CN102026905A - 用于馈送容器闭合件的馈送装置 - Google Patents

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Abstract

一种用于馈送容器闭合件的馈送装置(1)，该馈送装置包括导向装置(2)，该导向装置(2)用于将闭合件(100)馈送至与所述馈送装置相关联的处理工位。该馈送装置(1)包括间隔装置(5、105)，间隔装置用于以均匀隔开的时间间隔将这些闭合件输送至处理工位，所述间隔装置可操作地与所述导向装置(2)相关联，且定位在所述处理工位的上游。一种用于对容器闭合件进行消毒的设备，该装备有消毒工位，且包括用于将容器闭合件馈送至所述消毒工位的馈送装置(1)。

Description

用于馈送容器闭合件的馈送装置
技术领域
本发明涉及容器处理的技术领域，尤其用于瓶子工业。
具体地说，本发明涉及用于馈送容器闭合件的装置。
背景技术
众所周知，在食品工业，尤其是在为容器无菌充填饮料的领域以及无菌食品包装的领域，需要在充填之前对容器进行内部和外部消毒。
通常使用诸如过氧化氢或过乙酸之类的化学药剂来实现消毒，这些化学药剂可用在各种表面上，诸如纸、塑料、金属或有机材料。
为了使充填能在无菌条件下进行，不仅需要对容器进行消毒，而且对它们的闭合件进行消毒，这些闭合件例如帽盖或塞子，用于在充填过程结束时密封容器。
根据现有技术，借助电离辐射源或化学试剂来对闭合件(帽盖或塞子)进行消毒，电离辐射源例如放射性的伽玛或贝它射线源。
电离辐射是包括具有高动能的颗粒的辐射，这些颗粒能从原子中离析出电子，因此实现两个重要效果：颗粒和原子之间的每次相互作用都产生离子(原子团)，随后排出电子；所排出的电子还能产生附加的离子。
具体参照借助电离辐射源的消毒，通常已知一般称为电子“炮”的电子束发射器的使用。
电子束集中在待消毒的物体上，从而电子可直接作用在例如病毒、真菌或细菌之类的病原因子上，从而破坏它们的DNA并且使它们存活所需的蛋白质和酶无效。
通过电离辐射源进行消毒具有以下重要优点：由于降低对于化学药剂、水和消毒物质的消耗，因而降低充填/装瓶工厂的操作成本。此外，使用电离辐射源有助于建设环境可持续的工厂，这是由于此种使用解决了化学残渣处理的问题并且减少了有毒废物的产生。
具体参照对于帽盖和塞子的消毒，将装备有用于容纳帽盖和塞子的料斗的设备连接于斜槽，该斜槽用于将上述帽盖和塞子馈送至消毒区域，这些帽盖和塞子经受上述类型的电离辐射的作用，这是在瓶装工业中众所周知的处理方法。
具体地说，斜槽由具有垂直部段以及倾斜部段的通道构成，帽盖或塞子以单个队列设置在斜槽内侧，并且在重力作用下滑动，通过对它们进行消毒的操作区域。
接着，这些闭合件持续滑动，直到到达收集工位或用于进一步处理的工位为止。
此种类型的设备具有的主要缺点在于，它们无法确保完整、可靠的消毒。
实际上，由于在两个相邻闭合件的表面之间的接触点处形成阴影区域，因而产生一个特别且还待解决的技术问题，这些闭合件以单个队列设置在馈送斜槽上。在由两个相邻闭合件接触所引起的这些阴影区域，电离辐射无法执行其效能。于是，将无法消除任何存在于所述阴影区域的病原因子，因此危及这些闭合件(不管是帽盖还是塞子)的无菌化。
发明内容
本发明的一目的是：通过得到用于馈送容器闭合件的馈送装置来解决上述技术问题，该馈送装置能防止在闭合件之间形成阴影区域，从而能够实现对闭合件进行诸如消毒之类的完整处理。
本发明的另一目的是：提出用于馈送容器闭合件的简单且可靠的馈送装置。
本发明的又一目的是设计用于馈送容器闭合件的馈送装置，该馈送装置可用于一般的闭合件操纵系统，而无需限制于消毒设备。
