CN101932286A - 一种组织处理系统及一种整容性组织处理的方法 - Google Patents
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Abstract
一种组织处理系统包括一个射频(r.f.)发生器、一个处理设备,所述处理设备可与所述发生器及与一个可离子化的气体的源连接,并且在供给所述可离子化的气体并由所述发生器提供能量时,能够在所述设备的喷嘴处可操作地产生一束等离子体流。所述发生器被调整来向所述设备提供至少一串离散的射频能量脉冲串形式的处理能量,所述脉冲串具有一个预设的脉冲数n,其中2≤n≤5。
Description
技术领域
本发明涉及一种组织处理系统,具体而言是一种产生用于施加于皮肤表面的气体等离子体流的皮肤处理系统。本发明还包括一种皮肤处理的方法,具体而言是一种使用气体等离子体流使皮肤组织的网状细胞结构(reticular architecture)再生的整容方法。
背景技术
一种已知的皮肤处理系统包含一个射频(r.f.)发生器,用于向一个手持设备提供射频能量脉冲,在此所述脉冲被施加于一束可离子化的气体(例如氮气),以脉冲电场形式来产生一束用于施加于皮肤表面的等离子体流。这种系统公开于No.6,629,974和6,723,091的美国专利以及流水号No.10/792,765的美国专利申请中,它们的整个公开文本通过引用的方式纳入本申请中。如在这些专利说明书中以及流水号No.11/281,594的美国专利申请(它的整个公开文本也通过引用的方式纳入本申请中)描述的,可施加等离子体流来使与组织中的纹理或皱纹相邻的皮肤组织的网状细胞结构再生。一般而言,等离子体单脉冲被施加于靶组织的指定区域。然后移动所述手持部件(handpiece),并将另一脉冲施加于处理组织的相邻区域,如此往复,以覆盖待处理组织的整个区域,连续脉冲被施加于邻近部位,使得整个区域达到均匀的效果。可操作所述射频发生器以产生一个每次都需要用户操作来驱动(actuation)驱动器的单脉冲,或者可以在压下所述驱动器期间形成一系列连续脉冲形式的脉冲,操作者在连续等离子体脉冲产生的间期移动所述手持部件以选择不同处理部位。
如No.6,629,974的美国专利中所述,所述已知系统可产生具有预设能量的等离子体脉冲,一般将脉冲能量设定为2、2.5、3、3.5和4焦耳。
处理进行的方式可以是所述设备在所述待处理的表面区域上单轮“移动”(single“pass”),每轮移动包括在所述区域内的相继部位多次施加等离子体脉冲。然而,随后可进行第二轮移动,这时距第一轮移动至给定组织区域已过去足够长时间,从而使得所述皮肤已冷却。
处理患者所应用的脉冲宽度和能量设置已经通过预临床研究确定,并且被随后的临床研究确认,因为它们提供了有利的结果。
发明内容
本发明的目的是改良所述处理结果。
根据本发明的第一方面,一种组织处理系统包括一个射频发生器、一个处理设备,所述处理设备可与所述发生器及与一个可离子化的气体源连接,并且在供给所述可离子化的气体并由所述发生器提供能量时,能够在所述设备的喷嘴处可操作地产生一束等离子体流,其中所述发生器被调整来向所述设备提供至少一串射频能量脉冲串形式的处理能量,所述脉冲串具有一个预设的脉冲数n,其中2≤n≤5。优选地,所述脉冲串的每个脉冲具有2ms-20ms区间内的脉冲宽度,并且所述脉冲串的每个脉冲之间的时间间隔小于100ms,更优选10ms-40ms。一般而言,所述脉冲串的每个脉冲的能量在1焦耳-2焦耳的区间内。
在所述脉冲串具有至少三个脉冲的情况下,相继脉冲对之间的时间间隔可以不同。
优选的系统具有一个脚踏开关形式的用户操作驱动器。在所述发生器的一个模式中,压下所述脚踏开关可导致所述发生器提供单串脉冲串。在另一个模式中,压下所述脚踏开关可导致所述发生器提供一系列的脉冲串,每个脉冲串的情况均如上述。在这种情况下,所述脉冲通常以预定的重复速率产生,直至松开所述驱动器。优选0.5Hz-4Hz或5Hz的重复速率,通常优选的数值是2.5Hz。优选地,所述重复速率是可预设的。
