CN102001621A - 等离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法 - Google Patents
等离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102001621A CN102001621A CN2010102869121A CN201010286912A CN102001621A CN 102001621 A CN102001621 A CN 102001621A CN 2010102869121 A CN2010102869121 A CN 2010102869121A CN 201010286912 A CN201010286912 A CN 201010286912A CN 102001621 A CN102001621 A CN 102001621A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- substrate
- silver grain
- nano silver
- nano
- control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 81
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title abstract description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 title abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 69
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 25
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 13
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 40
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 24
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 19
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 17
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 15
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 claims description 15
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 10
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 7
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 4
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N Silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010415 colloidal nanoparticle Substances 0.000 description 4
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical group [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 3
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 2
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000007630 basic procedure Methods 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002189 fluorescence spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 description 1
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000000054 nanosphere lithography Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000001338 self-assembly Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000002174 soft lithography Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004416 surface enhanced Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
一种等离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法，其步骤为(a)将有机膜覆盖于衬底上，把衬底固定在带有透光孔的可旋转衬底座上；(b)将衬底座安装到高真空沉积室中，使得衬底座上的衬底处于束流的中心；(c)通过气相聚集法团簇束流源产生银纳米粒子，通过喷嘴形成高度定向、等效沉积率可精确控制的银纳米粒子束流；(d)银纳米粒子束流对衬底沉积，通过精确控制纳米粒子沉积量而定量控制衬底上银纳米粒子的覆盖度在5％-78％范围，从而控制银纳米粒子堆积的面间距，实现其等离激元共振频率的连续演变，等离激元共振频率的变化通过原位消光光谱监测。本发明方法具有工艺简单、成本低、等离激元共振频率调控精度高、易于实现宽范围连续调控等特点。
Description
一、技术领域
本发明涉及纳米材料与纳米器件，生物/化学传感器技术领域，具体地说是涉及等离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法。
二、背景技术
纳米粒子点阵的等离激元共振性质在纳米光子器件、微纳传感器件等领域中具有重要的应用背景，尤其是在等离激元增强光谱(如表面增强拉曼光谱，表面增强荧光光谱等)学中，纳米粒子点阵的等离激元共振频率以及点阵中纳米粒子之间的间距和电磁耦合强度对等离激元增强光谱的灵敏度和效率有着至关重要的影响。虽然国际上已发展了几种调控银纳米粒子点阵等离激元共振频率的方法，但是对于直径在30nm以下的密集银纳米粒子点阵的等离激元共振调控仍缺乏有效的调控方法。虽然电子束刻蚀从理论上可以实现高精度制备纳米粒子点阵，但是有效制备直径小于30nm并且面间距小于10nm的密集纳米粒子点阵依然存在困难，并且，电子束刻蚀在大规模高精度制备纳米粒子点阵时代价昂贵，效率低下，不切实用；另一方面，胶体纳米粒子的自组装虽然易于实现大面积小间距纳米粒子点阵的制备，但是由于胶体纳米粒子表面覆盖大量有机物而影响了其应用。并且，胶体纳米粒子表面的表面活性剂严格束缚纳米粒子之间的间距，从而对于固定的表面活性剂，胶体纳米粒子点阵的等离激元共振是固定的，难以调控。这个问题同样存在于模板诱导制备的纳米粒子点阵。此外，目前已发展的了几种方法，如“软印刷术(soft-lithography)”、“小球印刷术(nanosphere-lithography)”等，但是所制备的粒子点阵通常粒子直径大于50nm，近邻粒子面间距大于30nm。总之，对于直径小于30nm的密集银纳米粒子点阵的等离激元共振调控依然缺乏有效、通用的手段。
三、发明内容
1.发明目的
本发明的目的在于提供一种等离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法。此方法可通用于常见的纳米材料和器件的气相制备工艺流程中，具有低成本、工艺简单、高效率、易于规模化等特点。
2.技术方案
本发明是利用超薄有机物薄膜(方华膜或火棉胶膜)涂覆衬底表面，通过控制团簇束流沉积量以调控纳米粒子点阵的粒子数密度，通过改变点阵中纳米粒子的电磁近场耦合实现纳米粒子点阵等离激元共振频率的宽范围调控。由于该方法易于制备纳米粒子直径小于30nm的密集银纳米粒子点阵，克服了传统方法中难以实现小尺寸纳米粒子密集点阵等离激元调控的缺点，在等离激元增强光谱中有重要应用价值。因此，该方法提供了一种高效、低成本并可大面积制备等离激元共振频率可宽范围调控的密集银粒子点阵的通用方案。
本方法的工作原理是：利用超薄有机物薄膜覆盖衬底表面以限制低能纳米粒子在其表面的徙动，通过沉积率可精确控制定向运动纳米粒子束流在衬底上进行沉积，通过控制沉积时间实现对纳米粒子点阵的粒子数密度的控制，从而对点阵中纳米粒子面间距的统计分布实现调控，达到调控纳米粒子点阵的等离激元共振频率的效果。同时，通过原位紫外-可见分光光度计实时监测纳米粒子点阵的消光曲线，实现对其等离激元共振频率的选择。
等离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法，其制备步骤如下：
(1)首先在衬底表面涂覆一层均匀的超薄有机薄膜，然后把涂覆薄膜的衬底四角涂抹真空硅胶固定在带有透光孔的可旋转衬底座5上；
(2)将衬底座5安装到纳米粒子束流沉积系统的高真空沉积室8中，使得衬底座5上的衬底处于纳米粒子束流4的中心；
(3)利用抽气系统罗兹泵9和分子泵10对沉积室8抽真空，并从惰性气体入口11向气相聚集法团簇束流源的冷凝室6内充入惰性气体，气相聚集法团簇束流源7中的原子化器1通过磁控溅射或高温蒸发产生高密度银原子气，银原子气在冷凝室6中的惰性气体中生长成为银纳米粒子，银纳米粒子随惰性气体通过喷嘴2等熵膨胀形成纳米粒子束流4，纳米粒子束流经过准直器3进入高真空沉积室8内，形成高度定向的银纳米粒子束流4；
(4)旋转高真空沉积室8内衬底座5上的连接杆，使固定在衬底座5上的衬底与纳米粒子束流成30°入射角，调节溅射电源的输入功率控制银纳米粒子束流的等效沉积速率为0.02nm/s，通过控制沉积时间来调控纳米粒子在衬底上的覆盖度；在入射光纤12处引入紫外-可见光，并通过探测接收光纤13对透射光进行原位接收并接入分光光度计，实时检测银纳米粒子点阵的消光光谱；通过对纳米粒子覆盖度的控制改变纳米粒子点阵中银纳米粒子的数密度和面间距分布，从而实现对银纳米粒子点阵等离激元共振频率的调控。
