CN102076423B - 洒水机 - Google Patents

Abstract

一种旋转洒水机包含外壳、与第一磁铁组件相关联的可旋转灌溉头；与外壳相关联且装配有旋转抑制机构的第二磁铁组件；其中所述第一磁铁组件和所述第二磁铁组件被布置为相同极彼此面对，从而在它们之间产生排斥力。

Description

洒水机

技术领域

本发明涉及旋转洒水机。更具体地，本发明涉及装有用于控制灌溉头的选择速度的抑制机构。

背景技术

在旋转洒水机中有可旋转以覆盖期望的土地图案的灌溉头/分配转子。旋转运动是由灌溉介质(通常是水)的力结合将蒸汽能转化为旋转运动的旋转机构引起的。这种旋转机构可以是水齿轮、球马达等。

但是，有时希望放慢旋转运动从而产生缓慢而平稳的旋转运动，得到灌溉介质的均匀降落。在本领域中已知道用于该目的的不同机构。例如存在已知机构，其中具有产生与期望的旋转力相反的反作用力的反向装置。已知其它装置通过利用粘性材料的剪切效应来抑制灌溉头的旋转运动。减慢洒水机的旋转速度导致增加的灌溉范围和均匀的降水，还减小运动部件的磨损。

属于Olson的美国专利第7,111,196号公开了另一装置，其涉及洒水机，该洒水机包含：具有在入口和出口之间形成的液体路径的喷嘴，该喷嘴被液体路径中的受压液体流可旋转地驱动；以及将磁阻连接组件与液体路径分离开的外壳，磁阻连接组件施加与使喷嘴旋转的液体流力相反的磁阻力；进一步包括在喷嘴组件内的压力平衡机构，以大体压制可能被液体流施加至喷嘴的任何轴向力，其中连接组件包括被定位以互相施加吸引力的驱动磁铁和反作用力磁铁，作用于所诉反作用力磁铁以提供与喷嘴的旋转相反的限制力的阻力源。

美国专利第7,287,710号公开了包括洒水机头的章动型洒水机，该洒水机头包含喷嘴；固定至洒水机头且靠近喷嘴的卷轴(spool)；松弛地安装在卷轴上的外壳组件，该组件在喷嘴下游包括在组件的第一端部处的分配板且在卷轴的上游包括在组件的第二相对端处的第一磁铁；在第一和第二端部之间固定至该组件的安装元件，安装元件的内边缘被松弛地限定在卷轴的上凸缘和下凸缘之间；以及在轴向上在卷轴和第一磁铁之间固定至洒水机头的第二磁铁。

发明内容

根据本发明，提供了一种旋转洒水机头，其中灌溉头的旋转抑制是通过磁铁排斥力和相关抑制机构获得的。

本发明提倡一种旋转洒水机，其包括外壳、与第一磁铁组件相关联的可旋转灌溉头；与外壳相关联且装配有旋转抑制机构的第二磁铁组件；其中所述第一磁铁组件和所述第二磁铁组件被布置为相同极彼此面对，从而在它们之间产生排斥力。

根据本发明的第一方面，提供一种旋转洒水机，其包含形成有液体进入口的外壳，支撑相对于洒水机的旋转轴线径向偏置的一对第一磁铁的桥架，所述第一磁铁轴向对齐且被间隔开，其相反极彼此面对；被所述桥架支撑且与射流形成喷嘴流动连通的可旋转灌溉头，所述射流形成喷嘴与进入口流动连通；所述灌溉头铰接有第二磁铁且与旋转抑制机构相关联，其中所述第二磁铁与第一磁铁径向相同且夹在它们之间，且被布置为相同极面向第一磁铁，从而在它们之间产生排斥力。

根据本发明的第二方面，提供一种旋转洒水机，其包含形成有液体进入口的外壳、包含磁铁支撑件的可旋转灌溉头，该磁铁支撑件固定地装配有相对于灌溉头的旋转轴线径向偏置的至少一个第一磁铁；所述灌溉头与关联于进入口的射流形成喷嘴流动连通；旋转地支撑所述灌溉头且包含径向偏置且与旋转抑制机构相关联的至少一个第二磁铁；其中所述至少一个第一磁铁和至少一个第二磁铁被布置为相同极彼此面对，从而在它们之间产生排斥力。

下面设计特征中的任何一个或多于一个都可以被包含在根据本发明的洒水机内：

·第二磁铁组件可移置地位于填充有粘性物质的密封腔内。

·第二磁铁被接纳在在密封腔内可移置地壳体内，所述壳体保持第二磁铁在固定取向且只便于其旋转移置。

·第二磁铁在磁力平衡处于第一磁铁对之间对称延伸。

·第一磁铁组件的磁铁被固定地铰接至灌溉头。

·该对第一磁铁和第二磁铁相对于彼此轴向固定地定位。

·第二磁铁在磁力平衡处于第一磁铁对之间对称延伸。

·洒水机被装配用于或者头朝上取向或者底朝上取向。

下面设计特征中的任何一个或多于一个都可以被包含在根据本发明的第二方面的洒水机内，但是一些可以被应用到根据本发明的第二方面的洒水机：

·排斥力与洒水机的旋转轴线同轴且起作用以沿着与液体射流施加于灌溉头上的轴向力相反地方向偏置灌溉头。

·第一磁铁的数目对应于所述第二磁铁的数目。

·至少一个第一磁铁和所述至少一个第二磁铁可以具有大体相同的磁力。

·至少一个第一磁铁和至少一个第二磁铁大体相等地径向偏置。

·至少一个第一磁铁和至少一个第二磁铁对称分布，即在各自的直径上延伸。

·洒水机是弹出型且灌溉头装配有支撑支柱(supportboss)，所述支撑支柱被桥架保持且具有轴向自由度，以使得灌溉头在向下、非操作位置与向上、操作位置之间可轴向移置。

