CN101856880A - 一种压力机滑块液压提升机构 - Google Patents

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Abstract

一种压力机滑块液压提升机构,是将连杆下端经轴瓦安装一轴线与连杆垂直的销轴,所述的销轴两端与一直立设置在油缸内的活塞用销轴固定螺栓固定,所述的油缸直接制作在滑块上,在滑块上面开出两条进出油口。分别在缸盖的相应部位安装上缸体密封圈与活塞密封圈,接着用缸盖固定螺栓将缸盖固定在滑块的正确部位。当液压油从上腔进出油口进入液压缸上腔时,则活塞做向下的运动,由于连杆是与压力机的曲轴安装在一起,无法做上下的运动,所以,此时滑块就向上运动,同理,当液压油从下腔进出油口进入液压缸下腔时,则滑块向下运动。

Description

一种压力机滑块液压提升机构
技术领域
本发明涉及一种压力机的滑块提升机构,特别是一种压力机滑块液压提升机构。属于压力机技术领域。
背景技术
现有的技术中,压力机的滑块经销轴连接在连杆的端部,连杆的另一端与曲轴相连接,曲轴转动时,连杆带动滑块做上下工作运动,滑块带动安装在其上的模具工件的毛坯材料进行加工。由于模具本身有一定的高度,同时不同的工件所采用的模具也是不一样,但是,由于滑块的工作行程就是曲轴的偏心回转的直径,其参数固定不变,所以,为了更换与安装不同的模具,压力机的闭合高度,即压力机的滑块底平面距工作台的距离必须在适当的范围可用调节。现有的压力机这种闭合高度的调节都是通过丝杠传动的方式实现闭合高度调节的,这种的调节方式主要存在:效率较低、容易出现故障、以及安全性较低的缺陷。
发明内容
本发明的目的在于:提供一种压力机滑块液压提升机构,这种机构与现有的压力机滑块的提升机构相比具有效率较高、不容易出现故障、安全性较高、同时又易于操作。
本发明实现上述目的所采用的技术方案是:一种压力机滑块液压提升机构,它是由滑块、缸盖固定螺栓、缸体密封圈、销轴固定螺栓、连杆、销轴瓦、销轴、活塞密封圈、缸盖、活塞等主要零件所组成。连杆下端经轴瓦安装一轴线与连杆垂直的销轴,所述的销轴两端与一直立设置在油缸内的活塞用销轴固定螺栓固定,所述的油缸直接制作在滑块上,在滑块上面开出两条进出油口。
本发明的压力机滑块液压提升机构的工作原理是:当液压油从上腔进出油口进入液压缸上腔时,则活塞做向下的运动,由于连杆是与压力机的曲轴安装在一起,无法做上下的运动,所以,此时滑块就向上运动,同理,当液压油从下腔进出油口进入液压缸下腔时,则滑块向下运动。
有益效果:本发明由于采用将液压缸与滑块一体的结构方式,通过液压缸活塞的上下运动,带动滑块的上下运动,与机械驱动的方式相比,具有效率较高、不容易出现故障、安全性较高、同时又易于操作的优点,同时,在配置相应的液压元件后,还具有安全保护的作用。
附图说明
附图是本发明的原理图。
图中所示:1、滑块;2、缸盖固定螺栓;3、缸体密封圈;4、销轴固定螺栓;5、连杆;6、销轴瓦;7、销轴;8、活塞密封圈;9、缸盖;10、上腔进出油口;11、液压缸上腔;12、下腔进出油口;13、液压缸下腔;14、活塞。
具体实施方式
将连杆(5)下端经轴瓦(6)安装一轴线与连杆(5)垂直的销轴(7),所述的销轴(7)两端与一直立设置在油缸内的活塞(14)用销轴固定螺栓(4)固定,所述的油缸直接制作在滑块(1)上,在滑块(1)上面开出两条进出油口。分别在缸盖(9)的相应部位安装上缸体密封圈(3)与活塞密封圈(8),接着用缸盖固定螺栓(2)将缸盖(9)固定在滑块(1)的正确部位。当液压油从上腔进出油口(10)进入液压缸上腔(11)时,则活塞做向下的运动,由于连杆(5)是与压力机的曲轴安装在一起,无法做上下的运动,所以,此时滑块(1)就向上运动,同理,当液压油从下腔进出油口(12)进入液压缸下腔(13)时,则滑块向下运动。

Claims (3)

1.一种压力机滑块液压提升机构,其特征是:将连杆(5)下端经轴瓦(6)安装一轴线与连杆(5)垂直的销轴(7),所述的销轴(7)两端与一直立设置在油缸内的活塞(14)用销轴固定螺栓(4)固定,所述的油缸直接制作在滑块(1)上,在滑块(1)上面开出两条进出油口。
2.根据权利要求1所述的一种压力机滑块液压提升机构,其特征是:分别在缸盖(9)的相应部位安装上缸体密封圈(3)与活塞密封圈(8),接着用缸盖固定螺栓(2)将缸盖(9)固定在滑块(1)的正确部位。
3.根据权利要求1或2所述的一种压力机滑块液压提升机构,其特征是:当液压油从上腔进出油口(10)进入液压缸上腔(11)时,则活塞做向下的运动,由于连杆(5)是与压力机的曲轴安装在一起,无法做上下的运动,所以,此时滑块(1)就向上运动,同理,当液压油从下腔进出油口(12)进入液压缸下腔(13)时,则滑块向下运动。
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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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