借助本发明所涉及的用于馈送容器闭合件的馈送装置来完全实现所述目的，其特征在于，包含在下文的权利要求中的要素。
附图说明
从仅借助附图中的非限制性例子来说明的一较优实施例的以下描述中，本发明这些和其它目的将会变得更加清楚，在附图中：
图1示出本发明的用于馈送容器闭合件的馈送装置的总体布置图；
图2示出图1所示装置的放大俯视图；
图3示出前述附图所示装置的构造细节的放大俯视图；
图4示出前述附图所示装置的轴侧投影视图；
图5示出装置的定位在操作区域中的一部分的构造细节的轴侧投影视图，在操作区域处处理帽盖；
图6示出与处理系统相关联的、图1所示装置的轴侧投影视图；
具体实施方式
参照附图，用于将容器闭合件馈送至消毒设备的装置总地由附图标记1来表示。
装置1包括导向装置2，该导向装置具有用于通常是帽盖和塞子的闭合件的入口3，该入口与装载器或料斗(未示出)相连通，该装载器或料斗用于存储闭合件并且馈送待处理的闭合件。
装置1可与闭合件处理工位4相关联，该闭合件处理工位4较佳地包含在消毒设备中。
装置1包括间隔装置，从而以均匀隔开的时间间隔一次一个地将闭合件馈送至处理工位4。具体地说，所述间隔装置可操作地与导向装置2相关联，且定位在所述处理工位4的上游。
具体参照图3，间隔装置包括分离元件5，该分离元件可操作地作用在一队闭合件100上，以使队列100a中的前导闭合件馈送到处理工位，而同时阻挡剩下的闭合件。更确切地说，分离元件能可选地在阻挡位置和许可位置之间运动，在阻挡位置，阻挡闭合件的队列，而在许可位置，使这些闭合件能向前运动，并同时将队列100a中的前导闭合件输送到处理工位。
在输送队列100a中的前导闭合件之后，紧随其后的闭合件100b将变为队列中的新的前导闭合件，该新的前导闭合件将被馈送到处理工位。
具体参照图3，分离元件较佳地包括星轮105，该星轮105具有多个突起105a以及多个凹槽105b，而多个凹槽105b适合于容纳这些闭合件。较佳的是，将这些凹槽的形状选定成匹配这些闭合件。
星轮以如下方式旋转：每个凹槽105b将截断队列100a中的前导闭合件，从而将其输送至处理工位，而突起105a将同时截断剩下的闭合件的队列，以防止它们向前运动。
虽然星轮较佳地由无刷类型的电动机所驱动，然而并不排除对于(例如借助齿轮的)机械类型的驱动装置的使用。
根据一未示出的实施例，所述间隔装置可包括一对隔离物，这对隔离物在阻挡位置和馈送位置之间同时和交替运动，在阻挡位置用以阻挡闭合件的队列，而在馈送位置用于馈送队列中的前导闭合件。具体地说，所述隔离物可沿闭合件的队列、彼此以预先固定的距离对准，并且以交替的方式运动，从而当位于上游(相对于处理工位并且沿着帽盖的队列)的隔离物阻挡闭合件的队列时，通过使队列中的前导闭合件沿导向装置滑动，下游的隔离物将使该前导闭合件能被馈送，该导向装置将适当地朝处理工位倾斜。
接着，上游隔离物将运动离开阻挡位置，而下游隔离物将同时定位成阻碍队列中前导闭合件的馈送。于是，闭合件的队列将(由于导向装置倾斜)沿导向装置下行，从而队列中的前导闭合件抵靠于下游隔离物，并且阻挡整个队列。
此后，上游隔离物将运动，从而截断并阻挡在队列中前导闭合件上游的闭合件的队列，与此同时，下游隔离物将运动，以释放队列中的前导闭合件，使该前导闭合件沿导向装置朝处理工位滑动。
具体参照图5，导向装置较佳地包括多个导向件，这些导向件相对于水平方向倾斜，从而使闭合件能在重力作用下滑动。具体地说，第一组导向件201定位成彼此相对，且可操作地作用在所述闭合件上，第二组导向件202与所述第一组导向件201协作，且可操作地作用在闭合件上，以使这些闭合件保持直立位置。这样，闭合件的侧缘表面101将抵靠在所述第一组导向件中的其中一个导向件上，使这些闭合件自身能在重力作用下滚动。