可以配置所述发生器,即不仅可以预设每个脉冲串内的脉冲数目,而且可以预设相继脉冲之间的时间间隔和所述脉冲串的脉冲宽度和幅度。因此,例如,脉冲之间的间隔可以在10ms-100ms变化,并且脉冲宽度可以在2ms-20ms变化。
另外,可以将所述脉冲的射频功率水平预设至不同的值,通常为800W-2kW。虽然在施加一系列脉冲串的过程中可向所述设备连续地供给一束可离子化的气体,但优选地所述气体是被作为气体脉冲提供,每个脉冲均在各个射频脉冲串之前的间期开始并且基本在所述射频脉冲串开始的同时结束或在各个射频脉冲串过程中结束。
根据本发明的另一个方面,一种组织处理系统可包括一个射频发生器、一个处理设备,所述处理设备可与所述发生器及与一个可离子化的气体源连接,并且在供给所述可离子化的气体并由所述发生器提供能量时,能够在所述设备的喷嘴处可操作地产生一束等离子体流,其中所述系统被调整来向所述设备提供一串射频能量脉冲串形式的处理能量,所述脉冲串的单个脉冲的能量水平低于诱导表皮空泡形成通常所需的能量水平阈值。在该优选的实施方案中,所述脉冲串的每个脉冲的能量不低于1焦耳,但不超过2焦耳。所述射频脉冲的能量可被预设于这两个值之间。
根据本发明的第三方面,提供了一种通过施加热等离子体能使真皮的网状细胞结构整容性地再生的方法,其中所述方法包括将等离子体脉冲串形式的所述热等离子体能施加于所述皮肤表面,所述脉冲串中的脉冲的能量水平低于诱导表皮空泡形成通常所需的能量水平,并且将所述脉冲串基本均匀地施加于所述待处理的皮肤表面的一个区域上,以在所述真皮中产生一个热改变区带,在此炎性反应可使所述真皮网状细胞结构再生。氮气可被用作所述可离子化的气体。
在该优选的方法中,使用一个手持设备施加所述热等离子体能,该设备在相继脉冲串间的间期在相继处理部位之间移动。可以经多轮移动将所述能量施加到一个预定的皮肤表面区域,每轮移动包括将热等离子体能施加于相继处理部位上。
根据本发明的第四方面,提供了一种从真皮的一个区域除去光损伤组织并通过施加热等离子体能来使所述区域中的真皮的网状细胞结构再生的方法,其中所述方法包括将一系列等离子体脉冲串形式的所述热等离子体能施加于所述皮肤表面区域,每个脉冲串中的脉冲的能量水平低于诱导表皮空泡形成通常所需的能量水平,并且所述脉冲串被基本均匀地施加于所述区域上,以产生一个包含至少部分的光损伤乳头状真皮的热损伤区带,所述方法还包括诱导低于热损伤水平的炎性反应,以使所述真皮的网状细胞结构再生,所述再生的真皮可替代至少部分的所述光损伤的真皮。有利地,替代这种光损伤的真皮可降低表面皱纹的深度,至少部分与光损伤有关的日光性弹性组织变化被替代。一般而言,热损伤除去深度包括除去与光损伤相关的表皮和色素变化,以及恶化前的细胞变化。热改变和网状细胞再生的同时,皮肤松弛和下垂被至少部分地收紧。
根据本发明的又一方面,提供了一种整容方法,所述方法使用一个被调整来供给等离子体脉冲串形式热能的热能源来使组织中与纹理或皱纹相邻的皮肤组织的网状细胞结构再生,所述方法包括这样的一个步骤,即操作所述热能源以在与所述纹理或皱纹相关的真皮-表皮结合部(DEJunction)区中形成热改变组织的相邻第一和第二区,所述第一区与所述第二区重叠,并且热改变程度比所述第二区更深。
根据本发明的再一方面,提供了一种整容方法,该方法使用一个具有较低热时间常数且被调整以供给等离子体脉冲串形式热量的热能源来使与纹理或皱纹相邻的真皮的网状细胞结构再生,所述方法包括这样的一个步骤,即操作所述热能源并将其定向于与所述纹理或皱纹相邻的皮肤表面,以在皮肤的表皮和真皮的区域中形成相邻的热改变组织第一和第二相邻区,所述第一区与所述第二区重叠,并且热改变程度达在送递所述热量后数天与所述第二区分离,并且所述分离的深度依赖于所送递能量的量及所述皮肤的热容量。
