CN101810544A - 应用基层用光敏化妆进行化妆的方法及实现该方法的装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供用光敏化妆来为人的角质材料化妆的方法,其中:a)将第一组合物基层施用到角质材料上,该第一组合物包含至少一种能够至少暂时形成对波长λ的防护的光学剂;以及b)将热稳定光致变色第二组合物施用到所述基层上,该第二组合物能够通过曝光于至少波长为λ的辐射下而显色。
Description
技术领域
本发明涉及为皮肤以及人的其他角质材料(material)化妆,所述其他角质材料例如嘴唇、指甲或头发。
背景技术
当化妆时,通常使用被沉积(deposite)在身体或脸上的有色物质。
最终效果不仅取决于所使用的产品的质量、特别是成分和所采用的显色(develop)技术,还取决于使用者的灵巧度。
一些使用者接受培训,希望提高灵巧度并因此提高化妆效果。其他使用者不接受培训,认为其自身不能应付培训或没有时间用于培训。
已经发现可以使用光敏化妆来获得令人满意的化妆效果。该效果的精确性超过使用者通常用传统化妆所获得的效果的精确性,而不需要特别的灵巧性或培训。
此外,光敏化妆可以产生超出化妆通常接受的颜色效果。这可以是模仿传统化妆图案的任何图案、或是文字、标志等。
光敏化妆基于使用至少一种热稳定光致变色组合物,该组合物能够通过光辐射显色,例如通过紫外线辐射,并且在至少一个小时内保持看起来与照射有关的变化。
为了产生光敏化妆妆容,至少一种热稳定光致变色组合物以至少一层的形式被沉积在待处理的区域上。
当应用该热稳定光致变色组合物时,它处于未显色状态并且它可以是有色的或无色的,这取决于所使用的成分。
通过以不均匀的方式照射,可以有选择地执行热稳定光致变色组合物层的照射。因此,特定区域不需要显色而其他区域显色,和/或一些区域可以显色以改变程度,从而导致不同的颜色强度。
所使用的光能保持相对低并且不会导致皮肤被晒黑。
专利EP-A-0 938 887中描述了一种用光敏化妆进行化妆的方法,该专利在此引入作为参考,其采用被施用到皮肤上的热稳定光致变色剂。该专利描述了选自二芳基乙烯和俘精酸酐的光致变色剂。
美国申请US-2007/0038270-A1公开了各种方法,其中,感光组合物以某种图案被沉积在皮肤上或被曝光于相应于待产生的图案的光线下。
如同任何化妆覆盖,需要能够清除光敏化妆。因为化妆使用者希望卸妆,以恢复未化妆的皮肤,特别是在晚上,因此该条件是重要的并且在实际中是必要的。此外,使用者重视能够在皮肤上施用新的化妆,用以产生不同于第一次的妆容。若残留了来自第一次妆容的痕迹,则产生第二次妆容时会出现问题。
光敏化妆可产生的问题是将皮肤染色的现象。
在卸妆时,使用者可能遗留未显色的热稳定光致变色组合物的痕迹。不幸地,例如在环境光下数小时后,这样的痕迹可能随后显色。那时,对于使用者来说,可能不方便进行进一步的卸妆。
发明内容
本发明的第一示例性实施例提供了一种用光敏化妆为人的角质材料化妆的方法,其中:
a)将光保护第一组合物基层施用到角质材料上,该第一组合物包含至少一种能够至少暂时形成对波长λ的防护的光学剂,特别是对320nm(纳米)至440nm范围内波长的防护;以及
b)将热稳定光致变色第二组合物施用到所述基层上,该第二组合物能够通过曝光于至少波长为λ的辐射下而显色。
表述“形成对波长λ的防护”意味着光学剂以至少为2的减弱因子减弱波长λ的辐射,使用用于测量吸收光谱的装置进行测量,将照射光限制在波长为λ±10nm的区域内。比例
其中,I(λ)和T(λ)如下文中所限定的一样,提供对波长λ处的减弱因子,如下文中描述的那样测量T(λ)。
通过使热稳定光致变色组合物的光致变色剂朝向在下面的角质材料迁移以及所述光致变色剂的显色更困难,本发明可降低皮肤被染色的风险。
当第一和第二组合物相互不易混合,该迁移可被进一步减慢或甚至被阻止,例如当组合物中的一种是含水的,而另一种是不含水的时,或反之亦然。
因此,可以为第二组合物选择不是热稳定光致变色组合物的溶剂的成分(溶剂、黏合剂等),并且反之亦然。作为示例,对于光保护第一组合物,例如,有机溶剂选自醇类或酮类,特别是乙醇或丙酮、乙酸烷基酯、碳质油,特别是异十二烷、或挥发性硅胶,并且对于热稳定光致变色第二组合物,选择含水或水醇溶剂,或反之亦然。
也可为这两种组合物选择两种有机溶剂或两种含水溶剂,使得在干燥时发生转变。作为示例,可使用包含乳胶的第一组合物。在干燥时,该组合物联合并使该层不影响热稳定光致变色组合物的施加。因此,较佳地,可在光敏化妆之前施用基层,例如,早于光敏化妆前15分钟,这可具有给基层留出时间干燥以及使它变成在被施加于其上的层中不溶解或几乎不溶解的效果,如在上文中提到的那样。此外,在干燥时,该基层可任选地形成相对平滑的表面,便于施用具有均匀厚度的热稳定光致变色组合物的层。由此使皮肤光滑,第二层可以较薄以及避免了厚度不均匀,厚度不均匀可能在显色后提供令人不愉快的视觉效果。
基层可被形成在比热稳定光致变色组合物更大的表面上。这便于热稳定光致变色组合物的施用,因为使用者不再需要担心要使两种被施用的组合物的轮廓精确一致。
波长λ可落入紫外线(280nm-400nm)或近紫外线(400nm-440nm)光谱内。
所述光学剂可以是具有80%或更小的耐光因数的非耐光遮光剂。
当热稳定光致变色组合物适于通过曝光于紫外线辐射下而显色时,则所述光学剂优选是具有80%或更小的耐光因数的非耐光遮光剂。
一个产生的优点为:当基层被施用到皮肤上时,使用者没有被完全防止晒黑,即使基层的范围大体上超出热稳定光致变色组合物的范围。在曝光于太阳下期间,该基层可能随后失去其防护紫外线的能力,这使得使用者至少在未被热稳定光致变色组合物覆盖的区域内逐步被晒黑。若遮光剂是耐光的,使用者可能担心施用的基层范围过大,因为担心在他们被晒黑的皮肤上留下痕迹。
该热稳定光致变色组合物可例如利用可寻址矩阵成像器显色。
如需要,则可在基层上施用至少一个中间层,从而将该中间层置于热稳定光致变色组合物与基层之间。
该中间层可具有提高热稳定光致变色组合物在基层上保持的效果,或相反地,可具有在卸妆期间便于从基层上移除热稳定光致变色组合物的效果。该中间层可以是聚合物或蜡层。
特别地,该中间层不需要作为热稳定光致变色组合物的显色的波长λ的防护。
此外,例如,可在基层下面施用另一组合物层,从而便于所述基层粘合到角质材料。因此,该基层不需要直接与皮肤接触。在一个变型中,基层被直接施用到皮肤或其他角质材料上。
本发明的其他示例性实施例还提供了一种在单一包装内的装置,包括:
·用于施用到角质材料上从而形成基层的第一组合物,所述第一组合物包含至少一种能够至少对落入280nm至440nm范围内、较佳为320nm至440nm范围内的波长λ形成防护的光学剂,该第一组合物包括具有小于或等于80%的耐光系数的非耐光遮光剂;以及
·用于施用到所述基层上的热稳定第二组合物。
所述非耐光遮光剂可初始具有针对日光紫外线辐射的大于或等于2或3、优选为5或10的防护力F。
为测量遮光剂的耐光性,该遮光剂被稀释在商品名为的C12-C15烷醇苯甲酸酯溶剂中。防护物Parsol 1789为非耐光防护物的示例,具有30%的耐光等级,耐光等级被定义为:曝光在由来自SUNTEST的辐照器产生的UVA辐射下一小时后的防护力除以初始防护力所得到的比例。
如下文中详细描述的,所述装置可包括能够选择性地发出紫外线和/或可见光的辐照器。
热稳定光致变色组合物
根据本发明,使用合适的热稳定光致变色组合物产生光敏化妆妆容。
本发明的热稳定光致变色组合物包含一种或多种热稳定光致变色剂,所述光致变色剂适用于产生光敏化妆妆容,即它们在光辐射的影响下改变显示。
用在本发明中的热稳定光致变色剂可以为热稳定的光致变色剂或不可逆转的光致变色剂,即一旦获得外观上的改变,它就是永久的。
根据所使用的热稳定光致变色剂,可以通过被曝光于合适的辐射(例如紫外线和/或近紫外线)而逐步使所述热稳定光致变色剂显色、或通过从包括一种或多种通过应用合适的辐射(例如超出近紫外线的可见光)而进入未显色状态中的处于显色状态的热稳定光致变色剂的热稳定光致变色组合物开始来产生光敏化妆妆容。
为了精确地获得所期望的化妆效果,该光敏化妆可例如相继地或交替地实现一种或多种热稳定光致变色剂的显色以及一种或多种热稳定光致变色剂的擦除。
在施用到角质材料上之前,热稳定光致变色组合物可以热稳定光致变色剂处于未显色状态的方式被容纳在包装装置中。在这种构造中,热稳定光致变色组合物可以热稳定光致变色剂处于未显色状态的方式被施用到角质材料上,随后施加可以将所述光致变色剂改变为显色状态的辐射。
在一变型中,光致变色组合物以热稳定光致变色剂处于未显色状态的方式被施用到角质材料上,随后所述热稳定光致变色剂进入显色状态,此后有选择地施加辐射,以将热稳定光致变色剂例如以局部化的方式改变成未显色状态,从而例如产生一种或多种图案,和/或获得所期望的颜色。
在另一变型中,热稳定光致变色组合物可以热稳定光致变色剂处于显色状态的方式被包含在包装装置中。随后以热稳定光致变色剂处于显色状态的方式施用热稳定光致变色组合物,以及以选择方式使这些热稳定光致变色剂进入未显色状态,从而形成一种或多种图案和/或获得所期望的颜色。
当试图使用其中的热稳定光致变色剂在组合物被施用到角质材料上时已处于显色状态的热稳定光致变色组合物时,可选择使用包括适用于将热稳定光致变色组合物曝光于光辐射下的光源的包装装置,所述光源例如在包含它的容器的附件内或在散布孔或施用构件处,其中,光辐射的波长适合用于使所述热稳定光致变色剂显色。
热稳定光致变色组合物可以包括热稳定光致变色剂,该热稳定光致变色剂能够例如在显色状态下产生颜色而例如在未显色状态下是无色的,或者包括在显色状态下分别产生不同颜色而在未显色状态下具有另一种颜色或无色的热稳定光致变色剂的混合物。
作为一个示例,可以使用包括各黄色的、蓝色的、和品红的热稳定光致变色剂的混合物的热稳定光致变色组合物,其中具有例如较大比例的在显色状态为黄色颜色的热稳定光致变色剂,例如当所有的热稳定光致变色剂都处于显色状态时选择比例,以获得接近皮肤颜色的色彩。因此,在本发明的一个示例中,以相对比例为大约50%、35%和15%使用各为黄色的、品红的、和蓝色的热稳定光致变色剂的混合物。
当热稳定光致变色组合物包括多个热稳定光致变色剂时,可使用多种热稳定光致变色剂,这些热稳定光致变色剂能够通过对具有不同主波长辐射曝光而显色,这样,通过选择对热稳定光致变色组合物曝光的辐射的波长,可以显出一种颜色而非另一种颜色。也可以在热稳定光致变色组合物中使用热稳定光致变色剂,当对各主波长曝光时,这些热稳定光致变色组合物能够被擦除,这意味着通过选择用于擦除热稳定光致变色组合物的光的特征,可以擦除一种给定的颜色而非另一种颜色。
热稳定光致变色剂的热稳定性的测量
确定光致变色剂是否为热稳定的试验如下所述。使用紫外线辐射以1J/cm2(焦耳每平方厘米)照射初始在未显色状态下具有颜色Ei的待测试剂1分钟,随后使用例如来自MINOLTA CM 2002(d/8,SCI,D65,2°观测器)的分光比色计确定其最终颜色Ef;在CIE Lab空间实验室中获得色差 该色差相应于最大显色。随后将所述化合物在25℃下置于全黑环境中60分钟,随后使用上述方法确定其颜色Er。若ΔEi,r的新值为相应于最大显色的ΔEi,f的值的至少50%,则认为该化合物是热稳定的。优选地,选择热稳定光致变色剂,使得一旦显色,获得的化妆就可以在视觉上保持超过一个小时,优选超过四个小时。
热稳定光致变色组合物可不含有热可逆光致变色化合物,例如掺杂氧化钛、螺吡喃、螺恶嗪、或苯并吡喃,除非这些化合物的某些形式落入热稳定光致变色剂的定义。
本发明的热稳定光致变色剂有利地为使得在初始照射I1下,所述光致变色剂通过变得有颜色而从大体上无色或稍微有点颜色的状态开始显色;并且在不同于第一照射的第二照射I2下,所述光致变色剂回到大体上无色或稍微有点颜色。在本发明的实施例中,照射I1为紫外线照射(290nm至400nm),特别是UVA(320nm至400nm)和/或UVB,更好在近紫外线(400nm至440nm),而照射I2为可见光照射,例如白光。
热稳定光致变色剂
可使用的光致变色剂的优选示例为属于二芳基乙烯族的化合物以及属于俘精酸酐族的化合物;然而,该名单为非限制性的。技术人员可参考专利EP-A-0938 887,该专利描述了热稳定光致变色剂的示例。
可通过如下分子式(I)表示二芳基乙烯:
其中,相对于双键,原子团R1和R2通常是“顺(cis)”。
相互独立的这些原子团R1和R2可选自可以被氟化或全氟化的C1-C16烷基以及腈。
可以特别提及具有如下分子式的化合物:
它们也可形成可以被氟化或全氟化的包含5或6个碳原子的环,特别地,具有如下分子式:
或形成5个碳原子的酐环,特别地,具有如下分子式:
其中,X可以是氧原子或-NR3原子团,其中R3表示C2-C16烷基和/或羟烷基。
原子团A和B也可以是相等的或不同的,特别地,可以表示具有如下结构的5-原子环或5-或6-原子双环:
其中:
·X和Y可以是相同的或不同的,并且可表示氧原子、硫原子、硫的氧化形式、氮原子或硒原子;
·Z和W可以是相同的或不同的,并且可表示碳或氮原子;
·原子团R3至R12可以是相同的或不同的,并且可表示氢、直链或支链C1至C16烷基或烷氧基、卤素、直链或支链的氟化或全氟化的C1-C4基、羧基、C1-C16烷基羧基、C1-C16单或二烷基-氨基、腈基;苯基、萘基或杂环(吡啶、喹啉、噻吩)可被取代到所述原子团上。
然而,基团A和B不可都与例如如下所示的吲哚类型结构相等:
基团A和B可通过一个或多个双键与环分离。
在正交于该连接的位置上、在双键与残基A和B之间、通常一定有不同于氢的基团,例如CH3、CN或COOEt,即,基团R3或R5、R4、R7以及R8必须不同于氢。
可被提及的一个示例为下述化合物,该化合物在404nm-436nm下照射后从无色变成红色(在546nm-578nm下恢复),如下所示:
二芳基乙烯的一个示例为:在显色状态下颜色为蓝色,其商品名称为:YamadaChemical(日本)的DAE-MP,其化学名称和分子式为:1,2-双(2-甲基-5-苯基-3-噻吩)-3,3,4,4,5,5-六氟环戊烯:
二芳基乙烯的另一个示例为:在显色状态下为黄颜色,具有分子式:
其商品名称为:YAMADA CHEMICALS(日本)的DAE-2BT,并且其化学名称为:1,2-双(3-甲基苯并(b)噻吩-2-基)全氟环戊烯。