上述制备步骤(1)中所述的有机薄膜为方华膜或火棉胶膜；有机薄膜膜厚8-15nm；所述的衬底为石英玻璃片。
上述步骤(3)中所述的高真空沉积室8的真空度为10-4Pa～10-5Pa，向冷凝室6充入50～200Pa的惰性气体；所述的纳米粒子束流中纳米粒子的直径为2-10nm，等效沉积率为0.02nm/s，其尺寸大小通过改变原子化器1与气体动力学喷嘴2之间的距离，或改变充入惰性气体的气压来控制，纳米粒子的覆盖度和面间距分布由等效沉积速率和沉积时间控制。
上述步骤(4)中所述的纳米粒子覆盖度从5％-78％可控；所述的纳米粒子的数密度和面间距分布能通过银纳米粒子束流的沉积质量调控；所述的银纳米粒子点阵等离激元共振频率在392nm至580nm内连续调节(如图)；所述的紫外-可见光为氘灯-卤素灯，透射光引入的分光光度计波长分辨范围为200nm-800nm。
3.有益效果
本发明提出了一种可实现等离激元共振宽幅调控的银纳米粒子点阵的制备方法：通过超薄有机薄膜(方华膜或火棉胶膜)覆盖衬底控制沉积于衬底表面的银纳米粒子的徙动实现调控银纳米粒子点阵的等离激元共振频率。相比较其他点阵的制备方法，本方法可突破传统方法中小尺寸纳米粒子难以控制的限制，易于实现粒子直径小于30nm的密集银纳米粒子点阵的制备和等离激元调控。由于纳米粒子的尺寸可以通过改变团簇束流相关条件来调节，并且纳米粒子点阵的粒子数密度可通过沉积速率和沉积时间来控制，因此本发明可制备具有不同等离激元共振特性的银纳米粒子薄膜。通过原位紫外-可见消光光谱的监控，可实时监测和选择银纳米粒子点阵的覆盖度与等离激元共振频率。因此本发明提供了一种高效率、低成本、易于规模化制备粒子尺寸、等离激元共振可控的有序纳米粒子阵列的方法。同时制备过程可以通过各种精密分析技术实时监控，在技术上与现代器件制作工艺具有很好的兼容性。
四、附图说明
图1：用于实现本发明制备方法的纳米粒子束流的产生与沉积装置。
附图标记：
1-原子化器(磁控溅射、高温蒸发等)；
2-气体动力学喷嘴；
3-准直器；
4-银纳米粒子束流；
5-带有衬底的可旋转衬底座；
6-生长银纳米粒子的冷凝室；
7-气相聚集法团簇束流源；
8-高真空沉积室；
9-罗兹泵；
10-分子泵；
11-惰性气体入口。
图2：原位消光光谱监测装置(即图1中带有衬底的可旋转衬底座的俯视图，衬底座中有通光孔)。
4-银纳米粒子束流；
5-带有衬底的可旋转衬底座；
12-入射光纤；
13-探测接收光纤。
图3：在覆盖方华膜的石英玻璃衬底上进行1-13分钟银纳米粒子束流沉积形成的银纳米粒子点阵的等离激元共振消光曲线。
图4：图3中银纳米粒子点阵等离激元共振频率与沉积时间的关系。
图5：在覆盖火棉胶膜的石英玻璃衬底上进行30-270秒银纳米粒子束流沉积形成的银纳米粒子点阵的等离激元共振消光曲线。
图6：图5中银纳米粒子点阵等离激元共振频率与沉积时间的关系。
五、具体实施方式
以下分别以银纳米粒子在覆盖方华膜或火棉胶膜的石英玻璃衬底上的沉积实现纳米粒子点阵等离激元调控为例，说明本方法的基本流程：
实施例1
(1)在石英玻璃衬底表面覆盖一层均匀的方华膜薄膜，膜厚8-15纳米，在衬底四角涂抹704真空硅橡胶把衬底固定于可旋转衬底座5上；
(2)将带有衬底的衬底座5通过螺丝固定安装到纳米粒子束流沉积系统的高真空沉积室8中，使得衬底座5上的衬底处于银纳米粒子束流4的中心；
(3)利用抽气系统罗兹泵9和分子泵10对沉积室8抽真空，真空度为5×10-5Pa并从惰性气体入口11向气相聚集法团簇束流源的冷凝室6内充入150Pa的氩气，在此气压下，气相聚集法团簇束流源7中的原子化器1通过磁控溅射产生高密度银原子气，银原子气在冷凝室6中的惰性气体中生长成为银纳米粒子，银纳米粒子随惰性气体通过2毫米直径的喷嘴2发生等熵膨胀，形成银纳米粒子束流，银纳米粒子束流经过2mm直径的准直器3进入真空度为5×10-5Pa的高真空沉积室8内，形成高度定向的银纳米粒子束流4；
(4)旋转高真空沉积室8内安装衬底的衬底座5上的连接杆，使衬底与纳米粒子束流成30°入射角，调节溅射电源的输入功率控制银纳米粒子束流的等效沉积速率为0.02nm/s，通过控制沉积时间来调控纳米粒子在衬底上的覆盖度；在入射光纤12处连接氘灯-卤素灯引入紫外-可见光，并通过探测接收光纤13对透射光进行原位接收并接入分光光度计(卓立汉光0mni λ150)，实时检测银纳米粒子点阵的消光光谱；如图3和图4所示，在沉积过程中每分钟测量一次纳米粒子薄膜的消光曲线，经过共13分钟的沉积，此时银纳米粒子点阵的覆盖度约为75％，数密度约104/μm2，实现银纳米粒子点阵的等离激元共振频率从396nm连续红移至576nm。
实施例2
(1)在石英玻璃衬底表面覆盖一层均匀的火棉胶膜，膜厚为10-15纳米，在衬底四角涂抹704真空硅橡胶把衬底固定于可旋转衬底座5上；
(2)将带有衬底的衬底座5通过螺丝固定安装到纳米粒子束流沉积系统的高真空沉积室8中，使得衬底座5上的衬底处于银纳米粒子束流4的中心；