本发明还包括一种使用等离子体流来使皮肤组织的网状细胞结构再生的方法,所述等离子体流通过将一个射频场施加于一束可离子化的气体形成,其中所述方法包括施加至少一个离散的射频脉冲串形式的所述射频场,所述脉冲串具有一个预设的脉冲数n,其中n在2-5的区间内。
本申请人已经发现,将两个、三个或多个单独的等离子体脉冲的脉冲串形式的一束等离子体流施加于皮肤表面上的单个位点,比以一个单脉冲送递相同的总能量时产生更好的新胶原生成(neocollagenesis),即所述脉冲串中的每个脉冲具有的能量的量比通常应用于所述已知系统的脉冲能量稍低,所述脉冲串中的脉冲被分隔相对较短的时间以使得皮肤在每个单独的等离子体脉冲之间没有时间充分冷却。这种改良被认为由于在皮肤表面有着较低皮肤表面温度而在真皮-表皮结合部有着较高温度所致。理论建模已表明,脉冲宽度的变化(所有其他参数相同)会改变在给定皮肤深度处随时间的温度谱。因此,例如对短脉冲送递和长脉冲送递进行比较,在相对短时间施加给定量的能量可产生较高的皮肤表面温度,但在相当深处(例如在真皮-表皮结合部)产生较低的温度,而在相对较长时间施加相同量的能量会产生较低的表面皮肤温度,但在相同深度处产生较高的温度。
附图说明
下面将参照如下附图以示例的形式描述本发明。
图1是本发明的组织处理系统的示意图;
图2是图1的系统的组织处理设备成型部分的纵向截面。
图3是用于图1的系统中的一个射频发生器的框图。
图4A、4B和4C的示波器图示出操作电磁阀(solenoid valve)控制气流以及向所述组织处理设备提供射频能量;
图5的组织切片(histological slide)显示在使用一个已知系统处理后得到的皮肤组织的网状细胞结构的网状细胞再生。
图6的组织切片显示在使用一个本发明的系统处理后的组织再生;及
图7由两种组织切片构成,所述组织切片来自在使用一个本发明的系统处理后5天取样的剥脱活检组织。
具体实施方式
参考图1,一种本发明的组织处理系统具有一个射频发生器形式的处理电源10,并具有一个用户界面14,所述处理电源10安装于立于地上的发生器外壳12内,所述用户界面14用于将所述发生器设定至不同能量水平设置。手持组织处理设备16通过缆绳18连接至所述发生器。所述设备16包含一个手持部件,所述手持部件具有一个可再利用的手持部件本体16A和一个一次性使用的头部(nose)组件16B。
所述发生器外壳12具有一个设备容器20,用于在不使用时保存所述设备。
在所述缆绳18内有一根同轴电缆以及一根气体供给管,所述同轴电缆用于将来自所述发生器10的射频能量输送至所述设备16,所述气体供给管用于供给来自所述发生器外壳12内部的气体库或气体源(未显示)的氮气。所述缆绳还包含一条光纤线,用于将来自所述发生器外壳中的光源的可见光传送至所述设备。在所述缆绳18远端,所述缆绳18进入所述手持部件本体16A的套管22中。
如图2中所示,在所述可再利用的手持部件本体16A中,所述同轴电缆18A连接于内电极26和外电极27。所述内电极26在所述外电极27内沿纵向伸展。在它们之间是一个耐热管29(优选由石英制成),安装于所述一次性使用的设备头部组件16B中。当所述头部组件16B被紧固到所述手持部件本体16A上时,所述管29内部与所述气体供给管内部连通,所述头部组件16B被接纳至所述本体16A中,使得所述内电极26沿轴向伸展至所述管29中,且所述外电极27围绕所述管29的外部伸展。
一个螺旋缠绕的钨线圈形式的共振器31位于所述石英管29中,确定所述线圈的位置,使得当所述一次性使用的头部组件16B以合适的位置被紧固到所述手持部件本体16A上时,所述线圈的近端与所述内电极26的远端相邻。缠绕所述线圈使得它与所述石英管29的内表面相邻,并且与之紧密接触。