可通过如下分子式来表示俘精酸酐:
其中:
·基团A具有上述含义;
·基团R13至R15可以是相同的或不同的,并且可表示C1-C16直链或支链烷基,或者基团R13和R14可形成包含3至12个碳原子的环,例如环丙烷或金刚烯(adamantylene)。
其他热稳定光致变色剂
这些光致变色化合物是改变外观的化合物,例如通过由光照射控制的机制从无色或弱色的形式变成有色的形式。
从光引起显示外观而言,例如从无色形式变成有色形式,该机制可以是直接的。这例如通过具有可光降解或光致释放官能的化合物来实施。
优选地,使用其中可光降解或光致释放官能相对于角质材料是惰性的化合物。
优选地,使用其中通过聚合物或其他固体或块状结构固定或承载可光降解或光致释放官能的化合物。
作为一个示例,可使用在文章:C.P.McCoy et al.,J.Am.Chem.Soc.,2007,129,9572中描述的3-5-二甲氧苯偶姻官能以及有色产品。
在光造成初始为无色的化合物例如变成另一形式、随后第三动作将该已改变的但仍无色的化合物变换成具有不同显示的形式(例如,有色的)的意义上,上述机制也可以是间接的。
当第三动作不同地作用于还未被光改变的化合物上和已被改变的化合物上,以及例如未被改变的化合物被变换并且改变显示(例如,变成有色的),而已被改变的化合物保持其例如无色的显示时,该机制也是间接的。
作为一个示例,可以使用重氮印相法原理,该原理使用重氮盐化合物以及另一种能够通过偶联反应进行反应的芳香族化合物。照射破坏重氮盐(氮的释放)。随后还未被照射的重氮化合物通过PH的简单跳跃(例如,在存在氨水时)与偶联者反应,以产生含氮化合物。在这样的情况下,选择未被着色的重氮盐化合物,例如,在环上具有重氮官能但不具有胺或羟基官能的芳香族化合物。该偶联者可以是诸如苯胺的简单的芳族胺或苯酚衍生物。
因此,根据下述反应使未被照射的部分显色:
当显色时,或仅在执行特定动作,例如被带入使它们具有所期望的热稳定性的化学化合物的存在中时,所使用的光致变色剂可变成热稳定的。
热稳定光致变色组合物可包含总共为0.001%至20%(以重量计)的光致变色剂,特别是热稳定光致变色剂。
光致变色组合物也可包含任何适用于化妆应用的溶剂,特别是选自专利EP-A-0 938 887中提到的那些。
该组合物可包括在EP-A-0 938 887的[0029]至[0041]段中命名的成分;该清单通过引用被合并到本文中。
降低敏感度的热稳定光致变色组合物
热稳定光致变色组合物可包括至少一种光学剂,所述光学剂减少其对紫外线或近紫外线辐射的敏感度。
特别地,热稳定光致变色组合物可包括一种或多种具有对于其防护力F足够的量的光学剂,该防护力F在下文中被限定为2或更大,或甚至为5、10、15或20。
测试防护力的方案
使用类似于用于确定SPF的方案,区别在于未考虑皮肤的红疹反应。
待辨别的防护力的组合物以1.2mg/cm2(毫克每平方厘米)的量被施用到出自EUROPLAST的尺寸为5cm(厘米)×5cm、厚度为3mm(毫米)、粗糙度为4.5±1μm的铺满沙的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)板(没有紫外线防护)上。用沉积10±1mg的凡士林145B来预处理所述板。所述组合物可以以组合物的14个圆点被沉积并且用手指进行20秒的涂布,制成Z字形并且每5秒钟翻转该板四分之一周。
在涂布后,维持0.6mg/cm2的组合物。允许干燥20分钟(min),随后再次进行涂布。
使用分光辐射度计(例如具有累计球的Labsphere紫外线透射率分析器)测量从290nm至400nm的漫透射率。记录透射量T(λ)的每个值。对于所给定的照射波长λ,透射量T(λ)是透射光能量与入射光能量的比例。每个板被测量5次(移动所述板)并且对这5次测量取平均值。在5个板上进行该操作。取5次测量的平均值。
通过如下两个积分的比给出相对于日光紫外线辐射(290nm至400nm)的防护力F:
其中,I(λ)是表示太阳光谱的每个波长的出现的函数。I(λ)与出版物COLIPAGUIDELINES Edition of 2007:A METHOD FOR THE IN VITRODETERMINATION OF UVA PROTECTION PROVIDED BY SUNSCREENPRODUCTS中用于计算生物体外的SPF的相同。若F=1,则该组合物不防护。
术语“作为对波长为λ的辐射的防护”的意思是,光学剂以至少为2的减弱因子减弱波长为λ的辐射,使用用于测量吸收光谱的装置进行测量,将照射光限制在波长为λ±10nm的区域内。比例
其中,I(λ)和T(λ)与上述定义的一样,提供在波长λ处的减弱因子。
热稳定光致变色组合物可具有至少一个在λ1至λ2的间隔内的波长范围P,其中,照射被较少地防护,防护力在该范围内为平均值Fλ1,λ2,其中,F/Fλ1,λ 2>2,优选F/Fλ1,λ2>5。范围P的宽度可小于80nm,优选小于40nm。
Fλ1,λ2被定义为:
并且以上述方式被测量,用λ1和λ2替代极限值290和400,其中,λ2>λ1。
适当地,热稳定光致变色组合物可包括在与空气接触的情况下缓慢着色的变色着色剂,例如颜色随着时间增强的着色剂并且若可能、则缓慢地增强,例如DHA或多酚。热稳定光致变色组合物可例如包括用超过半小时来变成90%显色的着色剂。这种着色剂的优点可为:一旦已产生了光敏化妆妆容,这种着色剂就产生防护力,从而例如阻止光敏化妆图案在环境光下的恶化。
作为存在于第一层中的光学剂的活化剂的第二层
在本发明的一个实施例中,第一层由热稳定光致变色组合物构成,并且包含部分或全部未活化形式的或作为前体的光学剂。未活化形式的或在前体状态下的该光学剂还没有被充分活化,以保护光敏化妆的效果。
在光敏化妆之后,第二层的应用起活化该未活化的光学剂或使该前体进入光学剂形式的作用,该光学剂在形成对使所述热稳定光致变色组合物显色的辐射的防护方面有效。
作为一个示例,在所述层中的一层中的前体形式中,光学剂可以是来自卟啉类的着色剂,通过在其他层溶液中盐的存在为其提供更大活性,例如,锌、铁或镁盐。
植物制剂形式
根据应用和其组分的性质,热稳定光致变色组合物可被表现为多种植物制剂形式。
本发明的热稳定光致变色组合物包含化妆可接受的媒介,即与所有角质材料相容的媒介,所述角质材料例如皮肤、指甲、头发、睫毛和眉毛、黏膜和半黏膜、以及身体和脸的任何其他皮肤区域。特别地,所述媒介可包括或形式为任选增稠的或凝胶的悬浮液、悬漂液、在溶剂或水醇媒介中的溶液;水包油乳液、油包水乳液、或复合乳液;凝胶或泡沫;凝胶乳液;喷雾;疏松的、紧密的、或碎粉;无水膏;或薄膜等。
处理过的区域
通常化妆的身体的任何部分都可接受根据本发明的光敏化妆,例如指甲、睫毛、头发、皮肤并且特别是脸的皮肤(例如脸颊、额头、嘴唇或眼褶)、脖子、胸部或腿。
也可以处理很少化妆的身体部分,例如耳朵、手、或牙齿。这些区域具有复杂的形状,不利于容易地应用传统化妆产品。尽管其形状复杂,但是光敏化妆能够获得美学效果。
光敏化妆可用于遮盖皮肤瑕疵。
光敏化妆可任意重复使用者所穿戴的服装或饰物的图案,例如在珠宝、钱包、眼镜、鞋、配件、个人数字助手(PDA)、或手机上的图案。
适当地,出售这样的服装或这样的饰物时可附上允许产生的与该饰物或服装相配的光敏化妆妆容的资料或网络链接。
该资料或网络链接可提供产生为了与服装或饰物相配而已经设计好或选择的图像所需数据的访问。作为一个示例,它可以重复全部或部分的图案或者它可以完成他们。
附图说明
·图1为根据本发明制成的用于进行光敏化妆的系统的一个示例的简图和不完整视图;
·图2示出在光照射期间如何保持待处理的区域;
·图2a示出在像素化图像内图案的形成;
·图3至图6为辐照器的变型的简图和局部视图;
·图7至图10以及图10A示出使用多种技术的可寻址矩阵成像器的不同示例;
·图11至图13示出光敏化妆的示例;
·图14A至图14C以及图15A至图15C示出光敏化妆进程的示例;
·图16表示能使组合物在被施用前显色的包装装置的示例。
施加方式
可以以粉末、液体、喷雾或薄膜的形式施用适用于实现本发明的该或每种组合物。该液体可以具有不同的流变学。例如,它可以为当被涂抹在角质材料上时涂布的产品块,或它可以是液体。
热稳定光致变色组合物或任选的光保护组合物的层,更确切地说,光保护组合物层可以干粉或接近干粉的形式被施用。
该或每种组合物可任选为预先形成的薄膜形式。
优选地,当使用多层施用时,优选以不破坏已经施用的第一层的方式施用第二层。为此,优选可以通过喷洒施用旨在形成第二层的组合物。
也可使用打印机执行施用,例如使用喷墨打印机,使用与待处理区域进行接触并且任选地在其上移动的装置。当喷洒一层或多层时,可使用任何喷洒技术,例如利用气雾发生剂、喷笔、或静电或压电喷洒来进行喷洒。也可通过转印来执行施用,使用承载组合物中的至少一种或甚至待形成的多层的支撑薄片。转印可通过压力、热力、和/或通过使用被沉积在根据本发明的待处理的支撑薄片和/或角质材料上的溶剂来实现。
所述施用可以手动或以自动方式执行,例如使用操纵器机械手。
每一层可以在其之前的一层干燥后被施用。
可使用可能是一次性施用器的施用器进行施用,所述施用器包括载有待施用的组合物的施用构件。
可在出售处、在美容沙龙、或在家里等施用所述组合物。
在使用前,每种组合物可被包装在任何合适的容器内。
在确定环境光的强度不损害光敏化妆妆容的质量后,可施用所述组合物、特别是热稳定光致变色组合物。可使用警报装置进行确定,若环境光包含过强的紫外线或近紫外线辐射,例如,具有0.1mW/cm2或0.5mW/cm2的能量密度,则该警报装置提醒使用者,若需要,则可调整该阈值。这种装置可以是独立存在的或与包装装置或施用热稳定光致变色组合物的装置整合为一体、或者甚至与包装装置或施用光保护组合物的装置整合为一体。
适当地,根据紫外线辐射的水平,由警报装置传送的信息还对在多种组合物中选择热稳定光致变色组合物、光保护组合物、和/或作为底层的组合物有用。
如上所述,适当地,热稳定光致变色组合物可以在完全显色状态下或在未显色状态下被施用。
热稳定光致变色组合物以及旨在形成涂层或底层或光保护层的组合物可以是多种形式的,例如,霜、凝胶、液体、通过手或使用施用器例如滚搽涂布的组合物的形式。
可通过移动与角质材料接触的组合物块来施用该组合物,例如唇膏。此外,可通过使用喷雾罐、泵瓶、或静电、压电、喷笔喷雾装置进行喷洒来施用该组合物。
组合物可以为干性形式,例如粉末,若需要,该组合物可通过刷子或画刷来施用。
当想要在显色状态下施用光致变色组合物时,该光致变色组合物可被包含在如图16所示的包装和施用装置中,该装置包括包含该组合物的容器1000、发射紫外线例如以使该组合物显色的光源1010、以及施用器装置例如施用器画刷1020。
用干进行光敏化妆的系统
可以从图1中大致看出,可使用用于进行光敏化妆的系统1产生光敏化妆妆容,该系统1包括辐照器3,该辐照器3包括至少一个光源2。根据情况,例如通过使热稳定光致变色组合物包含的光致变色剂从未显色状态变成显色状态,和/或通过使包含在热稳定光致变色组合物中的光致变色剂从显色状态变成未显色状态而用于擦除所述光致变色剂,成像器可用于使热稳定光致变色组合物显色。当组合物初始为未显色状态时,辐照器可以在紫外线或近紫外线辐射可以使热稳定光致变色组合物显色时例如发射紫外线或近紫外线。
可通过被置于传输光至待处理区域的路径上的、并且任选地接触该待处理区域的保护膜或底片来限定图像。
辐照器优选包括一个或多个成像器4,用于在距待处理区域Z一定距离处形成至少一个图像。
在简化形式中,成像器可使用保护膜或底片以及光学装置来投影于待处理区域上。该底片可以是紫外线底片,允许在紫外线或近紫外线光中形成图像。
光源2可包括任何类型的发光元件,例如白炽灯、卤素灯、放电灯、和/或电致发光元件、特别是一个或多个发光二极管(LED)、有机发光二极管(OLED)或其他电致放光技术。
如在下文中详细描述的那样,辐照器3可包括多个光源,以一方面发射紫外线或近紫外线,而另一方面发射可见光、特别是发射超出近紫外线的可见光。
有利地,辐照器包括光源以及成像器,能够有选择地发射紫外线或近紫外线以及发射可见光。
将在可见光中的图像投影变成在紫外线中的图像投影可通过改变光源来实现,例如通过使用可移动的镜子、通过使用半透明表面、通过添加或移除过滤器、和/或通过使用倍频器或三倍频器来改变光源。
如在下文中详细描述的那样,当光致变色剂允许时,在进行显色和/或导致光敏化妆从已经至少部分显色的区域被移除之前,使用可见光使得投影在待处理区域上的图像能够被看到。
如可在图1中看到的那样,该用于进行光敏化妆的系统可包括计算机10,该计算机10可与用户接口11结合,该用户接口包括例如键盘、鼠标、触摸屏、声音识别引擎、绘图板、手柄、和/或触控板;该清单为非限制性的。
计算机10可包括微型计算机以及例如使用微控制器、微处理器、和/或可编程逻辑阵列制成的模拟和/或数字的更通用的任何计算装置。
可以以一个或多个装置的形式制成计算机10,并且当使用电子成像器时,适当地,该成像器可执行全部或一些计算。计算机10也可与显示装置12结合,显示装置12例如为彩色屏幕,例如为LCD、等离子体、OLED或阴极射线类型,任选为触摸屏。如下所述,该显示装置12可用于在处理期间显示被处理区域,使得处理能够被控制和/或使得能够显示模拟。
计算机10也可与数据存储装置13结合,数据存储装置13例如为硬盘、磁带、光盘、和/或闪存,该数据存储装置可被集成到计算机10、辐照器3内,和/或至少部分远离的在外部数据存储系统中。
计算机10可与网络接口14结合,网络接口14用于例如下载属于光敏化妆的数据或致使关于正在被施用或已经被施用的光敏化妆的数据被传输至第三方或传输至服务器。
适当地,计算机10可有利控制产生用于形成图像的光的光源,使得该图像通过预先限定的发光体形成。
如下所述,成像器有利为电子可寻址矩阵成像器,计算机可将数据发送至该成像器,从而使预先限定的图像被投影在待处理区域Z上。
用于进行光敏化妆的系统可被设置有至少一个使得图像能够被手动或自动聚焦的光学和/或电子系统,以及有利地设置有防止移动的装置。
为了保持被处理区域相对于辐照器静止,用于进行光敏化妆的系统可包括用于保持人静止的装置,这意味着可避免移动和模糊效果。
当在脸上形成图像时,用于进行光敏化妆的系统可被配置成检测脸是否放松,并且根据该检测控制成像器。