·当灌溉头在其向下、非操作位置处时期隐藏射流形成喷嘴。

·灌溉头和射流形成喷嘴中的至少一个装配有周边裙部，以用于当灌溉头处于向下、非操作位置时，隐藏射流形成喷嘴的出口和灌溉头的射流喷射部分的出口。

·灌溉头装配有裙部且射流形成喷嘴装配有固定的裙部，所述裙部同轴且具有不同尺寸，由此在非操作位置处所述裙部至少部分重叠。

·至少一个第二磁铁被接纳在于密封腔内可移置的壳体内，所述壳体以固定关系保持至少一个第二磁铁且只便于其旋转移置。

·至少一个第一磁铁固定地铰接至灌溉头。

·至少一个第一磁铁固定在磁铁支撑元件上，所述磁铁支撑元件以可旋转地方式固定至所述桥架，且进而可接合以便随着灌溉头旋转。

·磁铁支撑元件根据灌溉头从向下、非操作位置轴向移置至向上、操作位置而与灌溉头接合。

·磁铁支撑元件与灌溉头之间的旋转接合是通过在磁铁支撑元件与灌溉头中的一个中形成的螺旋状路径和在磁铁支撑元件与灌溉头中的另一个中形成的对应螺旋连接件而实现/促进的，由此使灌溉头轴向上升使得磁铁支撑元件随后旋转。

·旋转抑制机构包含用于改变至少一个第二磁铁支持件与被接纳在密封腔内的粘性物质之间的剪切力的空间控制装置，因此控制旋转抑制力。

·空间控制机构包含轴向可移置的壳体元件，所述壳体元件的移置使密封腔的空间膨胀/收缩，所述壳体元件包含密封包装所述密封腔的隔膜。

·可移置壳体元件螺纹连接至密封腔的壳体，由此可移置壳体元件相对于密封腔的壳体的旋转使其轴向移置。

·至少一个第一磁铁和至少一个第二磁铁被接纳在各自的磁铁支持件中，所述各自的磁铁支持件可分别可拆卸地附连至灌溉头和桥架。

·第一磁铁组件和第二磁铁组件相对于彼此轴向定位。

·第一磁铁组件和第二磁铁组件相对于彼此径向定位。

·抑制机构的粘性物质之间的剪切力存在于容纳至少一个第二磁铁的第二磁铁支撑元件的一个或多于一个大体水平的剪切表面上。

·抑制机构的粘性物质之间的剪切力存在于容纳至少一个第二磁铁的第二磁铁支撑元件的一个或多于一个大体垂直的剪切表面上。

·洒水机被装配用于或者头朝上取向或者底朝上取向。

·抑制机构形成有顶部环形凹槽和底部环形凹槽，且第二磁铁支撑件具有横向延伸的T形横截面，其各部分可分别在顶部环形凹槽和底部环形凹槽内可旋转地移置。

·在密封腔内提供流动路径以便于粘性物质流动，其中洒水机无论是头朝上的取向还是底朝上的取向，粘性物质只占据底部环形凹槽。

附图说明

为了理解本发明和看清楚在实践中可如何实施，现在将描述实施例，现在将参考附图只通过以非限制性示例方式描述实施例，在附图中：

图1至图4涉及根据本发明的第一方面的洒水机，其中：

图1A是根据本发明的洒水机的俯视等轴测示图；

图1B是在图1A中所见的洒水机的仰视等轴测示图；

图2是在图1A中所见的洒水机的纵向剖视俯视等轴测示图；

图3是根据本发明的洒水机的纵向剖视平面图；

图4A是示出磁铁设置的示意俯视等轴测示图，且力施加于它们之间；以及

图4B是图4A的俯视图；

图5至39涉及根据本发明的第一方面的洒水机，其中：

图5是根据本发明的实施例的洒水机的侧视图；

图6是在图5中所见的洒水机的俯视等轴测示图；

图7A是在图5中所见的洒水机的仰视等轴测示图；

图7B是在图5中所见的洒水机的纵向剖视仰视等轴测示图；

图8A是示出磁铁设置的示意侧视图，且力施加于它们之间；

图8B是示出磁铁设置的示意附视图，且力施加于它们之间；

图8C是示出磁铁设置的示意仰视等轴测示图，且力施加于它们之间；

图9是根据本发明的另一实施例的洒水机的侧视图；

图10是图9中所见的洒水机的仰视等轴测示图；

图11A是图9中所见的洒水机的纵向剖视仰视等轴测示图；

图11B是图9中所见的洒水机的抑制机构的等轴测剖视图；

图12是根据本发明的另一实施例的洒水机在非操作位置的侧视图；

图13是图8的洒水机仰视等轴测示图；

图14是图12的洒水机的纵向剖视仰视等轴测示图；

图15是图12的纵向剖视等轴测示图；

图16是沿着垂直于图14中所示的平面的平面而纵向剖开的仰视等轴测示图；

图17是图8的洒水机在其操作、上升位置处的纵向剖视图；

图18是根据对图12的实施例的洒水机的修改的洒水机在其非操作、关闭位置的侧视图；

图19在图18中所见的洒水机的仰视等轴测示图；

图20是图18的洒水机的纵向剖视图；

图21是图18的洒水机在其操作、打开位置的俯视等轴测示图；

图22是在图21的位置处的洒水机的纵向剖开的仰视等轴测示图；

图23是图17的洒水机的纵向剖视仰视等轴测示图，其是沿着垂直于图22中所示的平面的平面而剖开的；

图24是在图21的位置处的洒水机的纵向剖视图；

图25是图18的洒水机在其操作、上升位置的纵向剖视图；

图26是根据对本发明的修改示出可调整抑制机构的纵向剖视图；

图27A是根据附图的又一实施例的洒水机，其处于关闭、非操作位置；

图27B是根据对本发明的修改的洒水机在弹起位置的主视图；

图28是在图27中所见的洒水机的俯视等轴测示图；

图29是图27的剖视图；

图30是图27的洒水机的剖视、仰视等轴测示图；

图31是根据本发明的又一实施例的洒水机的主视图；

图32是图27中所示的洒水机的仰视等轴测示图；

图33A是图28的纵向剖视图

图33B是图32中的标记为V的部分的放大图；

图34是图27的洒水机的俯视等轴测示图；

图35是沿着垂直于图29中所示平面的平面所作的仰视等轴测示图；

图36A根据图27的实施例的洒水机中所用的第二磁铁支撑件的俯视透视图；

图36B和36C是分别沿着图32A中的线B-B和C-C所作的剖视图；

图37是图23的洒水机在上面灌溉位置处的剖视图；

图38A是图27的洒水机的外壳的俯视等轴测示图；

图38B是图34A的洒水机外壳的俯视图；

图38C是图34A的外壳的剖视等轴测示图；

图39是只示出根据本发明的又一实施例的旋转洒水机的顶部的剖视图。

具体实施方式

首先注意附图的图1至图4，其示出根据本发明的第一方面的洒水机。

如附图中的图1和图2所示，其示出根据本发明的总体被标记为10的旋转洒水机。该洒水机包含外壳12，外壳12进而形成有用于连接至受压水源(例如灌溉供应管路)(未示出)的进入口14，该连接例如是通过螺纹连接至外螺纹16实现的。