在使用所述设备中,通过一根供给管将氮气输送至所述管29的内部,在此它达到一个与所述内电极26远端相邻的位置。当经所述同轴电缆向所述电极26和27施加一个射频电压时,在所述管29内部的所述内电极的远端区中形成一个强的射频电场。所述场强被在所述发生器的工作频率下共振的所述螺旋线圈31加强,并且以此种方式,加速氮气向等离子体的转换,所述等离子体在所述石英管29的喷嘴29A作为射流喷出。所述喷嘴29A具有5mm的直径。以一个处理束轴(treatment beamaxis)32(该轴即所述管29的轴)为中心的所述等离子体流被定向于待处理的组织上,所述喷嘴29A通常被保持于距离所述组织表面数毫米。
所述手持部件16还包含一个光纤光导34,它通过所述缆绳18伸展至所述手持部件中,在这里它的远端部分34A向内折向由所述石英管29所限定的处理轴,以在一个限定与所述喷嘴29A相邻的出口的远端处终止。所述纤导在该点的倾角可限定一个投射轴,用于将一个靶标记物投射至组织表面上。
在重复使用所述设备后,需要更换所述石英管29及其共振线圈31。包含这些元件的所述一次性使用的头部组件16B可容易地安装至所述设备的可再利用部分16A上以及从其上卸下,所述设备的两个部件16A和16B之间的界面可提供所述石英管29和所述线圈31相对于所述电极26和27的精确定位。
参考图3,射频能量产生于一个磁控管200中。以两种方式为磁控管200供电:第一种方式是针对所述阴极的高DC电压,该电压由AC电源单元204供给的高压电源202生成;第二种方式是来自一个加热器电源单元的用于所述阴极加热器的灯丝电源(filament supply)206。所述高压电源202和所述灯丝电源206均耦合于一个CPU控制器210,所述CPU控制器用于控制所述磁控管的功率输出。一个用户界面212耦合于所述控制器210,用于设置输出功率模式等函数。
所述AC电源单元204与外部主AC电源连接,并且也产生用于所述CPU控制器210的供给电压。
所述磁控管200及与其相连的UHF同轴馈送转换器(coaxial feedtransition)可产生所述高UHF带(通常为2.475GHz)的射频能量,该能量通过一条50欧姆的线214供给UHF循环电路216,然后供给一个组成患者隔离屏障的UHF隔离器218。来自所述隔离器218的输出220经一个射频同轴电缆与所述手持部件连接(二者都未在图3中显示)。
通过所述高压电源202生成用于所述磁控管的高压供给输出依赖于同时从所述CPU控制器210发出的两个控制信号:
(i)线220上的磁控管电流需量信号通过以下方式决定来自所述磁控管200的瞬时射频输出功率水平:控制从所述高压电源202馈送至所述磁控管的高压电源输出电流。该输出电流与所述第一控制线222上的信号的电压成比例。由于来自所述磁控管200的UHF输出功率水平与来自所述高压电源202的供给电流成比例,因此所述第一控制线222上的磁控管电流需量信号决定来自所述磁控管的射频输出功率水平。
(ii)来自所述CPU控制器210的第二控制线224上的输出启动信号开启和关闭所述高压电源输出。所述CPU控制器210控制所述输出启动控制信号,以决定从所述高压电源获得的输出电流的持续时间,从而决定功率由所述磁控管200产生并抵达所述50欧姆的线214的持续时间。
所述UHF循环电路216可为所述磁控管及与其相连的UHF同轴馈送转换器的输出提供一个恒定的50欧姆的负载阻抗。除耦合至所述磁控管和馈送转换级(feed transition stage)200的第一端口之外,所述循环电路216还具有一个耦合至所述UHF隔离级(isolation stage)218的第二端口216A,以及一个将反射功率馈送至一个电阻性功率转储器(resistive power dump)226的第三端口216B。一个反射功率感测连接器228可为所述控制器210提供一个感测信号。
由于UHF在所述UHF循环电路216、所述隔离器218、它们的相互连接(未显示)和至所述手持部件的同轴电缆馈电线(未显示)中有所损耗是已知的或者可以被另外补偿,因此在所述手持部件输入处的UHF功率水平可受到控制。