用于进行光敏化妆的系统1可包括平坦部分,或它可遵循身体一部分的形状并且该部分可被定位成紧靠着待处理区域。
在一个变型中或附加地,用于进行光敏化妆的系统可包括用于矫正移动的系统,例如,与用于在静止或运动电影摄影机中稳定图像的系统相同类型的系统。
当处理脸时,用于进行光敏化妆的系统可包括用于以腮托形式固定待处理个体的装置8,如可在图2中看到的那样。
在一个变型中,例如,辐照器3为便携式的并且可被固定在由待处理的个体所携带的托架上,从而照亮脸。
如在下文中详述描述的那样,用于进行光敏化妆的系统1可包括光学获取装置16,在本发明的一个实施方式中,该光学获取装置可将数据传输给计算机10,以便使它提供光敏化妆妆容和/或以便控制其产品。光学获取装置16可有利地具有观察轴,该观察轴大体上平行于图像的投影方向。该光学获取装置可以是单像素或多像素的,并且它可直接接收由成像器所发射的光,或者它可接收由待处理区域Z反射的光。
任选的光学获取装置、辐照器、任选的计算机、以及任选的观察屏可以以分立元件的形式产生或者它们可以被集成在同一壳体中。辐照器和任选的光学获取装置可有利地被集成在同一壳体中,或者它们可以由其他装置固定在一起。
观察屏可被固定在辐照器的壳体的后面或被集成在该壳体内。适当地,光学获取装置包括用于关闭获取的内部发光装置。
例如,辐照器的壳体也可以是可移动的并且可被应用到皮肤上,或者它可被把持在手中。在本发明的一个实施方式中,辐照器的壳体可以例如被放在桌子上。随后,脸可被移动接近,以例如通过倾斜被放在该壳体上。
用于进行光敏化妆的系统可被设置有用于检测眼睛和/或嘴张开或闭合的装置,以在眼睛和/或嘴张开时停止或不开始照射。光学获取装置16可提供通过计算机10为此目的而进行分析的图像。
当在脸上形成图像时,用于进行光敏化妆的系统可被配置成识别脸,并且可以至少根据该识别来控制成像器。
用于进行光敏化妆的化妆系统有利地被设计成允许使用者以可视或其他方式评估光敏化妆的进程。
为此,用于进行光敏化妆的系统可包括允许在照射期间直接观察被处理区域的窗口,该观察适当地通过紫外线防护来执行。为了允许室内的人直接观察,光可以从偏移位置发出,并且可使用光纤或至少一个镜子或棱镜来引导光线并将辐射聚焦在待处理区域上。
图3为示出用于进行光敏化妆的化妆系统的一部分的示意图,该系统包括两个朝向待处理区域Z分别发射紫外线光和可见光的成像器4a和4b。在这两个成像器4a与4b之间设置有窗口403,以允许在处理期间观察区域Z。
如可在图4中看到的那样,使用镜子404或任何其他光学系统、例如光纤或棱镜,观察区域也可以被偏置。
在存在光学获取装置例如摄像机或数字摄影装置的情况下,可在屏幕上观察被处理的区域Z,该屏幕可被置于辐照器上或可被偏置。
图5示出通过偏置光束产生辐照器3的可能性,通过使用镜子18来引导光束朝向待处理区域Z,该镜子18允许使用者通过辐照器的窗口20观察被处理区域Z。
图6示出产生具有两个分别发射紫外线和可见光的光源2a和2b的辐照器3的可能性。在图6中示出的辐照器包括:置于光源2b前面的颜色过滤器302,例如绿色过滤器;可调整的校准光学装置303;以及可移动的镜子304。在本示例中的辐照器3允许底片308被置于光路上。可调整的校准光学装置303使底片的图像出现在距辐照器3的光学出口一定距离处,例如在大约二十厘米处。
辐照器3设置有两个开关306和307。第一个开关驱动光源2a和2b。可移动的镜子被布置成使得对于第二开关的给定位置只有可见光被引导朝向光学出口。例如通过触发微型电动机或电磁铁,驱动开关移动可移动的镜子,并且随后紫外线照射被引导朝向底片308。
如上所述,用于进行光敏化妆的系统有利地包括电子可寻址矩阵成像器。
电子可寻址矩阵成像器
作为示例,可寻址矩阵成像器适用于投影像素化的图像,该图像的分辨率大于10×10像素,优选大于10×100像素。
当所述成像器为电子可寻址矩阵成像器时,形成在待处理区域上的图像通过亮或灭的像素形成,任选地,每个像素处于预先设定的灰度级。作为一个示例,图2A示出图2的细节,其中,所产生的光敏化妆P由嘴唇轮廓构成。图2A示出所投影的图像的各个像素的位置;只有相应于待产生的轮廓的像素被点亮。热稳定光致变色组合物的显色匹配于像素的状态。
离开可寻址矩阵成像器的光可以是单色的或多色的;优选地,该可寻址矩阵成像器能够有选择地发射紫外线或近紫外线以及超出近紫外线的可见光,所发射的可见光可以是白光或有色光,任选为单色光。
计算机10可确定数字图像,特别是每个像素的灰度级,以及任选地在每个像素处的光的主波长,其中,基于所述数字图像控制电子成像器。
可使用多种技术产生该可寻址矩阵成像器。
可使用由TEXAS INSTRUMENTS发明的被称为DLP(数位光处理)的技术,DLP使用DMD(数字微镜装置)芯片,该芯片由数千个通过使用电脉冲分别控制的定向微镜构成,并且根据微镜的方向,微镜可任选地反射入射光束,从而将它传输或不传输至成像器的光学出口。待投影的图像被形成在镜子的矩阵上。每个像素中的灰度级(例如256个灰度级)可通过调整线圈间隙因数来控制。
图7示出使用采用具有参考标号111的DMD芯片的该技术产生的电子成像器4的示例。该芯片可被固定在压板112上,该压板12也可包括用于控制该芯片的处理器113以及任选的存储器114。在所示的示例中,芯片与处理器113以及存储器114在同一压板上,然而,这些器件可被置于其他位置。
图7中示出的成像器4接收来自光源2的光,该光源2可以为能够发射紫外线和/或可见光的光源,或者可以为能够有选择地发射可见光或紫外线的光源。
例如,光源2可以是发射紫外线和可见光光谱的卤素灯、放电灯、或者一个或多个能够发射紫外线并能够发射白光或给定颜色的光的LED。
如图所示,成像器4可包括分别用于聚集光、将光聚焦在DMD芯片上、并将光引至待处理区域的光学装置118、119和120。
当光源2具有紫外线和可见光的发射光谱时,如图所示,例如,成像器4可具有滤光轮130,该滤光轮130与聚集光学装置118和聚焦光学装置119之间的光束相交。根据滤光轮130的位置,所述芯片接收随后被引导朝向光学出口的紫外线或可见光。因此,可以在待处理区域上有选择地形成来自可见光和/或紫外线光的图像。
在图8的变型中的辐照器使用多个被固定在棱镜上的DMD芯片,该棱镜将来自光源2的入射光分成至少两个具有不同主波长的光束,例如分别为紫外线或近紫外线光束以及可见光光束。
被DMD芯片反射的光束被朝向待处理区域投影。
通过控制与紫外线或近紫外线光束相关的DMD芯片以及与可见光光束相关的芯片,紫外线光束或可见光光束、或者可能是两个光束可立即被投影到待处理区域上;当显色发生的相对缓慢时,这可以是有用的,从而能够以可视的方式监控用作执行显色的光的正确位置。
辐照器也可使用液晶显示(LCD)技术。
在图9所示的示例中,光源2被引导向分光镜125上,所述分光镜产生至少两个具有不同主波长的光束,例如,所述光束中的一个具有紫外线或近紫外线内的主波长,而另一个光束具有在可见光内的主波长。
光束被镜子125和126引导朝向LCD矩阵屏127,在LCD矩阵屏127上形成待投影的图像,产生被引导朝向棱镜系统128的单色图像,使得该图像能够通过投影光学装置120被传送至待处理的表面上。根据屏127的不透明度,所发射的光在可见光区域内或在紫外线区域内。
在图10中示出的辐照器3包括LCD矩阵屏132以及光源2,该光源2照亮屏132。其上形成的图像利用投影光学装置120被投影到待处理区域上。作为示例,光源2能够选择性地发射紫外线或可见光。
在一个变型中,屏132可取代图6所示的示例中的底片308。
投影系统也可基于硅基液晶(LCOS)技术。LCD技术被称为透射式,因为光穿过LCD屏,而DLP技术被称为反射式,因为光被DMD芯片的微镜反射。在LCOS技术中,DMD芯片的镜子被覆盖有液晶层的反射表面取代,该液晶层可在光通过状态与光阻隔状态之间切换。通过调整频率,可改变像素的灰度级,在所述频率上液晶被开启和关闭。
作为示例,可使用图7和图8中所示的布置,用LCOS芯片取代DMD芯片。
图10A示出一种LCOS芯片辐照器。镜片系统901可被置于光源2(例如,紫外线灯)和半透明镜子903之间。这将光从光源反射至芯片900。该芯片再次将光反射至将像素化的图像投影到待处理区域上的聚焦系统120。
通常,由可寻址矩阵成像器传送的图像包括可独立寻址的灰度级的像素矩阵,例如,每个灰度级被编码成至少4比特,优选为8比特。与每个像素相关的光也可被适当地编码。
待投影的图像可以视频信号的形式或以视频或数字图像文件的形式提供给电子成像器,该视频信号符合VGA、SVGA、合成的、HDML、SVIDEO、YCBCR、光学视频信号、或其他标准,所述视频或数字图像文件例如是.jpeg、.pdf、.ppt等文件。当这些图像不是单色的时,例如,文件中的图像上的预先限定的颜色可控制紫外线或近紫外线的量。
电子成像器被有利地产生,以便能够在不改变图像的情况下改变所发射的光的性质;作为一个示例,图像的像素保持其灰度级,而只有在上游使用的光源的发射光谱改变。这使得图像能够在待处理区域上被可视化,并且随后通过简单地调整光源的发射光谱,可使该区域显色。
成像器可用于投影可见光,从而有选择地擦除一种或多种光致变色剂以及产生源于处在显色状态下的热稳定光致变色组合物的光敏化妆妆容。例如,该成像器则可以是传统的视频投影仪。
投影图像的选择
特别地,当使用电子可寻址成像器时,用于进行光敏化妆的系统优选被设置有用于选择投影图像的装置。这可通过从图像库中选择来实现,可能通过连续显示所述库中的图像并且用户选择显示的图像来从图像库中选择。图像可以以数字或摄影的形式被存储在例如数据存储装置中。该图像库可被包括在用于进行光敏化妆的系统中,或者可被下载。
在本发明的一个示例性实施例中,所使用的图像始于将要接受光敏化妆的个体,或者始于诸如名人的模特或给定类型的个体,所述图像可能取自化妆过的或未化妆的人。也可使用源自图片、表格、素描、或漫画的图像来产生投影图像。
计算机可在其存储器中具有或可下载至少一个线条或画笔笔画形式的图画模型,或者甚至是单个的点或一系列线条、笔画、或点。
所形成的图像可根据所获取的图像被自动确定。这使得投影图像能够适用于形态学和/或适用于脸的颜色。
从所捕获的脸的位置开始,计算机可准确地定位旨在产生光敏化妆妆容的图像。
因此,用于进行光敏化妆的系统可用在包括下述步骤的方法中:
·获取至少一个待化妆对象的区域的图像;
·根据所获取的图像控制成像器。
作为一个示例,可使用光学获取装置16来获取该图像,光学获取装置16可用于捕获脸的全部或一部分、或者身体的任何其他被处理区域。
作为一个示例,为了在上眼睑上产生光敏化妆,可执行下述步骤:
·捕获脸部图像,并且以此推断眼睑区域;
·一旦热稳定光致变色组合物已被施用到眼睑区域上,就照射将在眼睑区域上产生的图画模型;因此,所产生的光敏化妆被形成在正确的位置上。在当所有的像素被点亮时图像能够覆盖更大的延伸区域的情况下,在待处理区域位置处的照射可通过仅点亮相应的像素进行。为通过更好的分辨率获益,被处理区域可以例如涉及图像的像素总数的至少2/3。
计算机也可调整图画模型的形状,从而使它适应脸部的形状。因此,例如,若希望给嘴唇化妆,则可执行下述步骤:
·捕获脸部的图像,并且以此推断嘴唇的区域;
·比较嘴唇的形状和待复制的图画模型;
·调整图画模型,使得它被内接在嘴唇的形状内;
·一旦热稳定光致变色组合物已被施用在嘴唇上,就照射它们以产生调整过的图画模型。该方法也可被应用于身体的其他区域。
因此,用于进行光敏化妆的系统可设置有下述四个功能:
·捕获待处理的脸部或身体的任何其它区域的图像;
·通过分析待处理的脸部或任何其他部分的图像,将待产生的图画模型的位置锁定在将要接受它的身体的脸部的部分上;
·任选地,调整图画模型的形状,以使它适应脸部的形状;
·控制旨在产生光敏化妆的图像的投影。
用于进行光敏化妆的系统可包括用于获得脸部的3D形状的装置。用于进行光敏化妆的系统可包括光学获取装置,用于例如通过投影边缘来检测浮凸,和/或用于检测光亮。
在本发明的一个示例性实施例中,自动确定所使用的图画模型。该选择可以以随机方式或通过使用程序逻辑执行,所述程序逻辑使用优化脸部外观的规则,例如与脸部的颜色协调方案或自然协调方案一致。因此,例如,对于白皮肤的脸部,可能产生雀斑。
还可通过应用逻辑来做选择,从而为不对称的脸部恢复对称性,和/或通过应用光和影以使棱角太分明的脸部变得较圆或反之亦然,或从而修正天生的或不吸引人的比例。
在本发明的一个示例性实施例中,用于进行光敏化妆的系统提出多个图画模型,留给使用者自由选择一个。这些提议可以被生动地表示,例如通过在屏幕上显示。所提出的图画模型可被叠加在将要接受光敏化妆的对象的图像上,或该模型可以被显示在通过图形描述脸部的屏幕上。可使用任何允许使用者选择图画模型的接口。作为一个示例,提供给使用者的图画模型的描述可通过描述用于进行光敏化妆的系统计划执行的动作而以口头形式给出。
用于进行光敏化妆的系统可被配置成自动检测在待处理区域上的皮肤瑕疵,并且可根据检测到的瑕疵的性质来控制成像器。
例如,用于进行光敏化妆的系统可被设置有旨在识别瑕疵的特殊识别功能,所述瑕疵例如为:
·斑、黑头、粉刺、草莓斑、疙瘩;
·皱纹、裂纹、妊娠纹、条纹;
·明显的凸起或凹陷部分,例如疤痕;
·不对称性
·蜕皮;
·无光泽的或发亮的皮肤;
·体毛。
可通过图像分析和/或形状分析检测瑕疵。该图像分析可以是3D图像分析。该图像分析可包括颜色和/或光亮的分析。
用于进行光敏化妆的化妆系统也可设置有允许图画模型被计算或被选择用以限制所述瑕疵的明显性的功能。可提及的这些图画模型的示例是旨在模糊被探测到具有瑕疵的部分的图画模型以及旨在改变某些部分、特别是疤痕或不对称性的轮廓的图画模型。
在本发明的另一个示例性实施例中,使用者或第三人可限定待产生的图画模型。因此,使用者或第三人可发送由用于进行光敏化妆的系统解释的命令。这些命令可以是图形的,并且用于进行光敏化妆的系统可包括触摸屏类型的人机接口。使用者通过在脸部的图像上或在脸部的图形上指定待产生化妆线的区域来发送化妆命令。用于进行光敏化妆的系统可被配置成解释来自使用者的指令,以使它们适应脸部的形势,并且随后产生光敏化妆妆容。
命令可以是描述,例如“在嘴唇区域涂上红色”或者命令可以是直观的,例如“眼睑化妆”。用于进行光敏化妆的系统随后将以传统的或特殊编程的方式采取行动,以解释所要使用的默认图画模型。
命令可被编程,并且程序可以是个性化的。