射流形成喷嘴18从进入口14延伸出，射流形成喷嘴18具有与进入口14流动连通的进口侧20和面向总体标记为30的旋转灌溉头的射流出口22。

与外壳12一体形成有在两个支撑臂34之上延伸的桥架元件32，两个支撑臂34被设置成V形结构。支撑臂34具有刀片形横截面，从而使得与从旋转洒水机头从喷射出的射流具有最小的交界面。

灌溉头30是形成有反作用力产生偏斜凹槽40的旋转型(swivel-type)灌溉器，反作用力产生偏斜凹槽40具有在射流形成喷嘴18的出口22上方大体竖直延伸的进口端42，以及大体径向延伸的出口开口46，且具有反作用力产生表面48(在图2和图3中最好地可见)，被设计用于根据从射流形成喷嘴22中喷射出的水射流施加于其上的冲击而使旋转头30旋转运动。

如在图2和图3中所见，灌溉头30装配有向上延伸的凸起50，该凸起50贴切地装配在总体标记为80的第二磁铁支撑腔的向下突出的接纳凸起51中(图3)。第二磁铁支撑腔80被可旋转地容纳于在两个支撑臂之间延伸且被标记为84的封闭件内。封闭件84装配有顶盖90和底盖92，所述盖固定地固定至彼此，通过伸向互相的销子94和96分别伸入装配于盖90和92内的相反定位孔98和100内来防止相对旋转。

盖92和94中的每一个分别固定地支撑第一磁铁M1^T和M1^B，所述第一磁铁M1^T和M1^B围绕平行于被标记为A的中心轴线(灌溉头30的旋转轴线)的轴线A^M同轴设置，且从轴线A径向偏移距离R。第一磁铁M1^T和M1^B固定地设置在各自的顶盖和底盖中，且被定位为它们的相反极彼此面对，例如，如图2、3和4A所示。此外，第一磁铁M1^T和M1^B大小大体相同且从封闭件84大体等距地间隔开。

第二磁铁支撑腔80由一起限定密封空间114的顶罩110和底罩112组成。第二磁铁承载板120被可围绕柄轴91自由旋转地接纳在腔114中。第二磁铁承载板120容纳被标记为M2的第二磁铁，它们一起形成总体标记为78放入旋转抑制机构，下文将进一步详细解释。

顶罩110装配有轴向向上突出的柄轴126，柄轴126形成有平滑的圆形末端128，其由在顶盖90的支撑插孔134处相应形成的平滑轴承面130可旋转地支承。同样，底罩112一体形成有向下突出的接纳凸起51，该接纳凸起51被接纳在形成于底盖92内的开口52内，从而为旋转凸起51提供轴衬支撑。该布置使得第二磁铁支撑腔80被保持在封闭件84内，且围绕中心轴线A旋转但被轴向支撑。

第二磁铁承载板120容纳第二磁铁M2，设置第二磁铁M2以使得它们的极分别面对第一磁铁M1^T和M1^B的对应极，使它们之间出现排斥磁力F(图4A和4B)。附图中所公开的布置使得第二磁铁M2与第一磁铁M1^T和M1^B一样从轴线A偏移同样的距离R(图3)。

但是，应当指出，磁铁M1^T和M1^B与M2不必须具有相同的大小，磁铁M1^T和M1^B与第二磁铁M2也不必须被布置在相等的半径上。

旋转抑制机构78的空间114(图2和图3)被填充以粘性物质86例如硅胶，借此防止第二磁铁承载板120在密封腔80内自由旋转，在没有粘性物质86的情况下，第二磁铁承载板120将会在密封腔80内自由旋转。因此，应当明白在第二磁铁支撑元件82和粘性物质86之间(且分别在被涂抹的粘性物质86与密封腔80的内壁之间)延伸的剪切力，使得第二磁铁承载板120相对于外壳12的旋转被减慢。应当明白，存在于抑制机构内且起作用以减慢第二磁铁支撑元件的剪切力存在于粘性物质与沿相反方向运动的任意两个表面之间。

如在图8A中能最好地看见的，在第一磁铁M1^T和M1^B与第二磁铁M2之间起作用的排斥力F具有分力，即力矢量F1和力矢量F2，力矢量F1轴向延伸(平行于轴线A)且起作用以轴向排斥第二磁铁支撑腔80并且将其对称地保持在第一磁铁M1^T和M1^B之间，而力矢量F2产生与由来自射流形成喷嘴18的出口22的液体射流喷浸施加于灌溉头30的力反向的旋转力，由此抑制所述旋转运动。

还应当明白，可通过使第二磁铁承载板120横向和/或径向伸出，由此增加其表面积来控制密封腔80内的第二磁铁承载板120的旋转速度。

在操作中，灌溉液体通过进入口14进入且通过射流孔22排出，强有力的射流撞击灌溉头30的表面48，导致产生旋转反作用力，使得灌溉头30围绕旋转轴线A旋转。随着灌溉头30的旋转开始于密封腔80内的相关第二磁铁承载板120和铰接的第二磁铁M2，磁铁排斥力F(图8A)导致在第一磁铁M1^T和M1^B与第二磁铁M2之间产生反作用旋转力。但是，由于密封腔80内存在粘性物质86，第二磁铁承载板120的旋转被抑制，其进而使得相关灌溉头30的旋转运动被减慢。

应当明白，图6和图7中所示的位置是临时中间操作位置，这在洒水机不工作时是不会出现的，即第二磁铁M2将通常不会与第一磁铁M1^T和M1^B对齐而轴向延伸。而是，第二磁铁M2与第一磁铁M1^T和M1^B的轴向位置成角度地间隔开，但是在这对第一磁铁之间轴向延伸以保持磁力平衡。

在第二磁铁承载板120内形成一个或多于一个通孔123，由此洒水机无论在竖直(up-right)位置还是颠倒/倒置位置，粘性物质86都可在第二磁铁支撑板120的表面之间自由流动。

图5至39现在示出本发明的第二方面。

首先注意附图的图5至7，示出根据本发明的第一实施例总体标记为210的旋转洒水机。该洒水机包含外壳212，外壳212进而形成有用于连接至受压水源(例如灌溉供应管路)(未示出)的进入口214，该连接例如是通过螺纹连接至外螺纹216实现的。

