CN102093089A - 一种陶瓷表面上的氧化物膜渣清除方法 - Google Patents

一种陶瓷表面上的氧化物膜渣清除方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102093089A
CN102093089A CN2010105550584A CN201010555058A CN102093089A CN 102093089 A CN102093089 A CN 102093089A CN 2010105550584 A CN2010105550584 A CN 2010105550584A CN 201010555058 A CN201010555058 A CN 201010555058A CN 102093089 A CN102093089 A CN 102093089A
Authority
CN
China
Prior art keywords
oxide film
ceramic
ion source
ceramic surface
pottery
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
CN2010105550584A
Other languages
English (en)
Inventor
谢祥建
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujian Castech Crystals Inc
Original Assignee
Fujian Castech Crystals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujian Castech Crystals Inc filed Critical Fujian Castech Crystals Inc
Priority to CN2010105550584A priority Critical patent/CN102093089A/zh
Publication of CN102093089A publication Critical patent/CN102093089A/zh
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

一种陶瓷表面上的氧化物膜渣清除方法。RF射频离子源的陶瓷在一定浓度氧气气氛中累计工作100小时以上后,表面会聚集氧化物膜渣,传统的方法是采用沙纸打磨陶瓷后继续使用。传统方法无法彻底清除陶瓷表面的氧化物膜渣,RF离子源起弧不稳,甚至离子源无法正常工作。本发明采用一定浓度酸溶液和蒸馏水对陶瓷进行加热浸泡和清洗后重新装配到RF离子源后,离子源可以正常起弧。

Description

一种陶瓷表面上的氧化物膜渣清除方法
【技术领域】
本发明属于陶瓷清洗领域,特别涉及一种陶瓷表面上的氧化物膜渣清除方法。
【技术背景】
RF射频离子源由于长期处于高温离子溅射,强腐蚀气体腐蚀等恶劣环境中,一般离子源绝缘体工作一段时间后很容易被溅射污染,引起爬电和短路等问题,难以满足离子源的长寿命使用以及可靠性使用要求,因此通常离子源采用陶瓷作为绝缘材料,但是RF射频离子源的陶瓷在一定浓度氧气气氛中累计工作100小时以上后,表面会聚集氧化物膜渣,传统的清除方法是采用沙纸打磨陶瓷后继续使用。传统方法无法彻底清除陶瓷表面的氧化物膜渣,从而导致RF离子源起弧不稳,甚至离子源无法正常工作。
【发明内容】
为解决传统砂纸打磨方法无法完全清除陶瓷表面氧化物膜渣的问题,本发明将表面附有氧化物的陶瓷放入装有一定浓度酸溶液的烧杯中,酸溶液可以是硫酸,硝酸,加热1.0小时后,用自来水把陶瓷冲洗干净,再把陶瓷放入装有蒸馏水的烧杯中,加热0.5小时后取出,烘干即可,这样既可以彻底清除陶瓷表面的氧化物膜渣,也不会损坏陶瓷表面。
【具体实施方式】
实施例一:把表面附有氧化物的陶瓷放入装有浓度为18.4mol/L的浓硫酸酸溶液的1000ml烧杯中,加热1.0小时后,用自来水把陶瓷冲洗2-3遍,再把陶瓷放入装有1000ml的蒸馏水的烧杯中,加热0.5小时后取出,烘干即可,将陶瓷重新装配到RF离子源后,离子源可以正常起弧。

Claims (2)

1.一种陶瓷表面上的氧化物膜渣清除方法,其特征在于:将把表面附有氧化物的陶瓷放入装有酸溶液的烧杯中,加热1.0小时后用自来水把陶瓷冲洗干净;再把陶瓷放入装有蒸馏水的烧杯中,加热0.5小时后取出烘干。
2.如权利要求1所述种陶瓷表面上的氧化物膜渣清除方法,其特征在于所使用的酸溶液可以是硫酸,硝酸。
CN2010105550584A 2010-11-22 2010-11-22 一种陶瓷表面上的氧化物膜渣清除方法 Withdrawn CN102093089A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2010105550584A CN102093089A (zh) 2010-11-22 2010-11-22 一种陶瓷表面上的氧化物膜渣清除方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2010105550584A CN102093089A (zh) 2010-11-22 2010-11-22 一种陶瓷表面上的氧化物膜渣清除方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN102093089A true CN102093089A (zh) 2011-06-15

Family

ID=44126380

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2010105550584A Withdrawn CN102093089A (zh) 2010-11-22 2010-11-22 一种陶瓷表面上的氧化物膜渣清除方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102093089A (zh)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1251333A (zh) * 1998-10-21 2000-04-26 三井金属鉱业株式会社 新颖复合箔,其制造方法和敷铜层压板

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1251333A (zh) * 1998-10-21 2000-04-26 三井金属鉱业株式会社 新颖复合箔,其制造方法和敷铜层压板

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104556046B (zh) 一种以石英砂制备高纯度二氧化硅的生产工艺
CN104556047A (zh) 一种以石英岩制备高纯度石英粉体的生产工艺
CN105481259A (zh) 提升熔石英光学元件损伤阈值的后处理方法
WO2010002631A3 (en) Processes for reconditioning multi-component electrodes
WO2010068753A3 (en) Immersive oxidation and etching process for cleaning silicon electrodes
CN103111434A (zh) 一种蓝宝石加工最终清洗工艺
CN103539123A (zh) 亚微米级碳化硅微粉的酸洗提纯方法
TW200620446A (en) Removing liquid and removing method of copper deteriorated layer containing copper oxide
CN101359581A (zh) 碳化硅舟的清洗方法
CN103624028B (zh) 一种基于中性溶液的铁氧体基片的清洗工艺方法
CN102392262A (zh) 除锈剂
CN102296001A (zh) 一种平板显示用清洗液及其制备方法
CN103521474B (zh) 一种以抛代洗的蓝宝石衬底材料表面洁净方法
CN103878145B (zh) 一种对硅酸镓镧晶片进行清洗的方法
CN103014875B (zh) 一种人造蓝宝石薄片的处理方法
CN102093089A (zh) 一种陶瓷表面上的氧化物膜渣清除方法
CN103042009B (zh) 一种多晶硅料生产还原炉用电极保护罩的清洗方法
CN110610852A (zh) 一种金属表面残胶的去除方法
CN105448772B (zh) 腔室维护后的恢复方法
CN107794538A (zh) 一种钢材表面除锈工艺
CN106877833B (zh) 一种石英晶体谐振器的加工方法
CN102706104B (zh) 铜制品的表面处理方法
CN110241429B (zh) 一种金属清洗液及其清洗方法
CN106783528B (zh) 蓝宝石衬底回收再使用的方法
CN102142823A (zh) 一种石英音叉的加工方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C04 Withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WW01 Invention patent application withdrawn after publication

Application publication date: 20110615