从推荐的图画模型中选择或确定待产生的图画模型的人可以是正在被化妆的人或其他人,例如专业化妆师。可在产生光敏化妆妆容的位置或者远程地选择或产生图画模型。当远程操作时,用于进行光敏化妆的系统可设置有通信装置,使得处理区域的图像可被传递,例如上述的网络接口14。
任选地,用于进行光敏化妆的系统可设置有用于从杂志或其他媒体中捕获化妆妆容的装置,以及从所捕获的化妆妆容制成图画模型并且随后将其重现在待处理区域上的装置,例如扫描仪或RFID芯片阅读器,该芯片包含对化妆妆容的描述或允许它被下载的网络链接。该芯片可被包含在包含用于产生光敏化妆妆容的组合物的包装中,或被包含在服装的物件或其他具有特定图案的配饰中,该图案可用光敏化妆来重现。
用于进行光敏化妆的系统可被配置成以模拟的形式连续显示许多类别的图画模型,从而允许人从中选择待重现的模型。
用于进行光敏化妆的系统可提供直接在脸上快速试用许多类别的模型的可能性。因此,人可以以真实形式发现所述模型是否将适合他或她。这些模型可以是通过可见光投影在脸上的图像,所述图像不使热稳定光致变色组合物显色,或者是使用热稳定光致变色组合物产生的光敏化妆妆容,该热稳定光致变色组合物也可例如通过可见光的照射而被擦除。
用于进行光敏化妆的系统可有利地具有在存储器装置13中的其存储器中的多个预先记录的模型,并且可记住它已经能够产生的图画模型。通过这种方式,使用者可使用或更换所记录的图画模型。
在本发明的一个示例性实施例中,一旦已选择了图画模型,就自动执行调整图画模型以适应人的脸部的形势以及通过投影图像产生光敏化妆。分隔捕获脸和产生图像的时间间隔可变得相对短,例如小于一秒。
在本发明的另一个示例性实施例中,在执行操作时,接受光敏化妆的人或第三人可干预。则产生化妆可能比之前更慢。用于进行光敏化妆的系统可被配置成便于允许该接受光敏化妆的人或第三人例如在屏幕12上观察光敏化妆的进程,从而减慢或停止其进程。
用于进行光敏化妆的系统可任选定期地重新捕获脸部,从而重新开始锁定和调整图画模型以适应脸部的操作,因此消除在意图使热稳定光致变色组合物显色期间由于人的移动而可能产生的任何问题。
可连续地产生多个部分光敏化妆妆容。因此,在产生光敏化妆妆容的过程中,可确定每个图画模型,可通过眼睛评估其效果,随后可选择下一个图画模型等,因此逐步构建光敏化妆。
如上所述,用于进行光敏化妆的系统可被配置成利用一个或多个专用程序评估最合适于脸部或脸部的一部分的图画模型。因此,可通过产生第一图画模型,随后通过第二次评估脸部以由此推断新的待产生的图画模型等等,来产生光敏化妆妆容。
可以以半自动方式处理脸部的一部分,而以自动方式处理另一部分。还可以以自动方式处理脸的一部分至某种程度,随后以半自动方式继续该光敏化妆,反之亦然。
用于进行光敏化妆的系统可被配置成例如使用上述的光学获取装置来获得图像,任选地提取相应于待处理区域的部分,并且适当地矫正该图像,以因此提高投影后的效果。
所使用的用于进行光敏化妆的系统优选被配置成允许使用者从投影在脸上或任何其他待处理区域上的图像开始、例如通过在一维或二维上放大或收缩来矫正形状。所述修改也可以更复杂。因此,例如,可以矫正图像的一部分,拉伸特别区域,改变线条的尺寸等。为此,可使用通常存在于用于产生或编辑图像的软件中的工具,例如适当地,可通过经由光学获取装置的反馈来编辑图像;计算机能获知投影图像的效果并自动修改它直至利用执行程序循环的用于进行光敏化妆的系统获得所期望的效果。
逐步产生光敏化妆
光敏化妆可通过执行下述步骤产生,包括:
·将热稳定光致变色组合物施用到待处理区域上;
·用选择用于逐步使热稳定光致变色组合物显色、或用于逐步擦除热稳定光致变色组合物的光照射该区域;
·当实现所期望的外观时,中断和/或修改照射的特征,例如,该外观要么相应于热稳定光致变色化合物的部分显色,要么相应于热稳定光致变色组合物的部分擦除。
因此,更容易获得想要的强度的化妆效果。在逐步发光期间,使用者和/或用于进行光敏化妆的系统可监控光敏化妆的进程,并且一旦实现所期望的效果就可以让它停止变化。
类似地,若热稳定光致变色组合物允许,可执行编辑,以在进行光敏化妆时或之后进一步精致该光敏化妆。
照射可至少一次被中断随后重新开始。
在实现所期望的外观前,可修改照射的主波长和/或强度。作为一个示例,通过修改照射的强度,可改变热稳定光致变色组合物的显色或擦除速率。通过调整主波长,可调整施加在光致变色剂上的照射能量和/或效果。
可以逐步处理整个图像,但也可以逐步的方式对图像进行一部分接一部分地处理,例如以自动的、程序化的、或可编程的方式。
可使用光敏化妆连续产生多个图案。已经实现所期望的外观的至少一个图案可停止被照射,而至少一个其他图案仍然在被照射。所述图案例如为雀斑,所述图案可被连续地产生。
因此,如图13所示,可执行特定程序以产生雀斑。该程序可通过合适的逐步照射导致出现雀斑,所述雀斑的出现是从区域中心朝向区域外侧(图13A至图13C),或是从稀疏分布至密集分布(图14A至图14C),或是从小雀斑分布至大雀斑分布,或是以随机的方式(未示出)。
照射可以足够微弱,从而不会在紧随照射开始的时刻内引起主要的显色。
为允许足够慢的显色,每秒照射的能量E可小于或等于0.5E0,优选为0.2E0,其中E0为使80%的热稳定光致变色组合物显色的每秒所需的能量。对于E≤0.2E0是可能的。当与未显色状态相比的颜色改变ΔE相应于最大可达到的颜色改变的80%时,认为80%的热稳定光致变色组合物已经显色。
类似地,当进行擦除时,每秒照射的能量E’可为0.5E’0或更小,其中E’0为擦除80%的热稳定光致变色组合物的每秒所需的能量。对于E’≤0.2E’0是可能的。
用于进行光敏化妆的系统可被配置成分析待处理区域的颜色,随后该分析的结果可用于自动控制照射。作为一个示例,可在施用热稳定光致变色组合物之后并在实现所期望的外观之前分析颜色。这可以例如允许光敏化妆在已实现所期望的外观时被自动停止。例如,可通过分析形成在被处理区域上的图像像素的颜色来测量颜色。
用于进行光敏化妆的系统可被配置成执行图像的预先限定区域的分析,并且根据相应区域中的颜色,可通过调整所观察的各个区域内的照射强度来控制照射。当用可寻址矩阵成像器执行照射时,则可精确地监控被处理区域的多个像素中的照射。
照射可以是恒定的或可变的。特别地,对于被称为“培养”时间的给定时间,照射可以是相当强的,随后对于“微调”阶段,照射被减弱。
用于进行光敏化妆的系统可被编程为间歇地传送照射,一个示例为:恒定的照射后为停止时期,例如为30秒或更短的时期,等等。当满意时使用者可停止该过程。
当使用者干预以停止照射并随后重新开始照射时,照射可以足够慢,以允许使用者看见颜色变化,例如在CIE空间实验室中,照射以每秒3个或更少单位的E的速率改变,例如每秒大约2个单位的E。
当照射的强度可调整时,用于进行光敏化妆的系统可设置有控制构件,以调整减少或增加照射的速度和/或幅度,控制构件例如为可作用在照射的强度上的按钮、传感器、手柄、声音控制接口、或控制垫,特别地,在成像器的上游。
根据本发明的实施方式,使用者可根据需要停止或减弱照射,从而考虑和/或观察效果。
根据照射程序的执行由用于进行光敏化妆的系统为待执行的照射做准备,并且在程序执行期间使用者可以中断或停止该程序,或者从一个程序换成另一程序。该程序使得照射随时间的改变能够由使用者限定或指定,例如从而调整照射增加或减少的速率。
照射强度的增大或减小不一定造成图像形状或大小的改变。因此,为了调整照射,可使用调整所产生的光通量的电学和/或光学系统,例如至少一个滤光器、光圈、和/或偏光器、和/或用于改变电功率从而控制光源的装置。照射的强度也可取决于图像的像素的灰度级。
用于进行光敏化妆的系统可被配置成根据待产生的光敏化妆自动确定逐步发光程序。作为一个示例,若在给定区域上的光敏化妆以产生相当低饱和度的颜色为主,则用于进行光敏化妆的系统可提供和/或应用指定微弱发光的程序。若在另一区域上的光敏化妆以产生强烈颜色为主,则用于进行光敏化妆的系统可提供和/或应用以首先发光较强随后发光较弱为主的程序,以允许使用者对光敏化妆效果进行微调。最初执行的发光的能量密度是随后应用的发光的能量密度的至少两倍。
为确定照射的强度,用于进行光敏化妆的系统可以基于待施加的剂量的计算,从而产生最终的光敏化妆妆容,并且应用规则以从中推断出发光程序。作为一个示例,若计算出需要X J的剂量,则可快速施加X的80%(例如,通过一秒钟),随后例如以每秒5%来施加最后的20%。
如上所述,用于进行光敏化妆的系统可设置有光学获取装置,该装置允许在照射开始时或在光敏化妆期间测量皮肤或其他角质材料的颜色。可使用该信息计算或调整逐步发光。作为一个示例,可使用该信息,从而确定需要减少或停止发光的时间。
用于光学获取装置的传感器可以是单色的或多色的,具有单像素或多像素测量。
表示光敏化妆进程的信息可被以各种方式传递给使用者,例如通过显示表示产生的光敏化妆的颜色的值,或表示过程完成度的值、例如百分比。表示所测量的颜色的颜色也可被显示在屏幕上。
逆向过程
用于进行光敏化妆的系统可进行逐步降低光敏化妆的强度,从而通过使用适于将光致变色剂恢复成未显色状态的发光使得光敏化妆的一个或多个部分消失或退化。
通过这种方式,使用者可返回至之前的步骤并且更好的调整最终效果。有利地产生用于进行光敏化妆的系统,使得使用者在期望的时候可停止逆向过程,重新开始光敏化妆,等等。
对于某些光致变色剂,例如选自二芳基乙烯和俘精酸酐的光致变色剂,可通过用可见光发光(例如,白光)取代全部或部分紫外线发光使光敏化妆逆向进行。
用于进行光敏化妆的系统优选被配置成使得该可见光发光至少在与紫外线发光相同的表面上延伸。
具有多种光致变色剂的热稳定光致变色组合物的情况
当热稳定光致变色组合物包括多种在各不同波长处具有最大敏感度的光致变色剂时,通过调整波长可有选择地使所述光致变色剂中的一种或多种显色。
还可使用具有多种不同的光致变色剂的热稳定光致变色组合物,所述光致变色剂处于显色状态并且在各不同波长处可被最大程度地擦除。适当地,这些光致变色剂可通过相同的紫外线光显色,但在可见光区域内具有不同的擦除率,所述擦除率根据波长改变,使得通过选择波长,有利地擦除一种光致变色剂而非另一种。类似地,当光致变色剂能够通过紫外线光显色时,它们可以以不同的速率显色,该速率取决于紫外线区域内的波长,并且通过调整该紫外线波长,一种光致变色剂的显色可优于其他的光致变色剂。
光敏化妆的改变的模拟
在本发明的一个示例性实施例中,除了用于观察光敏化妆的改变的系统外,用于进行光敏化妆的系统还设置有用于模拟光敏化妆妆容的改变的系统,或者用该模拟光敏化妆妆容的改变的系统取代用于观察光敏化妆的改变的系统。
因此,在光敏化妆之前和/或期间,使用者可观察该模拟,并且可使用该模拟来决定是否减慢或停止光敏化妆或甚至逆向进行。
用于进行光敏化妆的系统可被配置成使它在施用热稳定光致变色组合物之后且在实现所期望的外观之前可以模拟化妆效果。模拟的进程可与在待处理区域上的照射的进程相关联,不管该照射是用于使热稳定光致变色组合物显色,还是相反地,用于将它擦除。当所使用的辐照器允许时,光敏化妆的外观的改变的模拟可被显示在屏幕上和/或被投影在被处理的区域上。该模拟可以用至少在长的足够让观察者决定如何继续处理的短时期内不会造成热稳定光致变色组合物显色或被擦除的光线来投影。
工具的使用
当用于进行光敏化妆的系统包括电子成像器时,可根据由使用者操作的工具来控制它,计算机能够根据该工具的移动修改投影图像和/或照射的强度。该工具可包括将被定位在待处理区域前面或上面的部分或将被定位在用于观察待处理区域的屏幕前面或上面的部分。该工具也可控制在用于观察待处理区域的屏幕上或在待处理区域上形成的图像内的指针的移动。
用于进行光敏化妆的系统可被配置成允许使用者控制将用逐步照射处理的特定区域,并且为此允许使用者使用显示装置,该显示装置可以例如包括触摸屏,使用者通过该触摸屏可通过按屏幕的特定区域来控制照射的进程。更优选地,触摸屏对使用者施加的压力强度敏感,并且用于进行光敏化妆的系统分析施加在屏幕上的压力,并通过控制光的强度和/或在相应于待处理区域的范围内的照射持续时间将该压力转化成光敏化妆的强度。因此,例如,施加在触摸屏上的较强压力被转化成增加的颜色强度。
在本发明的一个示例性实施例中,用于进行光敏化妆的系统可检测被置于触摸屏上面或前面的工具,并且使用者可使用该工具调整光敏化妆妆容。
作为一个示例,使用者可具有多个可用工具,每个工具都设置有辨认装置,例如条形码或FRID芯片,使得它能够被用于进行光敏化妆的系统辨认。当使用者取得特定工具时,它被辨认,并且每个工具可通过用于进行光敏化妆的系统与特定类型的化妆关联。
作为一个示例,使用者将具有相应于化妆线的多个工具,所述化妆线的粗度不同和/或颜色强度不同、或者甚至化妆颜色不同。使用者拿着所选择的工具,并且可在显示装置上的图像上方移动该工具,从而改变化妆妆容。化妆模拟可出现在观察屏幕上,并且在由用户进行所需的确认后,出现在显示装置上的化妆妆容可由通过控制辐照器进行的光敏化妆自动产生。
图像内容的调整和/或修改
在本发明的一个示例性实施例中,用与以可见光投影的模拟图像相同的图像产生光敏化妆层。为此,用于进行光敏化妆的系统可被配置成将表示模拟的图像传输至待处理区域,例如脸部,由使用者决定将该图像锁定在脸上,或甚至去修改它。随后,一旦该图像已被正确调整和限定,就使用同一光学装置或类似的光学系统来传输不同于先前图像的图像,其中,不同之处仅在于它是由紫外线光或近紫外线光形成的。特别地,当从可见光发光变成紫外线光发光时,用于限定图像的保护膜、底片、或可寻址像素的矩阵不需要已被修改。为此,设置有紫外线光源和可见光光源的用于进行光敏化妆的系统适于使用一个或两个成像器。
若从幻灯片中获得图像,则可设计成允许用可见光光源和紫外线光源产生图像。为此,该幻灯片可以由过滤紫外线和可见光的材料制成。
若通过电子成像器的可寻址像素的至少一个矩阵获得图像,多种配置是可能的:
·两个光源,即紫外线光源和可见光光源,以及单个矩阵;
·分别为紫外线和可见光的两个光源,以及分别为紫外线和可见光的两个矩阵。图像例如通过X棱镜、或从被处理区域的任何一侧的位置被投影来合成;
·既发射紫外线又发射可见光的光源,以及具有例如分光镜、可移动的镜子、或选择向外的辐射的滤光器的紫外线或可见光成像器;
·既发射紫外线又发射可见光的光源以及分别用于紫外线和可见光的两个矩阵。
投影图像可被限制轮廓或一些参考点。随后产生的光敏化妆可被内接在这些点或该轮廓内。