该装置还包括外壳，该外壳适合于容纳导向装置，并且适合于容纳间隔装置，导向装置在所示的示例中由所述多个导向件所构成，而间隔装置在所示的示例中包括星轮105。
具体参照图1，所述外壳包括输入通道6、输出通道7以及中心本体8，该中心本体8容纳星轮105以及所述导向装置的一个部段。
具体参照图4，中心本体8具有工作窗口8a，该工作窗口定位在所述消毒工位的位置中，以使如下闭合件能被处理：这些闭合件沿导向件的容纳在中心本体内侧的部段行进。
在较佳的实施例中，中心本体8基本轴向对称，且具有一对彼此相对定位的窗口，从而可从两侧对沿导向件传送的闭合件进行处理。
星轮105较佳地定位在所述导向装置的入口3以及所述处理工位4之间，该入口3通常与装载机或料斗(未示出)相连通，装载机或料斗用于存储并且馈送待处理的闭合件。
在图5和6所示的较佳实施例中，消毒工位可包括一个或多个电离辐射源，例如电子束或伽玛或贝它射线的发射器。
如果使用一个以上的辐射源，则较佳地设有两个电子束发射器，这两个发射器定位成彼此相对，而待消毒的闭合件在这两个发射器之间通过。在此情形中，具体参照图5和6，导向装置置于所述一对发射器20、21之间，该对发射器通过窗口8(在附图中仅仅其中一个窗口可见)照射这些闭合件，窗口8设在于外壳的中心本体8上。
本发明如下所述进行工作。
由存储料斗或装载机拾取的闭合件沿坐落在输入通道6中的导向件滑动，形成单个队列，该队列抵靠于星轮105(具体参照图2)。
具体地说，将星轮105保持在阻挡位置，从而队列100a中的前导闭合件能抵靠于其中一个所述突起105a，并且至少部分地被引至星轮的凹槽105b内侧，因此中断剩下的闭合件的向前运动，并形成沿输入通道向后延伸的队列。
接着，使星轮105旋转，从而向前传送队列100a中的前导闭合件，并且为上述前导闭合件施加初始速度，该初始速度至少是施加于星轮的扭矩以及星轮的角速度的函数。借助由星轮所施加的初始速度，队列中的前导闭合件朝处理工位运动；具体地说，导向件相对于水平方向的倾斜度，这决定闭合件的运动加速度，从而至少抵消沿导向件自身的摩擦力，并且可提高闭合件的最终速度。
在星轮的旋转过程中，当将队列100a中的前导闭合件引入凹槽105b内侧，并且因此沿处理工位的方向传送该前导闭合件时，与此同时，突起105a截断剩下的闭合件的队列，并且将其自身置于队列100a中的前导闭合件以及在前导闭合件正后方的闭合件100b之间，该前导闭合件处于被传送的过程中，而闭合件100b将变为队列的新的前导闭合件。
在输送队列100a中的前导闭合件之后，星轮停止旋转，从而队列中的新的前导闭合件将抵靠于其中一个所述突起105a，并至少部分地被引至凹槽105b内侧，因此中断剩下的闭合件的向前运动。
本发明实现重要的优点。
首先，本发明的馈送装置能够防止在闭合件之间形成阴影区域，因此能够完整地处理(例如，消毒)这些闭合件。具体地说，通过控制星轮的旋转速度，可在这些闭合件之间引入最小距离，从而以均匀隔开的时间间隔来输送这些闭合件。具体地说，由于导向件自身倾斜，而作用在导向件方向的重力加速度分量，可增大该最小距离。
其次，此种装置可建立精确的闭合件处理时间，该处理时间将由初始速度和馈送频率所决定，初始速度是由星轮施加在闭合件上的速度，而星轮自身以该馈送频率将闭合件馈送至处理工位。
有利的是，本发明的馈送装置能根据工厂的生产能力(即，根据每小时的瓶子产出数量)来调整闭合件的初始速度，这些闭合件以该初始速度传输至处理工位。此外，通过选择合适的导向件倾斜度以及星轮和工作窗孔之间的合适距离，可在某些限制内，使闭合件的处理时间独立于星轮的旋转速度，所述速度较佳地与工厂的生产能力相关。