射流形成喷嘴218从进入口214延伸出，射流形成喷嘴218具有与进入口214流动连通的进口侧220和面向总体标记为230的旋转灌溉头的射流出口222。

与外壳212一体形成有在两个支撑臂234之上延伸的桥架元件232，两个支撑臂234被设置成V形结构。支撑臂234具有刀片形横截面，从而使得与从旋转洒水机头从喷射出的射流具有最小的交界面。

灌溉头230是形成有反作用力产生偏斜凹槽240的旋转型灌溉器，反作用力产生偏斜凹槽240具有在射流形成喷嘴218的出口222上方大体竖直延伸的进口端242，以及大体径向延伸的出口开口246，且具有反作用力产生表面248(在图6、7A和7B中可最好地看见)，反作用力产生表面248被设计用于根据从射流形成喷嘴22中喷射出的水射流施加于其上的冲击而使旋转头30旋转运动。

如在图7B中所见，灌溉头230装配有向上延伸的凸起250，该凸起250延伸进入形成于桥架232内的孔252，且通过保持环354被轴向保持在适当位置，但是围绕纵轴线(旋转轴线A)可自由旋转。注意到保持环254停靠在从桥架元件232伸出的轴向突起256上。该保持装置在262处由卡扣至桥架元件232的帽258遮盖，或可螺纹连接或粘结至桥架元件232。

在图7B中还可注意到，灌溉头230形成有作为外壳的轴衬相反表面268的加宽部分264，以防止灌溉头230的摆动。

灌溉头230形成有磁铁外壳270，该磁铁外壳270包含被标记为M1的两个圆盘状磁铁。磁铁M1被固定地定位在磁铁外壳270内切被布置为使得其相同极在同一方向。在本示例中，两个磁铁M1的北极朝下，如图8A中所示(应当明白，图8A中所示的磁铁外壳270与第二磁铁支撑元件282的相对位置只是为了清楚起见而示出的理论情形，在实践中，在没有流动的情况下，存在力平衡，且第一磁铁M1和第二磁铁M2相对于彼此旋转90°，如从图8B和图8C中可最好地看到的)。该陈述也适用于图11B、14、16、17、和20中所描绘的位置，这些图只是为了解释和清楚地原因而描绘。此外，两个磁铁M1和从旋转轴线A相等地径向偏移，且所述磁铁M1大小大致相同。

但是，应当表明，磁铁M1和M2不必须大小相同，且第一磁铁M1的设置与第二磁铁M2的设置不必须被布置在相等的半径上。但是，期望第一磁铁M1的设置与第二磁铁M2的设置中的每一个的磁铁大小大体相等且被布置在距中心(旋转轴线A)大体相等的半径上，由此消除或至少大体减小否则可能会存在于系统内的任何弯矩和其他寄生力。

总体标记为178的旋转抑制机构形成在外壳232内。密封腔280可旋转地容纳第二磁铁支撑元件282，第二磁铁支撑元件282进而装配有固定至其的一对第二磁铁M2，其中第二磁铁M2被布置为使得它们的相同极面向第一磁铁M1的相同极，如在图8A中可以看见的，因而产生作用于它们之间的排斥力。第二磁铁M1还被布置为围绕旋转轴线A对称且具有大体相同的大小。

如在图8C中可最好地看到的，作用于第一磁铁M1和第二磁铁M2之间的排斥力F之间具有分力，即力矢量F1和力矢量F2，力矢量F1轴向延伸(平行于轴线A)且起作用以消除或大体减小系统部件之间的摩擦(即，凸起250的顶端与帽258之间的摩擦，所述力被转移至密封腔内的润滑区域)，而力矢量F2在磁铁部署之间产生与洒水机的旋转轴线A同轴的旋转运动，且起作用以沿着与施加于灌溉头230上的轴向力相反的方向偏置灌溉头230，施加于灌溉头230上的轴向力是由来自射流形成喷嘴218的出口222的液体射流喷施加的。

在图7B中仍可注意到，密封腔280形成有环形摩擦表面263且第二磁铁支撑元件282形成有相应的环形突起265，环形突起265形成有支承环形摩擦表面263的顶表面267，所述表面263和267大体平滑，以借此减小它们之间的摩擦。但是，应当明白密封腔280填充有作为润滑剂的粘性物质，例如硅酮油或硅酮凝胶。

密封腔280被填充以粘性物质286，例如硅胶，借此防止第二磁铁支撑元件282在密封腔80内自由旋转，在没有粘性物质286的情况下，第二磁铁支撑元件282将会在密封腔280内自由旋转。因此，应当明白在第二磁铁支撑元件282和粘性物质286之间延伸的剪切力，使得第二磁铁支撑元件282相对于外壳212的旋转被减慢。应当明白，存在于抑制机构内且起作用以减慢第二磁铁支撑元件的剪切力存在于粘性物质与沿相反方向运动的任意两个表面之间。

还应当明白，可通过使第二磁铁支撑元件282横向和/或径向伸出，由此增加其表面积来控制密封腔280内的第二磁铁支撑元件282的旋转速度。

在操作中，灌溉液体通过进入口214进入且通过射流孔222排出，强有力的射流撞击灌溉头230的表面248，导致产生旋转反作用力，使得灌溉头230围绕旋转轴线A旋转。随着灌溉头230开始旋转，磁铁排斥力F(图4A)将导致产生第二磁铁M2的反作用旋转力，使得密封腔280内的第二磁铁支撑元件282旋转。但是，由于密封腔280内存在粘性物质286，第二磁铁M2的旋转被抑制，其进而使得第一磁铁M1和相关灌溉头230的旋转运动得到相应地抑制。

注意在系统的稳定状态下存在于第一磁铁M1和第二磁铁M2之间的排斥力，即不工作时(没有液体射流时)，磁铁外壳270和第二磁铁支撑元件282趋向于到达平衡位置，如图8B中所示的位置。但是，如上所述，磁铁外壳270在水反作用力的影响下，趋向于使第二磁铁支撑元件282旋转，但是由于如上所述的抑制机构而显著较慢。

注意到在磁铁M1和M2的两个部署之间延伸的排斥磁力F向下推动旋转灌溉头230，且磁铁外壳270的上表面292与桥232的地表面294之间的被标记为290的空间保持不受损害，因而保证他们之间的固定间隙，由此任何污垢例如沙粒等不会妨碍灌溉头230的适当的旋转运动。如下面联系本发明的其它实施例(例如联系图12至17的弹出型实施例)将会描述的，打开位置(即灌溉头的升高位置)与其关闭位置之间的空间可以变化，但是空间在各自位置处保持不变。