作为一个示例,当处理嘴唇时,可利用两个参考点。使用者施用热稳定光致变色组合物层。所述两个点以可见光波长被投影,该可见光波长不能产生光敏化妆效果,例如在450nm至800nm范围内的波长,并且优选在500nm至700nm范围内。使用者将这两个点定位在嘴唇的两个角处。一旦已执行定位,紫外线照射就形成在这两个点之间包括的嘴唇的图像。
在紫外线发光期间,可见光的图像可被剪裁、缩减、或限制于参考点或被保留在与它在可见光投影阶段期间的状态相同的状态下。
使用光敏化妆产生在脸上的处理模板随后使用它来处理区域
将光致变色剂施用到该区域,该光致变色剂选自例如二芳基乙烯和俘精酸酐,以便具有对于产生的图像来说足够保持至少20秒、优选为至少1分钟的热稳定性。如图11所示,该模板可以是包括点和/或参考线条的图像,图11示出限定由光敏化妆产生的区域A、B以及C的线条。若需要,可以以相同的方式产生指示器,例如文字数字指示器,用以告知使用者在该区域中将要使用的组合物和/或施用器。
根据这样产生的模板,使用者可以产生化妆妆容或其他处理。为此,使用者可使用传统的化妆工具。使用者也可使用由光敏化妆所产生的模板施用护理产品。
作为一个示例,例如通过图像分析和/或使用一个或多个对皮肤状况敏感的传感器来对需要特殊护理的区域执行诊断,并且产生待执行的处理的可被存储的图。接下来,使用用于进行光敏化妆的系统致使模板出现在脸上,其中,需要护理的区域至少暂时地用颜色显示出来。随后,使用者可将护理产品施用到已经示出的区域。
在脸上定位参考点,随后使用识别所述点并且用于产生化妆效果的装置
使用者可通过光敏化妆在脸上定位参考点。
一旦参考点被置于待处理区域上,就可使用设置有用于读取参考点的装置的设备;若需要还优选能够解释参考点。在一个示例性实施例中,该设备可设置有多像素传感器、内部光源、以及施用器装置,例如喷墨打印头。
例如,所述点表示线条。使用者在皮肤上移动该设备,该设备被配置成对表面进行光学分析。作为一个示例,假设待处理区域由闭合轮廓限定,则当该设备确定它第一次通过线条时,它开始沉积有色材料,随后当它第二次通过线条时,它停止沉积该有色材料。
当点被连接起来时可表示形状。该设备可设置有可识别这些点和相应的形状的装置。该设备可沉积有色材料,从而产生该形状。为此,该设备可从通过执行几何矫正而与这些点一致的模型开始。
所沉积的有色材料可限定曲线或内接在曲线内的表面。
线条和/或表面的曲率可以是同质的、随机异质的、或几何异质的,即包括重复图案。
存在于待处理区域上的点可限定编码。该设备可设置有用于解释相应于这些点的编码、以及用于施用所选择的和/或以取决于所识别的编码的方式施用的组合物的装置。
作为一个示例,某些点形成第一图案而其他点形成不同的图案。该设备根据检测到的图案,施用两种不同的组合物或不同浓度的相同的组合物。
光保护组合物
如上所述,一旦已实现所期望的外观,就将光保护组合物施用到热稳定光致变色组合物上。当用于使热稳定光致变色组合物显色的照射为紫外线照射时,该光保护组合物可作为对紫外线辐射的防护。
适当地,若需要,为了降低擦除光致变色剂的风险,光保护组合物也可作为对于可见光中至少一个预先限定的波长的防护。
可使用一种或多种光学剂,所述光学剂为光致变色组合物提供针对日光辐射(290nm至400nm)的、在2至20范围内的、优选在4至10范围内的防护力F。
适当地,所述光保护组合物可以是上光组合物、油性或润肤组合物、爽肤组合物、腮红霜、腮红粉、擦光剂、或抛光组合物。
光学剂
形成对用于显色的辐射、特别是紫外线和近紫外线的防护的光学剂
上述的光学剂可以选自防护物和扩散微粒或其他限制紫外线、特别是UVA和/或UVB的传输的试剂。
所述光学剂可选自无机防护物(特别微粒形式的以及在纳米范围内的)、以及有机防护物。
所述光学剂可以是亲水的或亲脂的。
有机滤光器可选自氨基苯甲酸盐衍生物、肉桂衍生物、水杨酸衍生物、莰酮衍生物、苯并咪唑衍生物、苯并三唑衍生物、亚苄基丙二酸衍生物、咪唑啉、双-苯并恶唑基衍生物、苯并恶唑衍生物、三嗪衍生物、苯甲酮衍生物、二苯甲酰甲烷衍生物、β二苯基丙烯酸盐衍生物、对氨基苯甲酸衍生物、在申请WO93/04665中描述的聚合物防护物以及硅树脂防护物、源自α-烷基苯乙烯的二聚体、4,4-二芳基丁二烯、以及其混合物。
可提及的亲脂防护物的示例为在公开FR-A-2 326 405、FR-A-2 440 933、EP-A-0 114 607中描述的二苯甲酰甲烷衍生物、来自Givaudan的1789、来自Merck的Eusolex。还可以提及被称为奥克立林以及可从BASF获得的商品名称为Uninul N 539的2-乙基己基a-氰基-b,b-二苯基丙烯酸酯。
还可提及以Eusolex EX 6300为商品名称由Merck出售的对甲基苯亚甲基莰酮。
从以下选出的防护物也可被用作光学剂:苯甲酮-3(氧苯酮)、苯甲酮-4(舒利苯酮)、苯甲酮-8(二羟苯宗)、双-乙基己氧苯酚甲氧苯基三嗪(BEMT或Tinosorb S)、二乙基氨基羟基苯甲酰苯甲酸己酯(Uvinul+)、甲氧基肉桂酸辛酯、水杨酸辛酯、乙基己基三嗪宗、氨基苯甲酸甲酯(meradimate)、(4-)甲基亚苄亚基樟脑(Parsol 5000)、亚甲基双苯并三唑基四甲基丁基苯酚(TinosorbM)、对氨基苯甲酸盐(PABA)、苯基苯并咪唑磺酸(Ensulizole)、聚硅氧烷-15(Parsol SLX)、三乙醇胺水杨酸盐。
所使用的光学剂也可由扩散微粒形成,例如钛或锌氧化物纳米颜料,所述扩散微粒适用于作为防护物使用,并根据所选择的介质进行各种表面处理。纳米颜料具有5nm至1000nm的典型平均尺寸。
相对于光保护组合物在施用前的重量,所述光学剂的总浓度(以重量计)可在0.001%至30%的范围内,或对于干的或近干的配方甚至更多。
优选地,防护物或组合被用在用作对从320nm至400nm范围内的、优选在320nm至420nm范围内的辐射的防护的组合物中。
旨在限制可见光和红外线光朝向光致变色剂的的传播的光学剂
当使用能够被紫外线照射而显色的热稳定光致变色组合物时,尽管用作对紫外线辐射的防护的光学剂起到保护未显色区域的作用,但是也可将一种或多种防护可见光的光学剂施用在热稳定光致变色组合物上,从而保护显色区域,并且有利地,可以结合这两者,即防护紫外线且防护可见光。
可使用许多着色剂或颜料。特别地,优选使用具有接近皮肤颜色的着色剂,例如黄色着色剂、橙色着色剂或能够产生黄色、橙色、赭色、褐色、或栗色色彩的混合物,或甚至例如优选以小剂量使用或与白色或黄色扩散剂混合使用的红色着色剂,从而提供色彩柔和的外观,例如粉红色或嫩粉红色。对于白皮肤优选使用具有淡粉红色色彩的着色剂,对于白皮肤使用淡黄色色彩、以及对于被称为黑色的皮肤使用栗色或褐色色彩。
单独的或作为混合物,着色剂可具有接近皮肤色度的色度。它们优选具有小于40的色度C*(在HVC*系统中)。
所述着色剂可选自:
·被编纂在颜色索引(Color Index)中的黄色颜料,具有编号CI 11680、11710、15985、19140、20040、21100、21108、47000、47005;
·被编纂在颜色索引中的橙色颜料,具有编号CI 11725、15510、45370、71105;以及
·被编纂在颜色索引中的红色颜料,具有编号CI 12085、12120、12370、12420、12490、14700、15525、15580、15620、15630、15800、15850、15865、15800、17200、26100、45380、45410、58000、73360、73915、75470。
在光保护组合物中,可使用有机颜料的颜料浆,例如HOECHST以下述商品名称出售的产品:
·JAUNE COSMENYL IOG:颜料5t黄色3(Cl 11710);
·JAUNE COSMENYL G:颜料 黄色1(Cl 11680);
·ORANGE COSMENYL GR:颜料 橙色43(Cl 71105)。
可使用色淀(lakes),特别是那些通过名目被已知的D & C红色21(CI 45380),D & C橙色5(CI 45370),D & C红色27(CI 45 410),D & C橙色10(CI45 425),D & C红色3(CI 45 430),D & C红色7(CI 15 850:1),D & C红色4(CI 15 510),D & C红色33(CI 17 200),D & C黄色5(CI 19 140),D & C黄色6(CI 15 985),D & C黄色10(CI 77 002)。
着色剂可以是离子的或中性的。
中性着色剂和颜料是特别有利的,因为它们与自然肤色很好地结合,并且它们中的一些随着时间失去它们的颜色。它们例如从植物或天然分子中提取,所述天然分子已经被人工复制,选自例如黑色素、花色素、多酚、卟啉、以及姜黄色素。
它们例如可以是通过吲哚和/或苯酚衍生物的氧化聚合获得的颜料,例如在公开FR-2 679 771中描述的那些。
具有补充紫外线防护的离子性质的着色剂和颜料是特别有利的,例如具有阴离子功能的着色剂,例如某种食品着色剂和阳离子过滤器。
也可使用IR滤光器或在反应时变成有色的化合物,例如DHA。
也可使用在与空气接触的情况下趋于变得逐步着色的变色着色剂,例如颜色随着时间增强的着色剂,若可能、则缓慢地增强,例如DHA或多酚。这使得光保护组合物的防护力逐步增强。
热不稳定光致变色剂
用在光保护组合物中的光学剂可以是热不稳定光致变色着色剂。这不用于产生光敏化妆妆容,而是为了在曝光于过强的光线下时保护它,例如在非常强的日光下或在人工效应下,例如用在电视演播室中的照明、某些医疗处理、诸如晒黑间的某些化妆处理,例如,闪光摄影术、或某些节日会场。
热不稳定光致变色剂在非常强的发光期间呈现其颜色,并且以某种方式,它可限制基础光敏化妆的可视性。然而,由于一旦该非常强的发光被停止,热不稳定光致变色剂就快速恢复成其无色形式,因此该现象是短暂的。
优选地,所使用的热不稳定光致变色剂在25℃的黑暗中在60秒内失去其颜色的至少一半。特别地,优选为无机热不稳定光致变色剂。
能够反射入射光的光学剂
特别是为减弱紫外线光或可见光,所使用的光学剂可以是形成金属镜的光学剂,或是基于多层干涉结构或衍射光栅的光学剂。
适合单独使用的或作为以上列出的光学剂的补充的光学剂为能够反射入射光的光学剂。反射发生在反射层与光波的传播介质之间。形成反射层的材料可具有大于1.5的折射率,若可能,则大于1.8。
光学剂可包含金属或由金属形成。作为一个示例,通过减少银盐或通过应用银纳米颗粒的分散,在施用光保护组合物时形成银层。
光保护组合物的反射度可以大于5%,并且若可能,则大于10%。优选地,反射度小于50%,从而不损害光敏化妆效果。作为一个示例,光保护组合物可包括银纳米颗粒的水或乙醇的悬漂液,例如,来自Nippon Paint的银纳米颗粒,那些银纳米颗粒根据样品具有10nm至60nm的尺寸,并且通过聚合系统被稳定。干燥时,该稳定性不妨碍颗粒接触,并且利用这些接触确保足够的电导率,以为最终材料提供接近于用银镜所获得的反射能力。
可使用包括多层干涉结构的光学剂。
该干涉结构利用在由该结构的各个层反射的光波之间的相消干扰现象来过滤光线。
优选选择多层结构,以便具有在可见光中的高的传输因子,使得它不产生可见光中的明显颜色,并且使得它具有所期望的透明度。
该多层结构可包括低折射率和高折射率交替的层。作为示例,高折射率层和低折射率层之间的折射率差为0.1或更大,优选为0.15或更大,更优选为0.6或更大。
在上述多层结构中层的数目优选至少为2,更优选为4或6,或甚至至少为12,该数目便于产生对入射光较不敏感的并且具有所需的选择性的结构。该多层结构可任选为对称的,并且可允许视情况过滤与光进入该结构的主要面无关的入射光。
具有高折射率的材料可以是矿物质,例如,锐钛矿或金红石形式的二氧化钛、氧化铁、二氧化锆、氧化锌、硫化锌、氯氧化铋、以及其混合物,或所述材料是有机物,选自例如:PEEK(聚醚醚酮)、聚酰亚胺、PVN(聚(2-萘乙烯))、PVK(聚(N-乙烯基咔唑))、PF(酚醛树脂)、PSU(聚砜树脂)、PaMes(聚(α-甲基苯乙烯))、PVDC(聚(偏二氯乙烯))、MeOS(聚(4-甲氧苯乙烯))、PS(聚苯乙烯)、BPA(双酚-A聚碳酸酯)、PC(聚碳酸酯树脂)、PVB(聚(苯甲酸乙烯酯))、PET(聚(对苯二甲酸乙二醇酯))、PDAP(聚(邻苯二甲酸二烯丙酯))、PPhMA(聚(苯基异丁烯酸酯))、SAN(苯乙烯/丙烯腈共聚物)、HDPE(高密度聚乙烯)、PVC(聚氯乙烯)、POM(聚(缩水甘油醚)或聚甲醛)、PMA(聚(丙烯酸甲酯))等、以及其混合物。
具有低折射率的材料可以是矿物质,例如选自二氧化硅、氟化镁、氧化铝以及其混合物,或所述材料可以是有机物,例如选自聚合物,例如,聚甲基丙烯酸甲酯或聚苯乙烯、聚亚安酯以及其混合物。
为产生具有多层结构的干扰颗粒,技术人员将特别参考一些处理薄层沉积的出版物,例如来自综述Applied Optics的2002年6月1日的文章“OvercoatedMicrospheres for Specific Optical Powers”,Vol.41,n°6,通过参考合并到本文中;并且参考名称为FLEXPRODUCTS的专利。
光学剂可包括衍射结构,例如至少一个衍射光栅,所述衍射光栅可以是包括大体上重复的表面图案的光栅,以便衍射光。
光栅的周期以及可能其深度确定光栅的衍射特性等。衍射光栅的线圈间隙因数(mark space ratio)可以被选择为统一的。
优选地,衍射光栅在至少一个方向上的周期有利为足够低的,以降低在光保护组合物中产生着色效果的风险。则光栅周期有利地被选择成使得不衍射在可见光区域内的光,特别是在从400nm至780nm范围内的光。
用于避免可见光内的衍射级的光栅周期的最大值可以至少近似通过下列关系式确定:
其中,θ为相对于光栅板法线测量的入射角,ψ为传播角,Λ为光栅的周期,m为衍射级,n1和n2分别为入射和传播介质的折射率。n1和n2可取第一近似值1.5。对于θ=0°,最大周期为λ/n1=400/1.5,即约267nm。不限制入射角,则周期小于一半。因此,优选地,选择270nm或更小、优选为140nm或更小的光栅的周期。
例如,可通过连续测试来选择光栅的深度d及其周期Λ,从而获得UVA中的传播最小值。可以矢量形式执行光栅特征的计算,例如使用来自GRATINGSOLVER DEVELOPMENT COMPANY的GSOLVER软件。