用于所述手持部件的氮气是从一个加压气体供给器230经所述缆绳18(见图1)馈送,所述气体供给器230连接至与所述缆绳18耦合的气体供给出口232。位于所述气体供给器230和所述气体供给出口232之间的供气通道中的是一个电磁阀234,所述电磁阀234由所述CPU控制器210经一根控制线236操作。
当需要产生一束等离子体流时,运行所述CPU控制器210以开启所述电磁阀234,使得气体在压力下流向所述手持部件,所述气体供给控制信号经所述气体供给控制线236被施加至所述电磁阀234。同时,在所述第一控制线222上以电压水平的形式产生所述磁控管电流需量信号。
在开启所述电磁阀234、使气流入所述手持部件(图1)之后的一个预定时间,所述CPU控制器210激活所述第二控制线224上的输出启动信号,从而依照所述第一控制线222上的控制电压幅度产生某一功率水平的UHF功率。在输出启动信号存在于所述第二控制线224期间,就会产生一个已知功率水平的UHF功率。
下面还参考图4A,该图示出所述气体供给电磁阀控制信号(上迹线,CH1)及从所述UHF输出终端220馈送的UHF功率输出(下迹线,CH2),这些迹线由监视施加于所述手持部件的功率的射频功率检测器获得并且被显示为电压幅度。当所述气体电磁阀关闭时,无气流向所述手持部件,并且由所述上迹线表示的电压较高。当开启所述阀以使得气体可流动时,所述电压较低。当射频功率从所述输出终端220(图3)供给时,所述下迹线较高,其水平与所述输出功率成比例;当无射频功率供给时,所述第二迹线较低。
图4A显示了射频能量的双脉冲脉冲串的产生。在该实例中,每个脉冲的脉冲宽度约是8.2ms——相当于2J的脉冲能量阀,并且前一脉冲的终点和后一脉冲的起点之间的时间间隔或间距为23ms。将所述上迹线和下迹线并排一起可看出,所述气体供给阀在所述脉冲串启动之前开启,大约在脉冲串启动之时关闭。这意味着,在所述脉冲串过程中,气流过所述手持部件,并且可以由在所述手持部件中被由所述射频脉冲串产生的电场离子化。
参考图3并结合图4A,在产生双脉冲的脉冲串的过程中,如图4A所示,形成宽度为T1的两个脉冲,每个均送递相同量的能量并且被时间T2隔开。所述CPU控制器210运行,目的是产生如下作用:
(a)通过气体供给控制线236激活所述电磁阀234来释放气体,然后停止;
(b)所述UHF功率水平由所述控制器210和所述高压电源202之间的第一控制线222上的电压信号设置;
(c)通过以下方式产生一个具有已知功率水平P1和脉冲宽度T1的单独脉冲:经第二控制线224启动所述高压电源输出达时长T1(忽略已知的且可重复的传播延时和其他激活延时);
(d)通过消除第二控制线224上的所述启动信号关闭所述高压电源202,这导致所述UHF功率输出在时间T1后停止,并维持时长T2;
(e)经所述第二控制线224再次启动所述高压电源202达又一时长T1,这会导致再次进行UHF功率送递达与所述脉冲串的第一脉冲相同的时长T1。
如图4B中所示,三脉冲脉冲串的产生需要重复步骤(d)和(e)。四脉冲脉冲串或五脉冲脉冲串的产生需要分别重复步骤(d)和(e)两次和三次。
对所述用户界面212(图3)的设置决定所述脉冲串的如下参数:脉冲串中的脉冲数、单个脉冲的能量(与所述射频功率P1和脉冲时长T1成比例)和相继脉冲间的时间间隔。由所述CPU控制器210自动确定气体释放的合适时机,以保证产生最佳的以及一致的等离子体。
图4B中显示的三脉冲脉冲串包含这样的三个脉冲,即每个具有约8ms的脉冲宽度,且每个与相邻的一个或两个脉冲间隔时长23ms。如上述参考图4A所述的二脉冲脉冲串的情况那样,每个脉冲的脉冲能量均为2J。显示于图4A-4C中的曲线表示优选的设置,其中优选具有2个或3个脉冲的脉冲串,每个单独脉冲送递的能量为2焦耳,每个脉冲串产生4焦耳或6焦耳的总能量。对于双脉冲脉冲串,每个脉冲串的总施加时间额定为40ms,对于三脉冲脉冲串,每个脉冲串的总施加时间额定为70ms。每个脉冲串优选以最高至4Hz的重复速率施加。