布置第一磁铁M1和第二磁铁M2中的每一个，使得相同极互相面对(且使得它们距旋转轴线A同一距离，即在相同半径处)，导致第二磁铁支撑元件通过磁铁外壳270施加至其受力运动。但是，只提供一个第一磁铁M1和一个第二磁铁M2可导致不能产生期望的弯矩和摩擦力。另一方面，提供多于一对第一磁铁M1和各自的一对第二磁铁，可影响存在于磁铁外壳270和第二磁铁支撑元件282之间的旋转力矩(由力矢量F2施加)的大小，这有效地导致增加的排斥力F但是较小的旋转阻力。

现在转向图9至11B，其示出根据本发明的洒水机的实施例，其中联系前面结合图5至8描绘的实施例，相同元件被标记为相同的数字，但是转变成300。

总体标记为310的洒水机包含外壳312，外壳312进而形成有进入口314和用于螺纹连接至液体供应管路(未示出)的外部带螺纹部分316。射流形成喷嘴318从进入口314延伸出，且具有进口侧20(未示出)和与总体标记为330的旋转灌溉头反向轴向延伸的射流出口322。桥架元件332与外壳312一体形成，且在大体呈V形构造的两个支撑臂334之上延伸。灌溉头330与联系前面图5至图8的实施例所公开的灌溉头大体类似，且包含相同元件，即具有与射流出口322对齐的轴向延伸的进口342的反作用力产生偏斜凹槽340，以及大体径向延伸的出口346(图10)，且具有反作用力产生表面248(在图6、7A和7B中可最好地看见)，反作用力产生表面348(未示出)被设计用于根据与其相对的水射流的冲击而使旋转头330旋转运动。

灌溉头330装配有延伸通过形成于桥架元件332内的孔352的长凸起350，且通过保持环354被轴向保持在适当位置，但是允许灌溉头330围绕纵轴线A(旋转轴线)大体自由的旋转。与前面的实施例相同，注意到保持环354停靠在从凸起381伸出的轴向突起356上，凸起381从密封腔380伸出。该保持装置在362处被卡扣至桥架元件332的帽358覆盖。

不同于前面的实施例，旋转抑制机构178不与桥架元件132一体形成而是铰接至其。抑制机构178包含可旋转地容纳第二磁铁支撑元件182的密封腔180，第二磁铁支撑元件182进而固定(arrest)一对第二磁铁M2。

与前面的实施例相同，第二磁铁M2被布置为使得它们的相同极面向第一磁铁M1的相同极，且进一步地，第一磁铁M1和第二磁铁M2大体一致地分布且大小大体相等(如11A和11B)。但是，如上文所述，磁铁M1和M2不必须大小相同，第一磁铁M1的设置和第二磁铁M2的设置也不必须布置在相等的半径上。但是，期望第一磁铁M1的设置与第二磁铁M2的设置中的每一个的磁铁大小大体相等且被布置在距中心(旋转轴线A)大体相等的半径上，由此消除或至少大体减小否则可能会存在于系统内的任何弯矩和其他寄生力。

粘性物质386填充密封腔380从而由于它们之间的剪切力而施加制动力到第二磁铁支撑元件382上。

密封腔380通过凸起部分381旋转地轴向固定至桥架元件332，凸起部分381被同轴地接纳在灌溉头330的凸起350内，且被固定地装配到在桥架元件332内形成的孔383内。

操作根据第二实施例的洒水机310的原则与联系前面的实施例所解释的类似。

参考附图中图12至17进一步公开了本发明的另一实施例，其中联系上文第一实施例，相同元件被标记为相同的参考数字，但是变化了400。

根据该实施例总体标记为400的洒水机包含形成有进入口414的外壳412，进入口414可通过带螺纹的接头416(明显其他接头也是可能的，例如卡扣装配、按压装配等)连接至液体灌溉源(未示出)。射流形成喷嘴418(图14)固定在从进入口414伸出的外壳内，且具有用于液体进入的进入口420和射流出口422，液体射流通过射流出口422被向上导向总体标记为430的旋转灌溉头。桥架元件432与外壳412一体形成且在两个支撑臂434之上延伸。

旋转灌溉头430包含反作用力产生偏斜凹槽440，反作用力产生偏斜凹槽440具有与射流出口422相对的轴向延伸的进口442，旋转灌溉头430还包含大体径向延伸的出口446(图12和17)，且具有反作用力产生表面448(图16)，反作用力产生表面448被设计用于根据与其相对的水射流的冲击而使旋转头430旋转运动且具有向上的轴向位移。

但是，不同于前面的实施例，根据本实施例的洒水机400是弹出型，即包含用于隐藏旋转灌溉头430的装置和射流形成喷嘴418。为了该目的，旋转灌溉头形成有被伸缩地接纳在向上延伸的裙部425内的向下延伸的裙部423，向上延伸的裙部425在427处卡扣装配至外壳412的基部。与被标记为455的螺旋状路径(即带螺纹的外形)一体形成的中空突起453从旋转灌溉头430向上延伸。凸起453可轴向布置在从磁铁支撑件470伸出的向下延伸的衬套457内，磁铁支撑件470固定地装配有一对第一磁铁M1，且向下延伸的衬套457内进一步包含支承螺旋路径455的螺旋导向件(rider)459(图14至16)。如前面的实施例中，被支撑在桥架元件432内的凸起450从磁铁支撑件470向上延伸，即通过保持环454支承从桥架432伸出的径向突出肩456，借此磁铁支撑件470相对于桥架元件432(且分别相对于外壳412)可自由旋转但是被轴向保持。

总体标记为478的旋转抑制机构包含可旋转地容纳第二磁铁支撑元件482的密封腔480，第二磁铁支撑元件482如前所述容纳被固定至其的一对第二磁铁M2。密封腔480填充有粘性物质486(图16)，借此防止第二磁铁支撑元件482(图14)在密封腔480内自由旋转，在没有粘性物质486的情况下，第二磁铁支撑元件482将会在密封腔480内自由旋转。

根据洒水机400的布置是在第一情况下喷射通过射流出口422的液体射流使得灌溉头430上升(至少到达出口446延伸至外裙部425之上的位置)，同时使其由于液体冲击倾斜表面448(图17)而产生的反作用力而旋转。由于引导件459支承螺旋路径455，灌溉头430的上升需要磁铁支撑件470的旋转布置，借此旋转连接发生在灌溉头430和磁铁支撑件470之间。应当明白，旋转灌溉头的上升应到达足以使射流出口446暴露超过裙部425的上边缘449，从而不干涉从其喷射出的水射流。