Claims (15)

1.一种用于馈送容器闭合件的馈送装置，所述馈送装置包括导向装置(2)，所述导向装置(2)用于将所述闭合件(100)传送至与所述馈送装置相关联的处理工位，其特征在于，所述馈送装置包括间隔装置(5、105)，所述间隔装置用于以隔开的时间间隔将所述闭合件输送至所述处理工位，所述间隔装置可操作地与所述导向装置(2)相关联，且定位在所述处理工位的上游。
2.如权利要求1所述的馈送装置，其特征在于，所述间隔装置包括分离元件(5、105)，所述分离元件可操作地作用在所述闭合件的队列上，以将所述队列(100a)中的前导闭合件输送至所述处理工位，并且同时阻挡剩余的闭合件，所述分离元件能在阻挡位置和许可位置之间交替运动，在所述阻挡位置，阻挡闭合件的队列，而在所述许可位置，使这些闭合件能向前运动，并同时将所述队列中的前导闭合件输送到所述处理工位。
3.如权利要求2所述的馈送装置，其特征在于，所述分离元件包括星轮(105)，所述星轮具有多个突起(105a)，所述多个突起与多个凹槽(105b)交替，所述多个凹槽(105b)适合于容纳所述闭合件，所述星轮以如下方式旋转：每个凹槽将截断所述队列(100a)中的前导闭合件，从而将所述前导闭合件输送至所述处理工位，而所述突起将同时截断剩下的闭合件的队列，以阻挡它们向前运动。
4.如前述权利要求中任一项所述的馈送装置，其特征在于，所述导向装置(2)包括第一组导向件(201)，所述第一组导向件定位成彼此相对，并且可操作地作用在所述闭合件(100)上。
5.如权利要求4所述的馈送装置，其特征在于，所述导向件相对于水平方向倾斜，从而所述闭合件能自身在重力作用下沿所述导向件滑动。
6.如权利要求5所述的馈送装置，其特征在于，所述导向装置还包括第二组导向件(202)，所述第二组导向件与所述第一组导向件(201)协作，并且可操作地作用在所述闭合件上，以使所述闭合件保持在直立位置，从而所述闭合件的侧缘表面(101)抵靠于所述第一组导向件中的一个导向件上，因此使所述闭合件自身在重力作用下滚动。
7.如前述权利要求中任一项所述的馈送装置，其特征在于，所述馈送装置还包括外壳，所述外壳用于容纳所述导向装置(2)。
8.如权利要求7所述的馈送装置，其特征在于，所述外壳包括输入通道(6)、输出通道(7)以及中心本体(8)，所述中心本体容纳所述分离元件以及所述导向装置的至少一部分。
9.如权利要求8所述的馈送装置，其特征在于，所述中心本体(8)具有至少一个工作窗口(8a)，所述工作窗口定位在所述消毒工位的位置，以使所述闭合件能沿容纳在所述中心本体(8)内的所述导向装置(2)行进而被处理。
10.如前述权利要求中任一项所述的馈送装置，其特征在于，所述导向装置(2)定位在所述导向装置的入口(3)和所述处理工位之间。
11.一种用于对容器闭合件进行消毒的设备，所述设备包括消毒工位，其特征在于，所述设备包括用于将容器闭合件馈送至所述消毒工位的、如前述权利要求中任一项所述的馈送装置(1)。
12.如权利要求11所述的设备，其特征在于，所述消毒工位包括至少一个电离辐射源。
13.如权利要求12所述的设备，其特征在于，所述电离辐射源包括电子束发射器。
14.如权利要求13所述的设备，其特征在于，所述设备包括一对发射器(20、21)，所述发射器定位成彼此相对，所述闭合件的馈送装置的所述导向装置置于所述发射器之间，从而从两侧照射所述闭合件。
15.如权利要求12所述的设备，其特征在于，所述电离辐射源包括伽玛射线或贝它射线发射器。
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Open date: 20110420