用于产生衍射光栅的该层或各层可以被任选地放置在有机性或无机性的基底上,该基底为可用的基底或可随后承受溶解处理。
因此,光栅的结构可以被蚀刻在材料的主体内、或者在将材料沉积在有机或无机基底上之后被蚀刻,该基底的形状是球状的或薄层状的。
可以进行蚀刻,使得可见光区域内的光衍射被最小化,从而降低颜色效应。蚀刻的周期性以及其厚度决定系统在减弱紫外线辐射方面的效率。
干涉过滤剂可任选地包括两个在不平行的方向上、例如在两个大体上垂直的方向上延伸的衍射光栅,所述光栅可特别增加被循环极化的入射光在紫外线内的吸收,并且可降低滤光器的防护性能对入射角度的依赖性。
这两个衍射光栅可具有大体上相等的周期Λ1和Λ2;特别地,两个都为270nm或更小,优选为140nm或更小。
当这两个衍射光栅具有表面起伏时,它们的深度也可大体上相等,并且所述起伏可产生光栅因子的周期性变化。
光栅的周期可以是恒定的或变化的,并且深度可以是恒定的或变化的。光栅可在直线或曲线方向上延伸。
衍射光栅可包括具有不同折射率的重叠的层。衍射光栅可至少部分由电介质材料制成。
光栅可使用各种图案;所述图案可以例如在截面中具有矩形或三角形开垛口、或正弦曲线波动、或阶梯式开垛口。
衍射结构可被形成在颗粒的主要面的至少一部分上方,优选在颗粒的两个主要面上方。
衍射结构可包括覆盖光栅的保护和非衍射层。
也可提及具有干涉效应并且未被固定到基底上的颜料,例如液晶(来自Wacker的Heliciones HC),以及干涉全息片(来自Spectratrek的GeometricPigment或Spectra f/x)。
组合物可包括用于防护UVA和/或UVB的干涉成分的混合物,例如具有不同周期和/或深度的衍射光栅的颗粒。
能够改变入射光波长的光学剂
光保护组合物可包括荧光化合物。
术语“荧光”化合物表示吸收紫外线光谱中的光线并且可能吸收可见光光谱中的光线、并且将吸收能改变成具有更长的波长的在光谱的紫外线或可见光部分中发射的荧光的化合物。
该化合物可以是光学增白剂,该光学增白剂可以是透明和无色的,不吸收可见光而仅吸收紫外线,并且将吸收能改变成更长波长的荧光,例如增加20nm,或优选增加50nm,或甚至增加100nm,该荧光在光谱的可见光部分中被发射;因此通过所述增白剂产生的颜色效果可通过占主导地位的具有400nm至500nm波长的纯蓝色荧光唯一地产生。
所述化合物可以在溶液中或为颗粒。
该荧光化合物可以是具有下列分子式的二酮吡咯并吡咯:
其中,R1、R2、R3和R4相互独立,表示:氢原子;卤素原子;C6-C30芳基;羟基;氰基;硝基;磺基;氨基;酰氨基;二(C1-C6)烷胺基;二羟基(C1-C6)烷胺基;(C1-C6)烷基羟基(C1-C6)烷胺基;(C1-C6)烷氧基;(C1-C6)烷氧羰基;(C1-C6)羧基烷氧基;哌啶磺酰基;吡咯基;(C1-C6)卤代烷基(C1-C6)烷胺基;苯甲酰(C1-C6)烷基;乙烯基;甲酸基;C6-C30芳基,可被一个或多个选自下列基团的基团取代:羟基,直链、支链或环C1-C6烷氧基,包含1至22个碳原子的任选地被一个或多个羟基、氨基、C1-C6烷氧基取代的直链、支链或环烷基;包含1至22个碳原子的直链、支链或环烷基,任选地被一个或多个选自羟基,氨基,直链、支链或环C1-C6烷氧基的基团取代,任选地被芳基、羧基、磺基、卤素原子取代,所述烷基可被杂原子中断。
荧光化合物可以是具有下列分子式的萘酰亚胺:
其中:
R1、R2、R3相互独立,表示:氢原子;卤素原子;C6-C30芳基;羟基;氰基;硝基;磺基;氨基;酰氨基;二(C1-C6)烷胺基;二羟基(C1-C6)烷胺基;(C1-C6)烷基羟基(C1-C6)烷胺基;(C1-C6)烷氧基;(C1-C6)烷氧羰基;(C1-C6)羧基烷氧基;哌啶磺酰基;吡咯基;(C1-C6)卤代烷基(C1-C6)烷胺基;苯甲酰(C1-C6)烷基;乙烯基;甲酸基;C6-C30芳基,任选地被一个或多个选自下列基团的基团取代:羟基,直链、支链或环C1-C6烷氧基,包含1至22个碳原子的任选地被一个或多个羟基、氨基、C1-C6烷氧基取代的直链、支链或环烷基;包含1至22个碳原子的直链、支链或环烷基,任选地被一个或多个选自羟基,氨基,直链、支链或环C1-C6烷氧基的基团取代,任选地被芳基、羧基、磺基、卤素原子取代,这5个烷基可被杂原子中断;取代基R1、R2、和R3与它们附着到的碳原子可形成包括总共5至30个键以及1至5个杂原子的芳香族或非芳香族的C6-C30或杂环的环;所述环可任选地被缩合,可任选地具有被插入的羰基,以及可被一个或多个选自C1-C4烷基、(C1-C4)烷氧基(C1-C4)烷基、氨基、二(C1-C4)烷胺基、卤素、苯基、羧基,以及三(C1-C4)烷铵基(C1-C4)烷基的基团取代或不被取代。
荧光化合物可以是均二苯代乙烯衍生物,例如:
其中,分子式R表示甲基或乙基;R’表示甲基,X-表示氯化物、碘化物、硫酸盐、甲硫酸盐、醋酸盐、高氯酸盐类型阴离子。
可提及的该类型的化合物的示例为UBICHEM出售的Photosensitizing DyeNK-557,其中,R表示乙基,R’表示甲基,以及X-表示碘化物。
荧光化合物可以是次甲基衍生物,例如:
或具有下列通式的噁嗪或噻嗪衍生物:
还可提及二氰基吡嗪衍生物(来自Nippon Paint)、萘内酰亚胺、氮代内酯衍生物、若丹明、以及氧杂蒽衍生物。
还可使用矿物质(MgO、TiO2、ZnO、Ca(OH)2等)或有机(乳胶等)颜料或在颗粒内部或表面上包括所述化合物的颗粒。
荧光化合物也可以是具有荧光效应的半导体化合物,例如小颗粒形式的被称为量子点的半导体化合物。
量子点是在光激发下能够发射波长在400nm至700nm范围内的辐射的发光半导体纳米颗粒。这些纳米颗粒可根据例如下列方法制造:专利US-A-6 225 198或US-A-5 990 479中描述的方法、这两篇专利汇总引用的出版物中描述的方法、以及在下述出版物中描述的方法:Dabboussi B.O.et al″(CdSe)ZnS core-shellquantum dots:synthesis and characterization of a size series of highly luminescentnanocrystallites″Journal of Physical Chemistry B,vol 101,1997,pp 9463-9475,以及Peng,Xiaogang et al,″Epitaxial Growth of Highly Luminescent CdSe/CdSCore/shell Nanocrystals with Photostability and Electronic Accessibility″Journal ofthe American Chemical Society,vol 119,N°30,pp 7019-7029。
例如,优选的荧光化合物为发射橙色和黄色的化合物。
优选地,本发明中作为光学剂使用的荧光化合物在500nm至650nm波长范围内、优选在从550纳米至620纳米波长范围内具有最大反射系数。
荧光化合物的示例为属于下述族的那些化合物:萘酰亚胺类;阳离子或非阳离子的香豆素类;占吨并二喹嗪(例如特别是磺酰罗丹明);氮杂占吨酮;萘内酰亚胺类;吖内酯类;噁嗪类;噻嗪类;二恶嗪类;单独或混合使用的偶氮、甲亚胺或次甲基类荧光聚阳离子着色剂。
更特别地,可提及下述化合物:
·SANDOZ出售的具有下列结构的Jaune Brilliant B6GL:
·PROLABO、ALDRICH或CARLO ERBA出售的具有下列结构的BasicYellow 2或Auramine O:
所使用的荧光化合物可以是氨苯次乙基芳基化合物,其中芳基为可任选地被取代的吡啶或可以任选地被取代的其他阳离子基团,例如咪唑啉鎓(imidazolinium)。
作为一个示例,可使用的荧光化合物,例如2-[2-(4-二烷胺基)苯基次乙基]-1烷基吡啶,其中,吡啶中心的烷基表示甲基或乙基,而苯环的烷基表示甲基。
光学剂可在同一分子上包括多个荧光基团。示例为二聚物,例如:
其中,可以是相同或不同的R1和R2表示:
·氢原子;
·包含1至10个碳原子、优选1至4个碳原子的直链或支链烷基,可任选地被中断和/或被至少一个杂原子和/或包括至少一个杂原子的基团取代和/或被至少一个卤素原子取代;
·芳基或芳烷基,芳基包含6个碳原子,烷基包含1至4个碳原子;芳基任选地被一个或多个包含1至4个碳原子、任选地被中断和/或被至少一个杂原子和/或包括至少一个杂原子的基团取代和/或被至少一个卤素原子取代的直链或支链烷基取代;
·R1和R2可任选地被连接,从而形成具有氮原子的杂环并且包括一个或多个其他杂原子,该杂环任选地被至少一个优选包含1至4个碳原子的直链或支链烷基取代并且任选地被中断和/或被至少一个杂原子和/或包括至少一个杂原子的基团取代和/或被至少一个卤素原子取代;
·R1或R2可任选地被接入包括氮原子的杂环中并且苯基的碳原子中的一个携带所述氮原子;
·可任选为相同的R3、R4表示氢原子或包含1至4个碳原子的烷基;
·可以任选为相同的R5部分表示氢原子、卤素原子、或包含1至4个碳原子、任选地被至少一个杂原子中断的直链或支链烷基;以及
·可以任选为相同的R6部分表示:氢原子;卤素原子;包含1至4个碳原子、任选地被至少一个杂原子和/或携带至少一个杂原子的基团取代和/或中断和/或被至少一个卤素原子取代的直链或支链烷基。
X表示:
·包含1至14个碳原子的直链或支链烷基,或包含2至14个碳原子、任选地被至少一个杂原子和/或包括至少一个杂原子的基团中断和/或取代和/或被至少一个卤素原子取代的烯基;
·包括5或6个与包含1-4个碳原子、任选地被至少一个杂原子取代的至少一个直链或支链烃基,或与至少一个卤素原子的连接、任选地被至少一个包含1至14个碳原子的直链或支链烷基取代、任选地被至少一个杂原子取代的杂环;
·芳基或二芳基,可任选地被包含1至4个碳原子的烷基缩合、断开或不断开,该芳基任选地被至少一个卤素原子或被至少一个包含1至10个碳原子、任选地被至少一个杂原子和/或携带至少一个杂原子的基团取代和/或中断的烷基取代;
·二羰基;
·可能携带一个或多个阳离子电荷的基团X;以及
·a等于0或1。
可以任选为相同的Y-表示有机或矿物质阴离子,n为最小等于2并且最大等于存在于荧光化合物中阳离子电荷数的整数。
其他的二聚物是可能的,例如其中在两个非阳离子基团之间形成附着点的那些二聚物,或例如其中吡啶基团被其他的诸如咪唑啉基团的芳基阳离子基团取代的那些二聚物。
二氰基吡嗪族可以提供发橙色荧光的化合物,其可用在本发明中。
也可使用发橙色荧光的颜料。一个示例为SunChemical出售的Sunbrite-SG2515黄橙色颜料。
光保护组合物的施用
如图12所示,使用者可在充分涂布热稳定光致变色组合物层的整个被处理区域上施用光保护组合物,或相反地,以局部化方式仅在特定区域上施用光保护组合物。在该图中,光敏化妆已经产生,其中,热稳定光致变色组合物PC完全被光保护组合物PP覆盖。光保护组合物可以例如被定位至涂覆有热稳定光致变色组合物的区域的边缘,由此,当光敏化妆比热稳定光致变色组合物层的延伸小时,光保护组合物围绕光敏化妆图案。
光保护组合物层也可以是柔韧薄膜的形式,以被粘合到诸如皮肤的角质材料上。该薄膜的物质可作为光学剂和/或该薄膜可包括至少一种被散布在该薄膜的物质中的光学剂。该薄膜也可例如以压印或多层干涉结构的形式携带包含光学剂的涂层。
使用者可将所述薄膜施用在整个热稳定光致变色组合物层上,或可剪切该薄膜,以仅覆盖未显色区域,而不覆盖显色区域。
可使用自动剪切系统,从光敏化妆的内容、例如其轮廓开始,将保护薄膜剪切成合适的形状。随后使用者将所剪切的保护薄膜放在未显色区域上。
在本发明的另一个示例性实施例中,通过将携带至少一种光学剂的支撑层施加到待处理区域上来通过转移沉积光保护组合物。使用者使该支撑层与涂覆有热稳定光致变色组合物的角质材料接触,并且随后使用摩擦或其他手段、例如加热或溶剂,以使光学剂被转移到热稳定光致变色组合物层上。
在本发明的一个示例性实施例中,光保护组合物层是可逆的,即,使用者可以移除它,而不移除热稳定光致变色组合物的第一层。
为此,第一层可被形成为使得它耐水或耐水与表面活性剂的混合物,而第二层可被形成为使得它不耐水或不耐水与表面活性剂的混合物。
也可产生可剥离的第二层。为此,可使用第二层,在第二层被施加到第一层上之前或之后形成粘合涂层。当第二层可剥离时,它例如包括弹性体材料。
在本发明的一个示例性实施例中,例如通过热稳定光致变色组合物使用诸如硅胶或氟化化合物的低表面张力的化合物将第二层更少地粘附在第一层上。在本发明的另一个示例性实施例中,中间非粘性层被插入在第一和第二层之间,以便移除光保护组合物层。
特别地,当光保护组合物层是可逆的时,它可具有非常高的防护力F,例如20或更大。
可沉积包含光学剂的单一层或包含多种不同光学剂的多个层。
作为一个示例,单一层可被沉积成确保保护热稳定光致变色层不受紫外线和可见光的影响。
也可沉积特殊紫外线保护层以及用于额外防护紫外线和/或可见光的额外层,例如,所述额外层包括着色剂或热不稳定光致变色剂。
也可使用一个紫外线保护层以及包括确保额外防护紫外线的荧光化合物的额外层。
在一种特别的可能性中,施用包括第一层和第二层的多层薄膜,第一层为热稳定光致变色组合物层,第二层为包括光学剂的光保护层,该光学剂形成针对热稳定光致变色组合物的显色辐射的防护。该薄膜可以是自支持的或它可以通过转移被施加。
热稳定光致变色组合物可被施用到角质材料上,或它可在基层上,特别是如下文中限定的基层。
如上所述,第二组合物可被直接施用到热稳定光致变色组合物层上,或被施用到在两层之间的中间层上。适当地,第二组合物自身可被涂覆额外层。
各层成分的选择
在本发明的一个示例性实施例中,两个相继被施加的层可以是物理上互补的,所述两个层例如为热稳定光致变色组合物层和光保护组合物层,或是基层和热稳定光致变色组合物层,或是热稳定光致变色层和旨在形成保护光敏化妆的材料的层,用以允许或便于第二层稳定在第一层上,和/或允许或便于第二层在第一层上的涂布。
离子性质互补可以是有利的。因此,例如,第一层可包含阴离子聚合物而第二层包含阳离子化合物,例如阳离子过滤器、阳离子着色剂或阳离子荧光化合物。反之亦然。