抑制机构以与上文联系前面实施例所公开的相同的方式工作。

通过使水射流停止通过出口422，旋转灌溉头430在重力作用下下降至如图12至17所示的较低位置，因而隐藏灌溉出口446和射流出口422，因而防止污垢和昆虫进入，否则这些可能阻塞出口并妨碍洒水机的适当操作。

与前面的实施例相同，注意到与上文公开的前面的实施例相同，作用于第一磁铁M1和第二磁铁M2之间的排斥力与洒水机的旋转轴线A同轴，与喷射的液体射流为了升起灌溉头至其操作位置而施加的力相反。但是，由于洒水机部件的几何关系，磁铁支撑件470的顶表面492和密封腔480的底表面之间的空隙490仍然固定。

现在转向图18至25，示出本发明的又一实施例，其中联系上文第一实施例，相同元件被标记为相同的参考数字，但是变化了400。

总体标记为500的洒水机包含形成有液体进入口514的外壳512，液体进入口514可例如通过带螺纹的接头516连接至液体灌溉源(未示出)。射流形成喷嘴518(图20)固定在从进入口514伸出的外壳内，且具有用于液体进入的进入口520和射流出口522，液体射流通过射流出口522被向上导向总体标记为530的旋转灌溉头。桥架元件532与外壳512一体形成且在两个支撑臂534之上延伸。

旋转灌溉头530包含反作用力产生偏斜凹槽540，反作用力产生偏斜凹槽540具有在射流出口522之上轴向延伸的进口542，以及大体径向延伸的出口546(图20和25)，且具有反作用力产生表面548，反作用力产生表面548被设计用于根据与其相对的水射流的冲击而使旋转头530旋转运动且具有向上的轴向位移，如下文将讨论的。

同样联系前面的实施例，洒水机500是弹出型且包含由向下延伸的裙部523构成，裙部523从旋转灌溉头530延伸且被伸缩地接纳在装配至外壳512底部的向上延伸的裙部525内。

被支撑在桥架元件532的插孔552内的凸起550从旋转灌溉头530向上延伸，桥架元件532与外壳一体形成且被支撑在一对支撑臂534之上。凸起550沿着灌溉头530的旋转轴线A可轴向移动，且被套上衬套环557以消除径向公差。

旋转灌溉头530装配有一对第一磁铁M1，且桥架元件532装配有包含密封腔580的旋转抑制机构578，密封腔580容纳装配有一对第二磁铁M2的第二磁铁支撑元件582，所述密封腔装配有大体粘性的物质586。应当明白，第一磁铁M1和第二磁铁M2如上文所公开的一样被布置成大体相同的构造，以由此施加沿着旋转轴线A大体同轴地起作用且大体消除其他方向的力矩的排斥力。

在洒水机的正常位置，没有液体源的情况下，排斥力在磁铁M1和M2之间起作用，与重力一起趋向于向下移置旋转灌溉头530(图18至22)，其中射流出口522和出口546被隐藏，由此防止污垢和昆虫进入且可能地妨碍洒水机的平稳运转。但是，被供应通过进口514的液体导致被喷射通过出口射流522的射流产生反作用力，该反作用力将首先使所示出的灌溉头530克服重力且克服排斥磁力而上升，且将进一步使得旋转灌溉头绕旋转轴线A旋转(图22至25)。

现在转向图26，其只示出总体标记为600的旋转抑制机构，旋转灌溉头630铰接至其。旋转灌溉头例如是联系图5至7所公开的类型且装配有一对第一磁铁M1(由于该代表图被示出的角度，所以在该图中不可见)。旋转抑制机构600包含组成桥架的一部分的密封腔602，桥架被壁604支撑至洒水机外壳。密封腔602容纳一对第二磁铁M2，其与前面的实施例相同，被布置为使得它们的极面向第一磁铁M1的相同极。

磁铁M2被固定地接纳在第二磁铁支撑元件608内，后者嵌在填充密封腔602的粘性物质612内。

但是，不同于前面的实施例，密封腔602装配有由刚性致动件618支撑的挠性膜状顶密封元件616，但是密封盖密封腔602。致动件618被连接环620接合至桥架604，且被设计以将旋转运动转化至轴向运动，由此环620的旋转使致动件618和相关挠性密封616相应地轴向移置，有效地导致顶密封元件616的底表面626向上和向下移置，因而增加/减小第二磁铁支撑元件606的顶表面630与下表面626之间被标记为S的间隙，由此以增加/减小它们的旋转阻力的方式影响第二磁铁支撑元件608与粘性物质612之间的剪切力，这将有效地影响灌溉头的旋转速度。

现在转向图27至30，示出根据本发明的洒水机的又一实施例，其中联系上文第一实施例，相同元件被标记为相同的参考数字，但变化了700。

总体标记为700的洒水机包含形成有液体进入口714的外壳712，液体进入口714可例如通过带螺纹的颈部716连接至液体灌溉源(未示出)。射流形成喷嘴718(图29和30)固定在从进入口714伸出的外壳内，且具有用于液体进入的进入口720和射流出口722，射流通过射流出口722被向上导向总体标记为730的旋转灌溉头。桥架元件732与外壳712一体形成且在两个支撑臂734之上延伸，如上所述，支撑臂734具有刀片状横截面，以由此最小化对从旋转洒水机头730喷射出的射流的干扰。

旋转灌溉头730包含反作用力产生偏斜凹槽740，反作用力产生偏斜凹槽740具有在射流出口722之上轴向延伸的进口752，以及大体径向延伸的出口746(在图28中可最好地看见)，且具有反作用力产生表面748，反作用力产生表面748被设计用于根据与其相对的水射流的冲击而使旋转头730旋转运动且具有向上的轴向位移(图27B至30)，如下文将联系位置实施例所讨论的。图27至30的洒水机500是弹出型洒水机且包含用于隐藏旋转灌溉头的隐藏装置，由此防止污垢和昆虫进入出口喷嘴和射流出口。隐藏装置由向下延伸的裙部723组成，裙部723从灌溉头730延伸且被伸缩地接纳在装配至外壳712的底部或与其一体形成的向上延伸的裙部725内。被支撑在插孔752内的一体凸起750从旋转灌溉头730向上延伸。凸起750沿着灌溉头730的旋转轴线A轴向可移置，且被套上构成密封板753的一部分的衬套环751，密封板753在密封腔780的底部处密封地固定至密封腔780。