选择每个脉冲2焦耳的设置是由于这大致等于不会导致细胞空泡形成的最大能量,否则所述空泡会对随后的脉冲产生绝缘效应。
为了获知由所述脉冲串的每个单独脉冲送递的能量,并使得所述能量送递可重复,可能需要改变经所述电磁阀234(图3)至所述手持部件的所述气体供给的时间设定。例如如图4C中所示,根据一个变化方案,气体供给可以在整个所述脉冲串过程中连续进行。在这种情况下,会导致所述电磁阀在所述脉冲串开始前开放约70ms,并且继续开放至所述第三个脉冲结束,所述电磁阀234开放的总持续时间在这种情况下是约150ms。
所述CPU控制器210产生的用于所述磁控管高压电源202和所述电磁阀234的控制信号受固件的控制。因此,固件设置与所述用户界面设置结合可决定所述脉冲串内每个单独脉冲的射频脉冲宽度,并且所述气体电磁阀激活的时间设定成这样,即在每个单独脉冲中实现准确且可预测的能量送递,目的是优化等离子体产生的效率并使气体的使用最少。所述固件设置还确定每个单独脉冲过程中的射频功率幅度。如图4A-4C的射频功率迹线所示,所述射频功率水平在每个单独脉冲过程中是大致恒定的,所不同的是每个脉冲在脉冲开始后有一个短暂的初始功率加强,以帮助触发等离子体生成。
在优选的处理中,所述设备16以单轮移动或者两轮移动的方式在待处理的组织区上移动,所述设备在向皮肤表面施加每个脉冲串的间期移动。对于单轮移动处理,优选地以连续线的形式施加脉冲,并排这些线,从而使其均匀地覆盖于所需区域上。对于两轮移动处理,在所述第一轮移动过程中形成的所述连续线处于第一方向,并且在所述第二轮移动过程中形成的所述脉冲的连续线处于第二方向,所述第一方向和第二方向相互成约90°角。
以脉冲串得到的处理结果通常优于以现有技术的单脉冲得到的结果,所述单脉冲的脉冲宽度是可从现有系统获得的最大脉冲宽度(4焦耳时约30ms)。具有相同总能量的脉冲串产生了改良的结果。
两轮移动的双脉冲脉冲串(每个脉冲2焦耳,一共4焦耳)与在所述两轮移动的每轮移动中均以单脉冲送递的相同能量相比,可产生改良的新胶原生成。热损伤和改变区带似乎也比单脉冲产生的结果更均匀。两轮移动的三脉冲脉冲串与总能量相同的单脉冲相比可产生类似的优良结果。
图5显示来自使用上文描述的现有系统处理的组织学结果。在该实例中,施加了一系列单脉冲的等离子体能量,每个脉冲具有3.5J的脉冲能量。该组织学结果显示了处理后第10天的皮肤组织。所述样品以天狼星红(PSR)染色,使得胶原纤维在偏振光下呈现双折射。一些新胶原的单体纤维出现在所述热改变区带中,所述区带由于其中的胶原纤维在处理后变性而出现深蓝色。
图6是来自两轮移动处理8天时的皮肤组织的组织学结果,其中所述脉冲以本发明的离散脉冲串的形式施加,使用了相同的施加方法,每个脉冲串由两个能量脉冲组成并且使这些脉冲串中的每个脉冲的能量水平为经选择低于诱导表皮空泡形成的水平。施加于该切片的偏振与图1中的稍有不同,使得可以观察到基质形式中排布的大量新胶原纤维形成真皮-表皮连接的新网嵴(Rete ridge)。这表示新胶原的真皮再生水平远高于在单脉冲处理中观察到的水平。
图7是来自根据本发明处理后5天取样的剥脱活检组织的组织学结果,以一系列由H&E(苏木精和伊红)和PSR染色的连续电镜照片示出了所处理的表皮的整个宽度的特征。该组织学结果与以施加单脉冲得到的结果相比的显著特征是在整个处理区带更加均匀的效果。
显而易见的是,可以对上述的系统和方法进行改进。例如,所述喷嘴直径可处于2mm-8mm的区间内。然而,使用非5mm的喷嘴直径将需要依照所述喷嘴直径的平方调整所述发生器能量设置。
Claims (39)
1.一种组织处理系统,包括一个射频(r.f.)发生器和一个处理设备,所述处理设备可与所述发生器及与一个可离子化的气体源连接,并且在供给所述可离子化的气体并由所述发生器提供能量时,能够在所述设备的喷嘴处可操作地产生一束等离子体流,其中所述发生器被调整来向所述设备提供至少一串离散的射频能量脉冲串形式的处理能量,所述脉冲串具有一个预设的脉冲数n,其中2≤n≤5。