表面张力互补也可以是有利的。因此,例如通过使用至少一种亲水聚合物,第一层可具有优选大于40mN·m-1(毫牛每米)的表面张力。例如通过使用主要是油性的硅胶、或氟化组合物,或通过使用其中已引入一种或多种表面活性剂的含水组合物,第二层可具有比第一层小的第二表面张力,优选小于40。
第二层的成分(溶剂、黏合剂等)可被选择成使得它们不是第一层的溶剂。
作为一个示例,可为第一层选择有机溶剂(乙醇、丙酮、乙酸烷基酯、碳质油(例如异十二烷)、挥发性硅胶,而可为第二层选择含水或水醇溶剂,或反之亦然。
也可为这两层选择两种有机溶剂或两种含水溶剂,假设在干燥第一层时,发生转变。作为一个示例,使用包含乳胶的第一层。在干燥时,乳胶联合并且使第一层不影响第二层的施加。也可使用包含低水溶性丙烯酸/丙烯酸酯共聚物的第一层,通过与挥发性成分、例如氨水中和而变成水溶性的。在干燥第一层后,氨水将蒸发并且使第一层变成耐水的。
基层
光保护第一组合物的基层可被施用在角质材料上,该光保护第一组合物包含至少一种光学剂,该光学剂能够至少暂时形成对波长λ的防护,特别是对320nm至400nm范围内的波长的防护,并且所述基层可具有被施用在其上的能够通过至少曝光于波长λ的辐射下而显色的第二热稳定光致变色组合物;所述光学剂可选自上文中描述的那些。
作为示例,并且至少在光保护组合物被施用时,所施用的作为基层的光保护组合物具有针对日光辐射的至少为2、优选为5或10的防护力F。
使用基层可通过使得热稳定光致变色组合物的光致变色剂朝向在下面的角质材料的迁移变得更困难来降低使皮肤染色的风险。
当第一和第二组合物不相互混合时,该迁移可被进一步减慢或甚至被阻止,例如,组合物中的一种是含水的、而另一种不含水,或反之亦然,从而形成两种相。
如需要,则可在基层上施用至少一个中间层,从而将该中间层置于热稳定光致变色组合物与基层之间。
例如,该中间层可具有提高热稳定光致变色组合物在基层上保持的效果,或相反地,可具有在卸妆期间便于从基层上移除热稳定光致变色组合物的效果。该中间层可以是聚合物或蜡层。
特别地,该中间层不需要作为对用于使热稳定光致变色组合物显色的波长λ的防护。
此外,可在基层下面施用另一组合物层,从而便于它粘合到皮肤。因此,基层不需要直接与皮肤接触。在一个变型中,基层被直接施用到皮肤或其他角质材料上。
光敏化妆的机械保护
在角质材料上可施用至少一层热稳定光致变色组合物,并且利用第二组合物或利用附加的能量,它可形成机械地保护在热稳定光致变色组合物层中的光敏化妆的材料。
也可以在热稳定光致变色组合物层上沉积至少一个覆盖层,这使得能够形成确保光敏化妆的机械保护的材料。
通过选择性地使热稳定光致变色组合物层显色,可在形成为光敏化妆提供机械保护的材料之前或之后产生光敏化妆。
提高光敏化妆的机械保持可延迟所形成的图像的恶化并且图像的锐度随着时间的损失被减慢。此外,使得光敏化妆对摩擦和移动敏感性更低。也降低了热稳定光致变色组合物转移到服装或身体的其他区域上的风险。
因此,可在诸如被服装覆盖的区域上产生更持久的光敏化妆,例如在后背、腹部、胸部、腿或股上。
所述材料可通过不必需要被完成的溶剂蒸发或通过聚合或交联反应形成。通过聚合和/或交联的表面硬化可验证充分提高保持。
提供光敏化妆的机械保护的材料有利为透明的。
当该材料覆盖热稳定光致变色组合物层时,该材料形成磨损层,该磨损层通过在白天期间逐渐的磨损保护光敏化妆。
当该材料覆盖热稳定光致变色组合物层时,该材料还可以通过提供额外的光学效果、例如放大或着色效果而有助于光敏化妆的美学。
当热稳定光致变色组合物提供通过以不同于用于使热稳定光致变色组合物显色的波长的波长照射热稳定光致变色组合物层来擦除光敏化妆的可能性时,如果希望,则该材料可提高其保持,而不会以任何形式阻止光敏化妆被移除;为此,使用者不需要完全移除化妆。
为了形成为光敏化妆提供机械保护的材料,可在热稳定光致变色组合物和/或覆盖层中使用可聚合和/或可交联的化合物。
热稳定光致变色组合物可包括所有用于形成该材料的可聚合和/或可交联的化合物。任选地,用于使热稳定光致变色组合物显色的照射用于聚合和/或交联。
热稳定光致变色组合物也可包括可潜在地聚合和/或交联的第一试剂。在热稳定光致变色组合物的光致变色剂显色之后或之前,施用通过与第一试剂结合可执行聚合或交联的第二化合物。照射也可任选地用于引起聚合和/或交联。
在其他示例性实施例中,在施用热稳定光致变色组合物和产生光敏化妆妆容之后,施用第二组合物。
可在用于使光致变色剂显色的照射之前或之后施用覆盖层。其平均厚度可至少为2μm(微米),若该材料是相当硬或弹性体的,若可能则平均厚度至少为5μm,若该材料具有相当小的弹性系数,则平均厚度优选至少为10μm。
当角质材料被包括光敏化妆的单一层覆盖时,所述层的厚度优选大于5μm,更优选大于10μm。该厚度优选小于1mm(毫米)。
当热稳定光致变色组合物包含所有或一些可潜在地交联的化合物时,在第二阶段中,可在干燥第一组合物之前或之后施用引起交联或交联所必需的第二化合物。第二层的厚度(在任何溶剂蒸发之后所表现出的)优选等于第一层的厚度的至少20%,优选大于第一层的厚度的50%。第二层的厚度优选大于5μm。
当热稳定光致变色组合物不包括任何可潜在地交联的化合物时,在第二阶段中,可施用包含产生交联的化合物的第二组合物。第二层的厚度(在蒸发掉任何溶剂之后所表现出的)优选等于第一层的厚度的至少10%,并且优选大于第一层的厚度的30%。第二层的厚度为至少大于5μm,优选小于1mm。
允许形成该材料的聚合和/或交联可以是化学的或物理的。
化学聚合和/或交联
术语“化学交联”的意思是化合物、不管是单独、或通过与第二化合物反应、或通过辐射作用、或通过提供能量能够产生分子之间共价化学键。结果是增强包括所述化合物的材料的粘合。
该化合物可以是简单分子,或它可以已经是多个分子结合的结果,例如寡聚物或聚合物。该化合物可携带一个或多个反应官能。
优选的分子是那些在交联之后提供固态和/或可变形但为弹性体材料的分子。
化学官能可与相同性质的另一官能反应或可与另一化学官能反应。
与相同性质的另一官能的反应
例如,这些是乙烯官能,特别是丙烯酸酯、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸酯、甲基丙酸烯、或苯乙烯。
为了反应,这些分子通常需要外部形式的活化,例如光、热、使用催化剂、或与光敏引发剂以及可能的旨在扩大光敏引发剂的活动光谱的光敏剂结合。例如在专利CA-A-1 306 954和US-A-5 456 905中描述了光可聚合的和/或光可交联的组合物。
可使用如在专利EP-A-1 247 515中描述的携带乙烯官能的聚合化合物。
乙烯官能可被吸引基活化,从而加速反应并提供任何外部活化剩余的供给。这是氰基丙烯酸乙酯单体的特点,对于该单体,单独存在的催化剂(例如水)允许反应发生。
例如可通过吸引基适当地活化乙烯官能。优点为该反应需要外部活化(当控制该反应的开始和产物时,这是重要的),但不需要光敏引发剂。例如,它可以是氰基丙烯酸酯单体,特别是在其中酯官能携带的基团包含至少2个、若可能为4个的碳连接的丙烯酸酯单体。
优选需要外部活化(例如光)但不需要光敏引发剂的分子。因此,能够通过光二聚而反应的分子,例如在专利EP-A-1 572 139中描述的那些是特别优选的,特别是那些携带如下官能的分子:
1)芪:
其中:
·R表示氢原子、烷基或羟烷基;以及
·R’表示氢原子或烷基;
2)苯乙烯基唑鎓(styrylazoliums):
其中:
A指定硫原子、氧原子或NR’或C(R’)2、基团、R和R’与在上文中所限定的一样;
3)查耳酮;
4)(硫代)肉桂酸和(硫代)肉桂酰胺;
5)马来酰亚胺;
6)(硫代)香豆酮;
7)胸腺嘧啶;
8)脲嘧啶;
9)丁二烯;
10)蒽;
11)吡啶酮;
12)吡咯里嗪酮;
13)吩嗪鎓盐(acridizinium salts);
14)呋喃酮;
15)苯基苯并噁唑;
16)苯乙烯基吡嗪。
在相同性质的另一官能上进行的反应不限制于涉及乙烯官能的反应。
可通过缩合而反应的化合物也是优选的,例如:
·硅氧烷基,特别是二烷氧基-或二羟基-硅烷官能、三烷氧基-或三羟基-硅烷官能。可使用携带有烷基三烷氧基硅烷或二烷基三烷氧基硅烷官能、特别是烷基烷氧基硅烷官能的分子,其中烷基携带水溶性官能例如胺,例如,所述分子为诸如氨基三乙氧基硅烷或氨基三乙氧基硅烷的分子,或携带这样的官能的分子。除了基于硅氧烷的小分子(单体或寡聚物),还可使用具有质量的化合物,特别是在专利FR-A-2 910 315中描述的那些;
·基于钛的溶胶-凝胶。
通过这些分子,可控制开始和反应产物。
能够通过氧化而反应的化合物也是优选的,例如携带至少两个羟基官能、或一个羟基官能和一个胺官能、或一个羟基官能的芳香族化合物,例如儿茶酚(cathecol)或二羟吲哚。例如,氧化剂可以是来自空气的氧气或诸如过氧化氢的其他氧化剂。
与另一官能的反应
在这种环境中反应的分子具有两种互补的官能。它们可以是系统,在该系统中,携带官能FA的分子被带入与携带官能FB的分子接触,官能FB能够与官能FA反应。
它们也可以是在相同结构上携带一个或多个官能FA以及一个或多个官能FB的分子。
官能FA可以选自例如:
·环氧化合物;
·氮杂环丙烷;
·乙烯基以及被活化的乙烯基,特别是丙烯腈、丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯;
·巴豆酸和酯、肉桂酸和酯、苯乙烯以及衍生物、丁二烯;
·乙烯醚、乙烯酮、马来酸酯、乙烯砜、马来酰亚胺;
·羧酸酐、氯化物和酯;
·醛;
·缩醛、半缩醛;
·缩醛胺、半缩醛胺;
·酮、α-羟基酮、α-卤代酮;
·内酯、硫代内酯;
·异氰酸酯;
·硫氰酸酯;
·亚胺;
·酰亚胺,特别是琥珀酰亚胺、谷酰胺;
·N-羟基琥珀酰亚胺酯;
·亚胺盐;
·硫代硫酸盐;
·噁嗪和噁唑啉;
·噁嗪盐和噁唑啉盐
·C1至C30烷基或C6至C30芳基或具有分子式RX的芳烷基卤化物,其中X=I、Br、Cl;
·不饱和的碳环或杂环的卤化物,特别是氯三嗪;
·氯嘧啶、氯喹恶啉、氯苯并三唑;
·硫酰卤:RSO2-CL或-F,R是C1至C30烷基。
作为实例,可提及下列携带具有基团FA的官能的分子:
·乙烯基甲醚和马来酸酐共聚物,例如,特别是商品名为Gantrez的由ISP出售的;
·聚甲基丙烯酸缩水甘油酯,特别是由Polysciences出售的;
·聚二甲基硅氧烷缩水甘油酯,特别是由Shinetsu出售的(编号X-2Z-173 FX或DX);
·环氧聚酰胺,例如商品名为Delsette 101的由Hercules出售的产品、来自Hercules的Kymene 450;
·环氧-葡聚糖;以及
·使用NaIO4通过多糖氧化获得的聚醛基多糖(Bioconjugate Techniques;Hermanson GT,Academic Press,1996)。
官能FB可选自XHn官能,X=O、N、S、COO并且n=1或2,特别是乙醇、胺、硫醇和羟酸。
携带FB类型官能的分子的示例如下:
·PAMAM树状分子,特别是由Dendritech出售的、DSM、Sigma-Aldrich(STARBURST,PAMAM DENDRIMER,来自DENDRITECH的G(2,O));
·具有羟基官能的树状分子,特别是由Perstorp出售的、DSM(例如:HBPTMP core 2 Generation PERSTORP);
·PEI(聚乙烯-亚胺),特别是商品名为Pupasol的由BASF出售的;
·PEI-硫醇;
·聚赖氨酸,特别是由Chisso出售的;
·HP纤维素,例如来自AQUALON的KLUCELEF;
·氨基-葡聚糖,例如由Carbomer出售的;
·氨基-纤维素,例如在来自BASF的WO-01/25283中描述的那些;
·PVA(聚乙烯缩醛),例如来自AIRPRODUCTS CHEMICAL的AIRVOL540;
·氨基PVA,例如由Carbomer出售的;以及
·壳聚糖。
该第二种情况也包括可通过硅氢化反应而反应的分子:
(例如,W表示碳链或含硅链)。
专利申请FR-A-2 910 315中描述了这两种成分的细节、商业可用的分子、催化剂的条件以及使用条件。
在一个特殊的可能性中,已经存在于皮肤上或由皮肤分泌出来的分子作为反应物或催化剂使用。例如,典型为水,水可有助于氰基丙烯酸酯反应,或有助于涉及硅氧烷的特定反应。
在另一个特殊的可能性中,作为反应物或催化剂使用的分子存在于环境空气中。典型为特定油的交联反应所涉及的氧气,所述特定油例如干性油,特别是干性植物油,例如亚麻籽油、中国木材油(或桐油)、奥蒂油、斑鸠油、罂粟籽油、石榴籽油、金盏花油、或醇酸树脂。例如,所述反应可通过使用催化剂被加速,所述催化剂例如为辛酸盐、亚油酸盐或碘苯腈辛酸盐形式的钴、锰、钙、锆、锌、锶、铅、锂、铁、铈、钡或锡盐。
在另一个特殊可能性中,所使用的分子通过重新安排相互接合。因此,可使用携带内二硫化物的分子。通过打开内二硫化物并且使所述二硫化物反应,可在分子之间产生新的共价键。
催化剂可用于加速所述反应。作为示例,可使用金属盐,例如锰、铜、铁、铂、钛酸盐或酶例如氧化酶或漆酶。
通过与另一种相同或不同性质的官能反应的化学官能,多种模式的应用是可能的。
作为示例,反应的所有成分都被并入热稳定光致变色组合物中,或除了一种或多种化合物,例如化合物中的一种、或催化剂以外的所有成分都被并入热稳定光致变色组合物中。可能所有成分都未被并入热稳定光致变色组合物中;在施用热稳定光致变色组合物之后并且优选在产生光敏化妆妆容之后,它们被同时或在不同的时间施用。
物理交联
当所使用的成分能够在分子之间产生持久的物理键并赋予最终的材料抗水性时,交联可以是物理的。这些非共价键是离子或氢类键。
可以提及的示例为与具有二价或多价类盐的混合物,例如钙、锌、锶、或铝盐。
作为一个示例,诸如藻酸盐衍生物的化合物A与诸如钙盐的化合物B可被混合。作为示例,藻酸盐衍生物被包含在热稳定光致变色组合物中。在第二阶段中,例如,氯化钙的水溶液以喷雾形式被施用,从而引起交联。
能够产生强氢键的分子也可被提及,例如聚硅氧烷和聚脲嵌段共聚物,并且特别是具有下列分子式的那些分子:
其中:
·R表示包含1至20个碳原子的单价烃基,可被具有一个或多个氟或氯原子取代;
·X表示包含1至20个碳原子的亚烷基,其中,非相邻的亚甲基单元可被-O-原子团取代;
·A表示氧原子或氨基原子团-NR’-;
·Z表示氧原子或氨基原子团-NR’-;
·R’表示氢原子或包含1至10个碳原子的烷基;
