CN101908496A - 基片传输装置及半导体加工设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种基片传输装置及半导体加工设备,基片传输装置包括传输皮带,传输皮带的旁边对应于传输的基片的位置设有推动片,推动片通过电机驱动,能对基片进行精确定位和校准。可以在传输皮带沿传输方向的一端或两端设有推动片;还可以在传输皮带沿传输方向的一侧或两侧设有推动片。应用在太阳能电池制造工艺中的等离子气相沉积设备或其它的半导体加工设备中,可以解决基片在传输过程中的位置精确较准问题,保证了基片在制程设备的载板上的准确位置,达到较好的工艺效果。
Description
技术领域
本发明涉及一种半导体加工设备,尤其涉及一种基片传输装置及半导体加工设备。
背景技术
在太阳能电池制造工艺过程中,经常需要搬运用于制备电池的基片。为了提高整个制造过程的效率,自动传输逐渐的取带了手动搬运取片放片过程。
如图1所示,现有技术中,搬运流程是先用机械手从基片盒(cassette)中将基片1取出来,一片一片等间距的放置在传输皮带2上,传输皮带2采用步进电机3控制,可以控制在放置基片1时,整个传输皮带2停止一段时间,传输皮带2运行一段距离(基片1间的距离),再放置另一基片1,待传输皮带2上放满基片1时,由另一机械手批量抓取或吸取基片1,放置在制程设备(如等离子气相沉积设备,PECVD)的载板位置,载板进入设备中进行工艺制程。
在整个基片1传输过程中,尤其是在由机械手将基片1从基片盒中取出放于传输皮带2时,为保证最后批量吸取基片1放于载板位置的精确,必须要求机械手能将基片1准确的放于传输皮带2上,若机械手在搬运基片1时造成基片1滑动而使摆放的位置不精确,必然导致最终放在载板上位置的不准确,影响工艺结果,甚至导致碎片等。
现有技术中,通过增强机械手的稳定性和操作,以保证从基片盒中里取出基片1放置于传输皮带2的传递精确性,来确保基片1的在传输皮带2上的位置精确性。
上述现有技术至少存在以下缺点:
传输皮带2在传送基片1的运动过程中是会产生位置误差的,一旦出现位置不准确时,就很难去调整,所以无法达到最佳效果。
发明内容
本发明的目的是提供一种能对基片进行精确定位和校准的基片传输装置及半导体加工设备。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的:
本发明的基片传输装置,包括传输皮带,所述传输皮带的旁边对应于传输的基片的位置设有推动片,所述推动片通过驱动装置驱动。
本发明的半导体加工设备,包括上述的基片传输装置。
由上述本发明提供的技术方案可以看出,本发明所述的基片传输装置及半导体加工设备,由于传输皮带的旁边对应于传输的基片的位置设有推动片,推动片通过驱动装置驱动,能对基片进行精确定位和校准。
附图说明
图1为现有技术中的基片传输装置的结构示意图;
图2为本发明基片传输装置的具体实施例一的结构示意图;
图3为本发明基片传输装置的具体实施例一的应用状态参考图;
图4为本发明基片传输装置的具体实施例二的结构示意图。
具体实施方式
本发明的基片传输装置,其较佳的具体实施方式是,包括传输皮带,传输皮带的旁边对应于传输的基片的位置设有推动片,推动片通过驱动装置驱动,能对基片进行精确定位和校准。
具体可以在传输皮带沿传输方向的一端或两端设有推动片;
还可以在传输皮带沿传输方向的一侧或两侧设有推动片,具体可以在传输皮带沿传输方向的两侧相对设置至少一对推动片。
传输皮带沿传输方向的端面和侧面可以同时设置推动片,也可以分别单独设置推动片。
驱动装置可以包括驱动电机或驱动气缸等,也可以采用其它的驱动装置。
本发明的半导体加工设备,其较佳的具体实施方式是,包括上述的基片传输装置。该设备可以为等离子气相沉积设备,也可以为其它的半导体加工设备。
本发明可以很好的解决基片在传输过程中的位置精确较准问题,保证了基片在制程设备的载板上的准确位置,以确保达到好的工艺效果。
具体实施例一:
如图2、图3所示,在机械手从基片盒中取片放于传输皮带2上时,由一个电机3驱动的推动片5,将基片1沿x方向推动,在传输皮带2不转动的情况下基片1在x方向前进的距离由推动片5的行程决定,而电机3通过传动轴4驱动推动片5,即可通过设置电机3转动量来确定推动片5的行程,进而精确定位基片在x方向位置。
具体实施例二:
如图4所示,在y方向上,可以采用两套电机3驱动推动片5,只要精确设置电机3的转动量,即可精确定位基片1在传输皮带2上的相对位置。
所以,采用电机3驱动推动片5来推动基片1的方式,即可实现精确定位基片1在传输皮带2上的相对位置。
本发明可以通过调整电机转动量,精确定位和调整基片在传输皮带上的相对位置;还可通过调整电机的转动量,适应不同尺寸规格的基片。在基片传输过程中使用推动片对基片的位置进行调整,可以满足精确放于载板的需要。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种基片传输装置,包括传输皮带,其特征在于,所述传输皮带的旁边对应于传输的基片的位置设有推动片,所述推动片通过驱动装置驱动。
2.根据权利要求1所述的基片传输装置,其特征在于,所述传输皮带沿传输方向的一端或两端设有推动片。
3.根据权利要求1或2所述的基片传输装置,其特征在于,所述传输皮带沿传输方向的一侧或两侧设有推动片。
4.根据权利要求3所述的基片传输装置,其特征在于,所述传输皮带沿传输方向的两侧相对设置至少一对推动片。
5.根据权利要求1所述的基片传输装置,其特征在于,所述驱动装置包括驱动电机或驱动气缸。
6.一种半导体加工设备,其特征在于,包括权利要求1至5任一项所述的基片传输装置。
7.根据权利要求6所述的半导体加工设备,其特征在于,该设备为等离子气相沉积设备。
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2009
- 2009-06-05 CN CN2009100861480A patent/CN101908496A/zh active Pending
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