(3)利用抽气系统罗兹泵9和分子泵10对沉积室8抽真空，真空度为1×10-5Pa并从惰性气体入口11向气相聚集法团簇束流源的冷凝室6内充入90Pa的氩气，在此气压下，气相聚集法团簇束流源7中的原子化器1通过磁控溅射产生高密度银原子气，银原子气在冷凝室6中的惰性气体中生长成为银纳米粒子，银纳米粒子随惰性气体通过2毫米直径的喷嘴2发生等熵膨胀，形成银纳米粒子束流，银纳米粒子束流经过2mm直径的准直器3进入真空度为1×10-5Pa的高真空沉积室8内，形成高度定向的银纳米粒子束流4；
(4)旋转高真空沉积室8内安装衬底的衬底座5上的连接杆，使衬底与纳米粒子束流成30°入射角，调节溅射电源的输入功率控制银纳米粒子束流的等效沉积速率为0.02nm/s，通过控制沉积时间来调控纳米粒子在衬底上的覆盖度；在入射光纤12处连接氘灯-卤素灯引入紫外-可见光，并通过探测接收光纤13对透射光进行原位接收并接入分光光度计(卓立汉光0mniλ150)，实时检测银纳米粒子点阵的消光光谱；如图5、6所示，每沉积30s测量一次银纳米粒子薄膜的消光曲线，经过共270s的沉积，此时银纳米粒子点阵的覆盖度约为26％，数密度约3400/μm2，实现银纳米粒子点阵的等离激元共振频率从392nm连续红移至460nm。
Claims (5)
1.一种等离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法，其特征在于制备步骤如下：
(a)首先在衬底表面涂覆一层均匀的超薄有机薄膜，然后把涂覆薄膜的衬底固定在带有透光孔的可旋转衬底座(5)上；
(b)将衬底座(5)安装到纳米粒子束流沉积系统的高真空沉积室(8)中，使得衬底座(5)上的衬底处于纳米粒子束流(4)的中心；
(c)利用抽气系统罗兹泵(9)和分子泵(10)对沉积室(8)抽真空，并从惰性气体入口(11)向气相聚集法团簇束流源的冷凝室(6)内充入惰性气体，气相聚集法团簇束流源(7)中的原子化器(1)通过磁控溅射或高温蒸发产生高密度银原子气，银原子气在冷凝室(6)中的惰性气体中生长成为银纳米粒子，银纳米粒子随惰性气体通过喷嘴(2)等熵膨胀形成纳米粒子束流(4)，纳米粒子束流经过准直器(3)进入高真空沉积室(8)内，形成高度定向的银纳米粒子束流(4)；
(d)旋转高真空沉积室(8)内安装衬底的衬底座(5)，使衬底与纳米粒子束流成30°入射角，调节溅射电源的输入功率控制银纳米粒子束流的等效沉积速率为0.02nm/s，通过控制沉积时间来调控纳米粒子在衬底上的覆盖度；在入射光纤(12)处引入紫外-可见光，并通过探测接收光纤(13)对透射光进行原位接收并接入分光光度计，实时检测银纳米粒子点阵的消光光谱；通过对纳米粒子覆盖度的控制改变纳米粒子点阵中银纳米粒子的数密度和面间距分布，从而实现对银纳米粒子点阵等离激元共振频率的调控。
2.根据权利要求1所述的等离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法，其特征在于步骤(a)中所述的有机薄膜为方华膜或火棉胶膜；有机薄膜膜厚8-15nm；所述的衬底为石英玻璃片。
3.根据权利要求1所述的离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法，其特征在于在步骤(c)中所述的高真空沉积室(8)的真空度为10-4Pa～10-5Pa；所述的银纳米粒子束流中纳米粒子的直径为2-10nm。
4.根据权利要求1所述的离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法，其特征在于步骤(d)中所述的纳米粒子覆盖度从5％-78％可控。
5.根据权利要求1所述的离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法，其特征在于步骤(d)中所述的银纳米粒子的数密度和面间距分布能通过银纳米粒子束流的沉积质量调控；所述的银纳米粒子点阵等离激元共振频率在392nm至580nm内连续调节。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2010102869121A CN102001621A (zh) | 2010-09-16 | 2010-09-16 | 等离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2010102869121A CN102001621A (zh) | 2010-09-16 | 2010-09-16 | 等离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102001621A true CN102001621A (zh) | 2011-04-06 |
Family
ID=43809370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2010102869121A Pending CN102001621A (zh) | 2010-09-16 | 2010-09-16 | 等离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN102001621A (zh) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102560384A (zh) * | 2012-02-23 | 2012-07-11 | 成都精密光学工程研究中心 | 在基底表面上沉积纳米点阵的方法 |