2.根据权利要求1的系统,其中所述发生器被调整来提供这样的脉冲串,即所述脉冲串的每个脉冲具有2ms-20ms区间内的脉冲宽度。
3.根据权利要求1或2的系统,其中所述发生器被调整来提供这样的脉冲串,即所述脉冲串的每个脉冲之间的时间间隔小于100ms。
4.根据权利要求1或2的系统,其中所述发生器被调整来提供这样的脉冲串,即所述脉冲串的每个脉冲之间的时间间隔小于40ms。
5.根据权利要求3或4的系统,其中所述发生器被调整来提供这样的脉冲串,即每个脉冲之间的时间间隔小于10ms。
6.根据前述权利要求任一项的系统,其中所述发生器被调整来提供这样的脉冲串,即所述脉冲串的每个脉冲的能量在1焦耳-2焦耳的区间内。
7.根据前述权利要求任一项的系统,其中所述发生器被调整来提供这样的脉冲串,即所述脉冲串具有至少三个脉冲,且各个脉冲对之间的时间间隔不同。
8.根据前述权利要求任一项的系统,具有一个用户操作的驱动器,其中所述发生器被调整来以一种这样的模式操作,所述模式中对所述驱动器的每次操作会导致所述发生器提供单独一个所述脉冲串。
9.根据前述权利要求任一项的系统,具有一个用户操作的驱动器,其中所述发生器被调整来以一种这样的模式操作,所述模式中对所述驱动器的一次操作会导致所述发生器以预设的脉冲串重复速率提供一系列所述脉冲串。
10.根据权利要求9的系统,其中所述发生器被调整,使得所述脉冲串重复速率在0.5Hz-5Hz区间内。
11.根据前述权利要求任一项的系统,其中所述发生器被这样配置,即所述脉冲串的相继脉冲之间的时间间隔是可变的。
12.根据前述权利要求任一项的系统,其中所述发生器被这样配置,即所述脉冲串的脉冲宽度是可变的。
13.一种组织处理系统,包括一个射频(r.f.)发生器和一个处理设备,所述处理设备可与所述发生器及与一个可离子化的气体源连接,并且在供给所述可离子化的气体并由所述发生器提供能量时,能够在所述设备的喷嘴处可操作地产生一束等离子体流,其中所述系统被调整来向所述设备提供射频能量脉冲串形式的处理能量,所述脉冲串的单个脉冲的能量水平低于诱导表皮空泡形成通常所需的能量水平阈值。
14.根据权利要求13的系统,其中所述发生器被调整来提供这样的脉冲串,即所述脉冲串的每个脉冲的能量为1焦耳-2焦耳。
15.根据权利要求13或14的系统,其中所述发生器被调整来提供这样的脉冲串,即每个脉冲串具有至少2个但不超过5个脉冲。
16.一种通过施加热等离子体能使真皮的网状细胞结构整容性地再生的方法,其中所述方法包括将离散的等离子体脉冲串形式的所述热等离子体能施加于所述皮肤表面,所述脉冲串中的脉冲的能量水平低于诱导表皮空泡形成通常所需的能量水平,并且所述脉冲串被基本均匀地施加于所述待处理的皮肤表面的一个区域上,以在所述真皮中产生一个热改变区带,在此炎性反应可使所述真皮网状细胞结构再生。
17.根据权利要求16的方法,其中所述等离子体为一种氮气的等离子体。
18.根据权利要求16或17的方法,其中每个脉冲的能量水平在1焦耳-2焦耳的区间内。
19.根据权利要求16-18任一项的方法,其中至少部分的所述脉冲串均具有至少两个但不超过五个脉冲。
20.根据权利要求16-19任一项的方法,其中至少部分的所述脉冲串的每个的脉冲均具有2ms-20ms区间内的脉冲宽度,并且所述脉冲串的脉冲之间的时间间隔在10ms-40ms的区间之间。
21.根据权利要求19的方法,其中至少部分的所述脉冲串的每个均具有至少三个脉冲并且各个脉冲对之间的时间间隔是可变的。
22.根据权利要求16-19任一项的方法,其中每个脉冲串中的脉冲之间的时间间隔不超过100ms。
23.根据权利要求16-22任一项的方法,其中以一系列离散的所述等离子体脉冲串形式将所述热等离子体能施加于所述皮肤表面,所述脉冲串以一个预设的重复速率出现,相继脉冲串之间的间隔为150ms-2s。
