4~10。
本发明针对氧化铝敏感薄膜成膜难、稳定性差等技术特点,
(四)附图说明
图1铝基片尺寸图
图2氧化铝薄膜湿度传感器微弧氧化制造工艺流程图
(五)具体实施方式
参照图2,氧化铝薄膜湿度传感器微弧氧化制造工艺流程概括起来为:铝基片制备-微弧氧化电源参数设定-电解液的配制-电解液温度调整-电解液PH值调整-微弧氧化实施-线切割-超声清洗-酒精漂洗-自然干燥形成氧化铝薄膜湿度传感器。

Claims (8)

1.一种α相氧化铝薄膜湿度传感器微弧氧化制造方法,包括微弧氧化成膜方法、纯铝基片材料与尺寸、微弧氧化电参数、微弧氧化时间、电解液体系与添加剂、电解液温度、电解液酸碱度、氧化膜的清洗与漂洗,其特征在于:
2.根据权利要求1所述的传感器制造方法,其特征在于,敏感薄膜制造方法为微弧氧化工艺技术方法。
3.根据权利要求1所述的传感器制造方法,其特征在于,铝基材纯度95~99.9%;厚度D为0.1~2mm,长L为2~100mm,宽为W2~100mm。
4.根据权利要求1所述的传感器制造方法,其特征在于,阴极材料为石墨,尺寸与铝基材相同。
5.根据权利要求1所述的传感器制造方法,其特征在于,微弧氧化电源采用方波脉冲供电方法,其空占比为10~90%,电压大小为400~600V。
6.根据权利要求1所述的传感器制造方法,其特征在于,电解液体系为磷酸盐体系,浓度为10~100g/l;添加剂为稀土氯化物,浓度为0.5~50g/l;电解液温度为30~80℃,PH值为4~10。
7.根据权利要求1所述的传感器制造方法,其特征在于,微弧氧化操作时间为1~20min。
8.根据权利要求1所述的传感器制造方法,其特征在于,氧化后的铝基片,采用超声波清洗方法,介质为酒精,纯度为分析纯,清洗时间为30~60分钟。超声清洗后的漂洗介质为酒精,纯度为分析纯,漂洗次数不少于5次。
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PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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