| CN103789734A (zh) * | 2014-01-27 | 2014-05-14 | 南京大学 | 一种中性团簇束流喷嘴集群实现宽幅纳米颗粒束流的方法 |
| CN103816569A (zh) * | 2014-02-28 | 2014-05-28 | 宋凤麒 | 一种气相Ag纳米颗粒处理的植入体医用材料的方法 |
| CN106243813A (zh) * | 2016-08-01 | 2016-12-21 | 王学锋 | 一种纳米颗粒抗菌材料加工的方法 |
| CN109862684A (zh) * | 2018-12-21 | 2019-06-07 | 南京大学 | 单一尺寸强流团簇脉冲束产生方法 |
| CN112558324A (zh) * | 2020-12-08 | 2021-03-26 | 深圳子午链技术有限公司 | 一种用于色弱矫正的超表面隐形眼镜及其制备方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2771851Y (zh) * | 2004-12-17 | 2006-04-12 | 中国海洋大学 | 用于荧光分光光度计的光纤耦合装置 |
| CN1810629A (zh) * | 2006-01-24 | 2006-08-02 | 南京大学 | 具有直径和数密度一维梯度的纳米粒子阵列的气相合成方法 |
| CN1884042A (zh) * | 2006-05-30 | 2006-12-27 | 南京大学 | 间距与构型可调控的纳米颗粒有序阵列的制备方法 |
| CN1895997A (zh) * | 2005-07-13 | 2007-01-17 | 清华大学 | 碳纳米管阵列制作方法 |
| US20070108413A1 (en) * | 2005-06-03 | 2007-05-17 | Changzai Chi | Method for preparing rare-earth doped fluoride nanoparticles |
-
2010
- 2010-09-16 CN CN2010102869121A patent/CN102001621A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2771851Y (zh) * | 2004-12-17 | 2006-04-12 | 中国海洋大学 | 用于荧光分光光度计的光纤耦合装置 |
| US20070108413A1 (en) * | 2005-06-03 | 2007-05-17 | Changzai Chi | Method for preparing rare-earth doped fluoride nanoparticles |
| CN1895997A (zh) * | 2005-07-13 | 2007-01-17 | 清华大学 | 碳纳米管阵列制作方法 |
| CN1810629A (zh) * | 2006-01-24 | 2006-08-02 | 南京大学 | 具有直径和数密度一维梯度的纳米粒子阵列的气相合成方法 |
| CN1884042A (zh) * | 2006-05-30 | 2006-12-27 | 南京大学 | 间距与构型可调控的纳米颗粒有序阵列的制备方法 |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102560384A (zh) * | 2012-02-23 | 2012-07-11 | 成都精密光学工程研究中心 | 在基底表面上沉积纳米点阵的方法 |
| CN102560384B (zh) * | 2012-02-23 | 2013-12-11 | 成都精密光学工程研究中心 | 在基底表面上沉积纳米点阵的方法 |
| CN103789734A (zh) * | 2014-01-27 | 2014-05-14 | 南京大学 | 一种中性团簇束流喷嘴集群实现宽幅纳米颗粒束流的方法 |
| CN103789734B (zh) * | 2014-01-27 | 2015-11-18 | 南京大学 | 一种中性团簇束流喷嘴集群实现宽幅纳米颗粒束流的方法 |
| CN103816569A (zh) * | 2014-02-28 | 2014-05-28 | 宋凤麒 | 一种气相Ag纳米颗粒处理的植入体医用材料的方法 |
| CN103816569B (zh) * | 2014-02-28 | 2016-05-11 | 丹阳纳瑞康纳米科技有限公司 | 一种气相Ag纳米颗粒处理的植入体医用材料的方法 |
| CN106243813A (zh) * | 2016-08-01 | 2016-12-21 | 王学锋 | 一种纳米颗粒抗菌材料加工的方法 |
| CN106243813B (zh) * | 2016-08-01 | 2019-05-07 | 苏州康力丰纳米科技有限公司 | 一种纳米颗粒抗菌材料加工的方法 |