该布置为旋转灌溉头730被可旋转地固定且在图27的关闭、非操作位置与打开、操作位置之间可移置，在打开、操作位置中旋转灌溉头730向上轴向移置(图27B至30)，借此出口喷嘴746暴露在裙部725的上缘747之上。

注意到旋转灌溉头730形成有环形缘733，由于重力和第一磁铁M1与第二磁铁M2之间的排斥力，该环形缘733在关闭位置(图27A)以密封方式停靠在上边缘747上。

旋转灌溉头730装配有一对第一磁铁M1且类似于前面实施例的公开，总体标记为778的旋转抑制机构包含可旋转地容纳第二磁铁支撑元件782的密封腔780，第二磁铁支撑元件782容纳一对固定至其的一对第二磁铁M2，如联系前面的实施例所公开的。应当明白第一磁铁M1和第二磁铁M2被轴向布置为其相同极彼此面对。密封腔780填充有粘性物质，借此防止第二磁铁支撑元件782在密封腔780内自由旋转。

在第一情况下通过射流出口722喷射出的液体射流使得灌溉头730上升至图28中所示的位置，其中出口喷嘴746延伸至裙部725的顶缘上方，同时由于液体冲击倾斜表面748所产生的反作用力，使得灌溉头730旋转。灌溉头730上升至最大轴向位移处(图27B-30)，在磁铁支撑件270的顶表面792与密封腔780的底表面794之间留下间隙，因此微粒聚集在该空间并妨碍洒水机的适当操作。

图31至38C涉及对根据本发明的洒水机的修改，为了清除起见，其是联系在图5至7B中描绘的第一实施例所公开的类型，但是各不同之处将在下文讨论。为了清除起见，本实例以与第一实施例相同的元件而被标记，其中相同元件被标记为变化了800的相同的参考数字。

洒水机800与联系第一实施例所公开的洒水机原则上类似，但是包含与旋转灌溉头830相关，尤其与总体标记为878的抑制机构相关的几个不同之处，且在剖开的图31至33中可最好地看见。

注意到第一个不同之处是通过对其压缩而减小洒水机800的总体尺寸，其中旋转灌溉头830在其顶端装配有削边833，其中构成抑制机构878的桥架部分在其底端形成有凹入处(indention)835，其中旋转灌溉头830被部分地接纳在其中，但是在它们之间保持间隙890。

另一不同之处存在于抑制机构878使得洒水机适于在竖直位置操作(图31至35)，或适于在倒转位置操作，即头向下(颠倒)，如图37所示，如下文更详细地讨论的。

除了这些不同之处，洒水机800类似于联系图5至8所公开的原则而被构造和操作。

在图33至35中还可看到，抑制机构878形成有密封腔880，密封腔880装配有在图36A至36C中可见的圆盘状第二磁铁支撑元件882。密封腔880填充有粘性物质886，填充至其占据在密封腔880内形成的周边环形凹槽889的程度。如下文将讨论的，为了使下文变得清楚，对应的凹槽891形成在密封腔880的顶盖893处。

现在转向图36A至36C，第二磁铁支撑元件882形成有两个插孔895，其布置是这样的，即两个第二磁铁M2(在图36A-36C中不可见)被按压装配且固定地密封在孔895内，其布置是这样，即磁铁M2的面基本与第二磁铁支撑元件882的各顶表面897和底表面899齐平。还注意到第二磁铁支撑元件882形成有标记为851的类似于T形的周缘，其具有向上延伸的缘853和向下延伸的缘部分853以及向下延伸的缘部分855，其中向上延伸的缘部分853被接纳在环形凹槽891内的装配位置处，同样，向下的缘855被接纳在密封腔880的较低环形凹槽889内。

上面公开的布置将剪切面从(第二磁铁支撑元件882的顶表面和底表面的)大体水平的平面转变成大体轴向的平面，即分别相对于底凹槽889和顶凹槽891的相应侧壁865和857，869和871的T形环形缘的内壁表面857和859以及外壁表面861。同样，粘性液体在环形路径内而不是在平面上延伸。

根据该实施例，被接纳在环形凹槽889内的粘性物质在标记为L的平面处的凹槽内延伸。

可从图37中明显看看出上述结构的优点，其中在倒转位置(即适于悬挂的颠倒位置)示出洒水机800。在这种情况下，粘性物质(例如硅胶等)将聚集在圆周凹槽899内，以填充凹槽至平面L，其中剪切力作用于T形环形缘851的大体垂直延伸的侧壁且与环形缘891的相应侧壁相反。

现在转向图38A至38C，示出尤其对于洒水机(例如在图31至37中示出的洒水机)有用的可替换外壳。总体标记为812的外壳大体类似于前面公开的外壳，尤其类似于图5至图7公开的外壳。该外壳形成有用于接纳抑制机构(图33中的878)的插孔879，其中在该具体实施例中，环形缘857′(构成环形凹槽889的内壁)形成有多个径向延伸的凹槽833，凹槽833形成用于从井状插孔879中向环形凹槽889排出粘性物质的排出凹槽，由此保证在大体垂直的平面内的有效剪切，如上文所讨论的。同样应当明白，顶盖821可形成有类似于联系密封腔的井679所公开的凹槽633的径向排出凹槽。

在上文讨论的实施例中，第一磁铁M1和第二磁铁M2轴向分布，即在沿着洒水机的轴向轴线的不同平面处延伸，但是被布置为相同极彼此面对，以在它们之间产生排斥力。在图39中示出的实施例中，提供有洒水机，其中第一磁铁M1和第二磁铁M2轴向分布。

为了清除起见，本实例以与第一实施例相同的元件而被标记，其中相同元件被标记为变化了900的相同的参考数字。

总体标记为910的旋转洒水机包含与桥架元件932一体形成的外壳912，桥架元件932在被布置成V形构造的两个支撑臂934上延伸。灌溉头930是形成有反作用力产生倾斜凹槽940的弹出型灌溉器，反作用力产生倾斜凹槽940具有在射流形成喷嘴918的出口922之上大体垂直延伸的进口端942，和大体径向延伸的出口开口946，还具有反作用力产生表面948，反作用力产生表面948被设计用于根据从射流形成喷嘴918中喷射出的水射流施加于其上的冲击而使旋转头930旋转运动。

灌溉头930装配有向上延伸的凸起950，其延伸进入再桥架932内形成的孔952内，且通过保持环954轴向保持在适当位置，但是能围绕纵向轴线(旋转轴线A)自由旋转。注意到保持环停靠在从桥架元件延伸出的轴向突起956上。该保持装置被帽958隐藏。