24.根据权利要求23的方法,其中所述重复速率在0.5Hz-5Hz的区间内。
25.根据权利要求16-24任一项的方法,其中使用一个手持设备施加所述热等离子体能,所述设备于相继脉冲串间的间期在相继处理部位之间移动。
26.根据权利要求25的方法,其中经多轮移动将热等离子体能施加于一个预定的皮肤表面区域,每轮移动包括将热等离子体能施加于相继处理部位上。
27.一种从真皮的一个区域除去光损伤组织并通过施加热等离子体能来使所述区域中的真皮的网状细胞结构再生的方法,其中所述方法包括将将一系列等离子体脉冲串形式的所述热等离子体能施加于所述皮肤表面,每个脉冲串中的脉冲的能量水平均低于诱导表皮空泡形成通常所需的能量水平,并且所述脉冲串被基本均匀地施加于所述区域上,以产生一个包含至少部分光损伤乳头状真皮的热损伤区带,所述方法还包括诱导低于热损伤水平的炎性反应,以使所述真皮的网状细胞结构再生,所述再生的真皮可替代至少部分的所述光损伤的真皮。
28.根据权利要求27的方法,其中替代光损伤的真皮会降低表面皱纹的深度。
29.根据权利要求27的方法,其中替代光损伤的真皮会消除并替代至少部分与光损伤有关的日光性弹性组织变化。
30.根据权利要求27的方法,其中热损伤的深度可除去与光损伤相关的表皮和色素变化。
31.根据权利要求27的方法,其中热损伤的深度可除去与光损伤相关的表皮和恶化前的细胞变化。
32.根据权利要求27的方法,其中所述热改变和网状细胞再生至少部分地收紧皮肤松弛和下垂。
33.一种整容方法,所述方法使用一个被调整来供给等离子体脉冲串形式热能的热能源来使皮肤中与纹理或皱纹相邻的所述皮肤组织的网状细胞结构再生,所述方法包括这样的一个步骤,即操作所述热能源以在与所述纹理或皱纹相关的真皮-表皮结合部区中形成热改变组织的相邻第一和第二区,所述第一区与所述第二区重叠,并且热改变程度比所述第二区更深。
34.一种整容方法,所述方法使用一个具有较低热时间常数且被调整来供给等离子体脉冲串形式热量的热能量源来使与纹理或皱纹相邻的真皮的网状细胞结构再生,所述方法包括这样的一个步骤,即操作所述热能源并将其定向于与所述纹理或皱纹相邻的皮肤表面,以在皮肤的表皮和真皮的区域中形成热改变组织的相邻第一和第二区,所述第一区与所述第二区重叠,并且热改变程度达在送递所述热能量后数天与所述第二区分离,并且所述分离的深度依赖于所送递的能量的量及所述皮肤的热容量。
35.一种使用等离子体流来使皮肤组织的网状细胞结构再生的方法,所述等离子体流通过将一个射频场施加于一束可离子化的气体形成,其中所述方法包括施加至少一个射频脉冲串形式的所述射频场,所述脉冲串具有一个预设的脉冲数n,其中n在2-5的区间内。
36.根据权利要求35的方法,其中在每次操作用户操作的驱动器时生成单独一个脉冲串。
37.根据权利要求35的方法,其中在操作用户操作的驱动器时生成一系列离散的脉冲串,这种脉冲串在松开所述驱动器之前一直产生。
38.一种整容方法,所述方法使用一个被调整来供给等离子体脉冲串形式热量的热能源来使皮肤组织的网状细胞结构再生,所述皮肤组织的网状细胞结构已退化形成所述组织中的纹理或皱纹,所述方法包括这样的一个步骤,即操作所述热能源以在与所述纹理或皱纹相关的真皮-表皮结合部区中形成热改变组织的相邻第一和第二区,所述第一区与所述第二区重叠,并且热改变程度比所述第二区更深。
39.一种整容方法,所述方法使用一个具有较低热时间常数的热能源使所述已退化形成纹理或皱纹的真皮的网状细胞结构再生,所述方法包括这样的一个步骤,即操作所述热能源以产生一个等离子体脉冲串,并将其定向于待处理的皮肤表面,以在皮肤的表皮和真皮区中形成热改变组织的相邻第一和第二区,所述第一区与所述第二区重叠,并且热改变程度达在送递所述热能量后数天与所述第二区分离,并且所述分离的深度依赖于所送递的能量量及所述皮肤的热容量。
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