| CN109862684A (zh) * | 2018-12-21 | 2019-06-07 | 南京大学 | 单一尺寸强流团簇脉冲束产生方法 |
| CN112558324A (zh) * | 2020-12-08 | 2021-03-26 | 深圳子午链技术有限公司 | 一种用于色弱矫正的超表面隐形眼镜及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102001621A (zh) | 等离激元共振频率可宽范围调控的银纳米粒子点阵的制备方法 | |
| KR101448111B1 (ko) | 표면 증강 라만 분광용 기판 및 이의 제조방법 | |
| Anthony et al. | An all-gas-phase approach for the fabrication of silicon nanocrystal light-emitting devices | |
| Prepelita et al. | The influence of using different substrates on the structural and optical characteristics of ZnO thin films | |
| CN102947681B (zh) | 用于表面增强发光的自动布置、发光增强器件 | |
| CN101983914B (zh) | 制备微观数密度或尺寸梯度金属纳米粒子点阵的方法 | |
| Zhu et al. | Gold nanoparticle thin films fabricated by electrophoretic deposition method for highly sensitive SERS application | |
| CN102180438A (zh) | 一种可调谐三角形金属纳米粒子阵列结构的制作方法 | |
| CN101856650B (zh) | 局域表面等离子共振金属纳米岛状结构薄膜的溶液制备方法 | |
| Zhou et al. | Surface-enhanced Raman scattering from helical silver nanorod arrays | |
| Ukoba et al. | Thin films, atomic layer deposition, and 3D Printing: demystifying the concepts and their relevance in industry 4.0 | |
| Mao et al. | Broadband SERS detection with disordered plasmonic hybrid aggregates | |
| CN104764732A (zh) | 基于特异材料超吸收体的表面增强拉曼散射基底及其制备方法 | |
| Lee et al. | 3D multilayered plasmonic nanostructures with high areal density for SERS | |
| He et al. | Two-dimensional gradient Ag nanoparticle assemblies: multiscale fabrication and SERS applications | |
| CN110618478B (zh) | 一种基于单个金属银纳米颗粒-金属银薄膜的Fano共振结构及其制备方法 | |
| Hanuš et al. | Localized surface plasmon resonance tuning via nanostructured gradient Ag surfaces | |
| Zhu et al. | Au nanocone array with 3D hotspots for biomarker chips | |
| Suslov et al. | Fluorescence enhancement of Rhodamine B by monodispersed silver nanoparticles | |
| CN103805956B (zh) | 一种原位形貌和光学性能监控蒸发源及真空沉积设备 | |
| Vančo et al. | Interference enhancement in SERS spectra of rhodamine 6G: Relation to reflectance | |
| Liu et al. | Fabrication of tree-like CdS nanorods-Si pillars structure for photosensitive application | |
| CN109581564A (zh) | 一种具有结构色彩的多层金属陶瓷薄膜及其制备方法 | |
| CN113753845A (zh) | 一种角度不敏感的反射型等离子体结构色的制备方法 | |
| CN111982883A (zh) | 一种石墨烯/银十六角星阵列拉曼增强基底及其制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20110406 |