包含两个标记为M1的磁铁的磁铁外壳977与灌溉头930一起形成。磁铁M1被固定地定位在磁铁外壳977内且被布置为使得其相同极彼此面对。在本示例中，磁铁M1被径向布置在磁铁外壳977的直径之上，且两个磁铁M1的南极径向上朝内。

一对第二磁铁M2被固定在第二磁铁支撑元件982内，第二磁铁支撑元件982进而被可旋转地接纳在填充有粘性物质的密封腔980内，一起构成总体标记为978的旋转抑制机构。第二磁铁M2被径向布置在第二磁铁支撑件982上且被布置为使得其相同极面向第一磁铁的相同极，即两个磁铁M2的南极径向上朝外。磁铁M1和M2被布置为大体在同一平面内切在第一磁铁M1和第二磁铁M2之间产生排斥力。

根据该实施例的洒水机的操作与联系前面实施例所公开的原则上类似。因此，来自射流形成喷嘴918的水射流冲击反作用力产生表面948，使得灌溉头930与铰接的第一磁铁M1一起围绕纵轴线A旋转运动。作为第一磁铁M1和第二磁铁M2试图旋转地的旋转结果，排斥力分别存在于磁铁M1和M2对之间。但是，抑制机构978明显地减慢第二磁铁支撑件982的旋转运动，导致对灌溉头930的旋转的相应抑制(减慢)。

本发明所涉及的领域内的技术人员将容易明白可以做出无数改变、变化和修改，而不脱离本发明已做必要修正的范围。

Claims (19)

1.一种旋转洒水机，包含外壳、装配有旋转抑制机构且与第二磁铁组件相关联的可旋转灌溉头，所述抑制机构配置为抵抗所述第二磁铁组件的自由旋转；与所述外壳相关联的第一磁铁组件；其中所述第二磁铁组件和所述第一磁铁组件被布置为相同极彼此面对，以便在它们之间产生排斥力，其中至少在所述洒水机的运转期间，所述第二磁铁组件和所述第一磁铁组件处于静态磁平衡的状态中。

2.根据权利要求1所述的旋转洒水机，其中所述外壳形成有液体进入口和与所述可旋转灌溉头相对延伸的射流形成喷嘴，所述外壳进一步包括具有磁铁支撑件的桥架，所述磁铁支撑件固定地装配有所述第一磁铁组件，所述桥架旋转地支撑所述灌溉头并且包含所述第二磁铁组件。

3.根据权利要求1所述的旋转洒水机，其中所述第一磁铁组件包括相对于彼此轴向设置的至少一对磁铁，并且所述第二磁铁组件具有在所述一对磁铁之间的磁力平衡处对称地轴向延伸的磁铁形式。

4.根据权利要求1所述的旋转洒水机，其中所述第二磁铁组件包括至少第二磁铁，并且所述第一磁铁组件包括至少第一磁铁，所述第二磁铁和所述第一磁铁自所述灌溉头的旋转轴线大体相等地径向偏置。

5.根据权利要求1所述的旋转洒水机，其中所述第二磁铁组件在填充有粘性物质的密封腔内是可移置的，所述腔构成所述抑制机构并且包括支持件，所述支持件配置为保持所述第二磁铁组件距所述旋转轴线固定距离且只便于其旋转移置。

6.根据权利要求1所述的旋转洒水机，其中所述第一磁铁组件的磁铁被固定地铰接至所述外壳。

7.根据权利要求1所述的旋转洒水机，其中所述第二磁铁组件包括至少第二磁铁，并且所述第一磁铁组件包括至少第一磁铁，所述第二磁铁和所述第一磁铁相对于彼此轴向设置。

8.根据权利要求1所述的旋转洒水机，其中所述洒水机被装配用于头朝上取向或者底朝上取向。

9.根据权利要求1所述的旋转洒水机，其中所述第二磁铁组件中的第二磁铁的数目对应于所述第一磁铁组件中的第一磁铁的数目。

10.根据权利要求1所述的旋转洒水机，其中所述第二磁铁组件中的第二磁铁和所述第一磁铁组件中的第一磁铁具有大体相同的磁力。

11.根据权利要求2所述的旋转洒水机，其中所述灌溉头装配有支撑支柱，所述支撑支柱被所述桥架保持且具有轴向自由度，以使得所述灌溉头在向下、非操作位置与向上、操作位置之间可轴向移置。

12.根据权利要求11所述的旋转洒水机，其中当所述灌溉头在其向下、非操作位置时，所述灌溉头隐藏所述射流形成喷嘴。

13.根据权利要求11所述的旋转洒水机，其中所述灌溉头和所述射流形成喷嘴中的至少一个装配有周边裙部，以用于当所述灌溉头处于向下、非操作位置时，隐藏所述射流形成喷嘴的出口和所述灌溉头的射流喷射部分的出口。

14.根据权利要求13所述的旋转洒水机，其中所述灌溉头装配有裙部且所述射流形成喷嘴装配有固定的裙部，所述裙部同轴且具有不同尺寸，由此在所述非操作位置处，所述裙部至少部分重叠。

15.根据权利要求2所述的旋转洒水机，其中所述第二磁铁组件中的至少一个第二磁铁固定在磁铁支撑元件上，所述磁铁支撑元件以可旋转的方式固定至所述桥架，且进而可接合以便随着所述灌溉头旋转。

16.根据权利要求15所述的旋转洒水机，其中所述磁铁支撑元件根据所述灌溉头从向下、非操作位置轴向移置至向上、操作位置而与所述灌溉头接合。

17.根据权利要求15所述的旋转洒水机，其中所述磁铁支撑元件与所述灌溉头之间的旋转接合是通过在所述磁铁支撑元件与所述灌溉头中的一个中形成的螺旋状路径和在所述磁铁支撑元件与所述灌溉头中的另一个中形成的对应螺旋连接件而实现的，从而使所述灌溉头轴向上升使得所述磁铁支撑元件随后旋转。

18.根据权利要求2所述的旋转洒水机，其中所述第二磁铁组件中的至少一个第二磁铁和所述第一磁铁组件中的至少一个第一磁铁被接纳在各自的磁铁支撑件中，所述各自的磁铁支撑件可分别可拆卸地附连至所述灌溉头和所述桥架。

19.根据权利要求1所述的旋转洒水机，其中所述排斥力与所述洒水机的旋转轴线同轴，且起作用以沿着与由液体射流施加至所述灌溉头上的轴向力相反的方向偏置所述灌溉头。