·Y表示包含1至20个碳原子的二价烃基,若需要则由氟或氯取代;
·D表示包含1至700个碳原子的亚烷基,若需要则由氟、氯、C1-C6烷基、或C1-C6烷基酯取代,其中,非相邻的亚甲基单元可被原子团-O-、-COO-、-OCO-或-OCOO-取代;
·n是从1至4000的数;
·a是至少为1的数;
·b是从0至40的数;
·c是从0至30的数;以及
·d是大于0的数。
所述官能的细节、商业可用的分子、以及实施条件在专利EP-A-0 759 812中给出。
导致有特定抵抗力的涂层形成的交联化合物
不管交联是化学的还是物理的,交联化合物都可被选择成使得它们提供最大可能的抵抗力,特别是抵抗水和湿气。
因此,例如,可产生高疏水性涂层,特别是为处理身体最易出汗的部分,例如妇女的胸部或腋下。
作为一个示例,可使用多元醇类的第一反应成分FA和全氟烷基三乙氧基硅烷类的第二反应成分FB,所述第一反应成分FA例如为纤维素衍生物。在这种环境下,涂覆在两个阶段中进行。该多元醇被引入到热稳定光致变色组合物中。包含成分FB的涂层组合物被施加到该热稳定光致变色组合物上。
在另一个示例中,所采用的系统能够产生交联涂层;它也包含疏水颗粒。这些结合的一个实例是疏水颗粒与缩合技术或硅氢化反应技术的结合,所述技术例如为在专利FR-A-2 910 315中描述的那些。可使用的固体颗粒可以是矿物质或有机来源、多孔的或非多孔的、有色的或无色的。它们可具有任何形态,优选为球形。颗粒可以是天然疏水的,例如,PTFE粉末就是这样,或这它们可通过涂层变成疏水的,特别是碳氢化合物、硅酮、氟代化合物或氟硅酮的涂层。
例如,基于氧化物或锌盐也可产生提供更好地耐皮脂性和耐脂肪性的涂层,或者也可产生变得更耐拉伸或更耐撕开的涂层。这些改进可使用在对身体移动最多的部分的涂覆,例如嘴唇、手、腋下、脖子、或接近关节的任何区域。
通过使用例如产生具有弹性体性质的材料的交联成分可以获得拉伸强度。也可将提供弹性体性质的非反应化合物并入所述组合物中,例如弹性体聚合物,如去蛋白的天然乳胶或纤维。
一个特殊的可能性是用交联成分灌注编织的或非编织的织物。可以在施用光敏化妆组合物之前或期间或之后,将编织的或非编织的织物施加在皮肤上。将组合物灌注到织物中提供机械强度。
也可以结合该织物和光敏化妆组合物,一旦已产生,随后就通过使用或不使用黏合剂来将它施加到皮肤上。
润滑活性成分可被并入所述组合物中,特别是例如固态润滑剂,例如氮化硼或铝。
也可并入固态填料,特别是疏水的或变得疏水的填料,例如金属氧化物颗粒、金属氢氧化物颗粒、金属碳酸盐颗粒、或有机物颗粒。这些填料可提供额外的抗磨损性。
形成磨损层的覆盖层
涂层可在热稳定光致变色组合物层上形成机械保护材料并作为磨损层。
在任何溶剂蒸发掉之后,该涂层有利地为内聚的,并且它可在照射之前或之后施加。
术语“内聚的”表示该层对接触有抵抗力。作为一个示例,若具有1cm2(平方厘米)表面积的扁平探针被带向涂层,使得它以10N/cm2(牛顿每平方厘米)的压力与该涂层接触,随后在接触5秒钟后该探针被撤回,它不会带走物质。因此,油性化合物被排除。
一旦溶剂已经蒸发掉,涂层就是不黏的。术语“不黏的”表示该层不对撤回提供抵抗力。作为一个示例,若具有1cm2表面积的扁平探针被带向该层,使得它以10N/cm2的压力与该层接触,并且随后在接触5秒钟后它被撤回,则不需要用以完成该撤回的阻力。因此,已知如PSA(压敏粘着剂)的化合物被排除。
形成该涂层的材料可具有小于500MPa(兆帕斯卡)并且大于100KPa(千帕斯卡)的弹性系数,优选在200MPa至1MPa的范围内。
若该材料具有大于10MPa的弹性系数,则其平均厚度为至少1μm,若可能则为至少2μm。若该材料具有小于10MPa的弹性系数,则其平均厚度为至少2μm,若可能则为至少5μm。
当形成该覆盖层的材料是弹性体的,即在破裂前具有至少为400%的最大形变并且在等待1分钟之后具有至少90%的弹性恢复时,该平均厚度优选为至少1μm,即使弹性系数小于10MPa。
术语“弹性恢复”指在发生40%的拉伸形变随后释放负荷之后,样品恢复到初始长度的程度。因此,若样品的初始长度为L0,以及在发生40%的拉伸形变并且释放负荷之后的长度为L(t),则在自释放后时间t处的恢复R(t)等于:
100×(1-(L(t)-L0)/L0)/0.4)。
因此,若L(t)=L0,则R(t)=100。
若L(t)=1.4×L0,则R(t)=0。
通过最初制备大约200μm厚、6cm长、1cm宽的样品来进行恢复测试。若需要,则该样品任选地被产生在支撑薄膜上;与该样品的机械特性相比,该支撑薄膜的机械冲击被认定为是小的。
该样品承受速度为0.1mm/s(毫米每秒)的其长度的40%的拉伸形变。接下来,释放负荷并允许度过1分钟。
优选地,为所述涂层应用与用于热稳定光致变色组合物层的溶剂完全不同的溶剂。然而,可避开该条件,特别是当使用用于热稳定光致变色组合物层的交联或聚结化合物时。
作为一个示例,例如,若热稳定光致变色组合物层包含具有小于40℃的玻璃态转化温度Tg的乳胶和水时,该涂层也可是水基的。
例如,若热稳定光致变色组合物层包含溶剂以及如上所述的那些能够交联的化合物时,该覆盖层可包含相同的溶剂。
为了有助于正确产生该覆盖层,在其涂覆之前,例如可提供光或热。也可沉积例如由树脂或任何其他有助于黏合的产品产生的中间层,所述其他有助于黏合的产品例如为黏合粉末或特定粉末,特别是那些由于其颗粒尺寸而有助于抓牢上层的粉末。
在涂覆该覆盖层之后,可提供光和热。
该覆盖层可被逐步消除。因此,光敏化妆层不会随时间变化并且完全保持了光敏化妆的精确度。
形成磨损层的涂层中的成分
可用于形成所述涂层的化合物为聚合物,例如聚(甲基-)丙烯酸树脂、聚(甲基-)丙烯酸酯、聚氨酯、聚酯、聚苯乙烯,或为可溶或分散形式的共聚物,例如选自Mexomer,ultrahold Strong DR 25、28-29-30,Gantrez,Amerhold DR 25,amphomer,Luviset Si Pur,AQ 38,或AQ 48。
聚合物可携带侧基或端基,从而调整其硬度。作为一个示例,例如,形成该涂层的材料可包括具有硅胶官能的丙烯酸酯聚合物,如VS 80。
聚合物可以是天然聚合物或被修饰过的天然聚合物,例如polyosic聚合物,如瓜尔胶、carouba胶,或纤维素衍生物,如HPMCP(羟丙基甲基纤维素邻苯二甲酸酯)或蛋白质。
所述聚合物可以是烃聚合物。
例如,所述聚合物可以是硅胶,例如硅橡胶。
因为多数聚合物的固有特性不能一直提供所需要的强度,因此添加增塑剂可以是有用的。
除了通常使用的增塑剂之外,还可包括某些非挥发性溶剂。所述通常使用的增塑剂例如乙二醇醚(三丙二醇单甲醚(称为PPG3甲醚,来自DOWCHEMICAL))或甘油、所述非非挥发性溶剂,例如碳酸丙烯酯、乙醇、硅胶或碳油。
根据聚合物及其固有特性计算增塑剂的量。典型值如下(%相对于聚合物的重量):
乙二醇醚 甘油
Ultrahold Strong DR 25(BASF) 5% 10%
Mexomer(Chimex) 4% 8%
AQ 48(Eastman Chemicals) 1% 2%
Luviset Si Pur(BASF) 3% 5%
VS 80(3M) 5% 10%
组合物中可包括矿物质颗粒或有机颗粒,它们可延长磨损层的使用寿命,而不会导致它损失其特性。这些颗粒不会导致皮肤内的不透气性,但可能导致脱落或成球的现象。因此,颗粒的浓度(以重量计)优选不超过40%(不包括能够聚结的颗粒)。
可包括有助于施用的流变剂。
也可包括诸如表面活性剂的分散剂或具有在80℃至200℃范围内的沸点的某些溶剂。这些溶剂具有减慢组合物在随时间被清除时的结块的优点。
干燥后的浓度和厚度
各种成分的浓度可以被调整成使得干燥后的厚度在考虑到所施用的量时与如上给出的规格一致。
作为一个示例,假设施用20mg/cm2的用于分散的液态组合物,并且该组合物包含10%的干燥物质,则可以沉积大约2mg/cm2。若密度约为1,则这相应于大约20μm的厚度。
在另一个示例中,若假设包括20%的干燥物质的喷雾组合物在距脸30cm处被喷洒4秒钟,则大约0.4g(克)被沉积在400cm2上,即1mg每cm2。若相对密度大约为1,则沉积层的厚度将为约10μm。
因此,根据施用模式以及植物制剂形式,干燥物质浓度可为从1%至50%。
涂层组合物可以是干燥的。
其他成分
除了上述成分以外,每种组合物可包含使下列情况成为可能或更容易的成分:在角质材料上进行分散的成分;提供护理、舒适的成分,例如气味或柔和成分;有助于在清洗时清除的成分,例如一种或多种表面活性剂;限制成分渗入皮肤的成分,例如收敛剂;或提供其他化妆功能的成分,例如保湿、着色、光泽;和/或限制紫外线防护的冲击的成分,例如仿晒剂或维他命D活化剂。
卸妆
当卸妆时,使用者可能留下未显色的热稳定光致变色组合物的痕迹。然而,可能导致这些痕迹随后显色,例如在环境光下经过数小时后显色。那时,使用者可能很难再次开始卸妆。
为克服该问题,可以在卸妆期间或之后,有利地施用至少一种光学剂,该光学剂形成对至少一个波长λ的防护,该波长λ用于使热稳定光致变色组合物显色。
适当地,所述光学剂可被多次重复施用。
该光学剂可以是卸妆组合物的一部分。
术语“形成对波长λ的防护”表示该光学剂以至少为2的因子减弱具有波长λ的辐射,如上所述,使用可通过将照射光限制在具有以波长λ为中心的波长的区域中来测量吸收光谱的装置进行该测量。在卸妆期间、优选在卸妆之后施用该光学剂,防止光致变色剂的痕迹显色,并且降低使角质材料或服装染色的风险。
在施用光学剂后的一小时内,角质材料不应被清洗。随后,当使用者清洗时,被该光学剂保护的光致变色剂的未显色的痕迹能够被去除。
与施用该光学剂有关的另一优点为,当产生新的光敏化妆妆容时,该光学剂防止仍然存在的前一次光敏化妆的某些未显色部分在曝光于用于产生新的光敏化妆妆容的辐射下时显色。
可在卸妆之后施用该光学剂。该光学剂还可形成用于卸妆的卸妆组合物的配方的一部分。
波长λ可落在紫外线或近紫外线光谱(290nm至400nm)内,特别是在从320nm至440nm范围内。
卸妆组合物可以是传统的基于表面活性剂的卸妆产品或用于来自热稳定光致变色组合物的化合物的特定卸妆产品,并且可以包括溶剂,例如乙酸乙酯或乙酸丁酯、丙酮、乙醇或其混合物,并且更通常为选自化妆可接受的有机溶剂(可接受的偏差、毒理学、以及感觉)的任何溶剂。这些有机溶剂可等于组合物总重量的0%至98%。这些有机溶剂可选自由亲水性有机溶剂、亲脂性有机溶剂、两亲溶剂、以及其混合物构成的组。可提及的亲水性有机溶剂的示例为:包含1至8个碳原子的直链或支链的低单醇,例如乙醇、丙醇、丁醇、异丙醇、或异丁醇;包含6至80个环氧乙烷基元的聚乙二醇;多元醇,例如丙二醇、异戊二醇、丁二醇、丙三醇、或山梨醇;包含1至5个碳原子的烷基的单或二烷基异山梨醇;诸如二乙二醇单甲醚或二乙二醇单乙醚的乙二醇醚,以及诸如二丙二醇甲醚的丙二醇醚。
可提及的两亲有机溶剂的示例为多元醇,例如聚丙二醇(PPG)的衍生物,例如聚丙二醇的酯以及脂肪酸的酯,或PPG以及脂肪酸(例如PPG-23油醚或PPG-36油酸)。可提及的亲脂性有机溶剂的示例为脂肪酯,例如己二酸二异丙酯、己二酸二辛酯、烃基安息香酸酯、十四酸异丙酯、十六酸异丙酯、硬脂酸丁酯、月桂酸己酯、异壬酸异壬酯、2-乙基己基十六酸酯、2-己基癸基月桂酸酯、2-辛基癸基十六酸酯、2-辛基月桂基十四酸酯、二-(2-乙基己基)琥珀酸酯、二异硬脂醇苹果酸酯、2-辛基月桂基乳酸酯、甘油三异硬脂酸酯、或二甘油三异硬脂酸酯。
卸妆组合物还可包括:
·油,例如为微乳剂形式的;
·pH剂,若用于将光致变色剂保持在皮肤上的化合物是pH敏感的,如聚羧乙烯;或
·离子液体。
可被特别提及的可单独或混合用于卸妆组合物中的阴离子表面活性剂的示例为下列化合物的碱性盐、铵盐、胺盐或氨基醇盐:烷基硫酸盐(alkoylsulfates),烷基醚硫酸盐(alkoylether sulfates),烷基酰胺硫酸盐(alkoylamide sulfates)和醚硫酸盐,烷基芳基聚醚硫酸盐(alkoylarylpolyethersulfates),硫酸单甘油酯,烷基磺酸盐(alkoylsulfonates),烷基酰胺磺酸盐(alkoylamide sulfonates),烷基芳基磺酸盐(alkoylarylsulfonates),α-烯烃磺酸盐,石蜡磺酸盐,烷基磺基琥珀酸盐(alkoylsulfosuccinates),烷基醚磺基琥珀酸盐(alkoylethersulfosuccinates),烷基酰胺磺基琥珀酸盐(alkoylamide sulfosuccinates),烷基磺基琥珀酰胺酸盐(alkoylsulfosuccinamates),烷基磺基乙酸盐(alkoylsulfoacetates),烷基聚甘油羧酸酯(alkoylpolyglycerol carboxylates),烷基磷酸盐(alkoylphosphates)/烷基醚磷酸盐(alkoyletherphosphates),酰基肌氨酸盐,烷基多肽盐(alkoylpolypeptidates),烷基酰胺基多肽盐(alkoylamidopolypeptidates),酰基羟乙磺酸盐和烷基月桂酸盐(alkoyllaurates)。
在所有这些化合物中的烷基(alkoyl)或酰基通常指定包含12至18个碳原子的链。
也可提及肥皂(soap)和脂肪酸盐,例如油酸、蓖麻油酸、棕榈酸、硬脂酸、椰干油酸(coprah oil acid)或氢化椰干油酸、并且特别是胺盐例如硬脂酸胺;包含8-20个碳原子的酰基原子团的酰乳酸钠;以酸或盐形式的具有下列分子式的聚乙醇醚的羧酸:
Alk-(OCH2-CH2)n-OCH2-COOH
其中,取代基Alk相应于包含12至18个碳原子的直链,并且其中n为在5至15范围内的整数。
可被特别提及的且可单独或混合使用的非离子表面活性剂为:醇、烷基酚(alkoylphenols)以及具有包含8至18个碳原子的脂肪链的聚乙氧基脂肪酸、聚丙氧基脂肪酸或聚甘油基脂肪酸;环氧乙烯和环氧丙烯的共聚物、在脂肪醇上的环氧乙烯和环氧丙烯的冷凝物、聚乙氧基脂肪醯胺、聚乙氧基脂肪胺、乙醇酰胺、具有乙二醇的脂肪酸的酯、具有山梨聚糖的脂肪酸的酯(可任选地为氧乙烯基化的)、具有蔗糖的脂肪酸的酯、具有聚乙二醇的脂肪酸的酯、磷三酯、具有葡萄糖衍生物的脂肪酸的酯;胺基化糖的烷基聚糖苷和烷基酰胺;α-二醇、单醇、烷基酚(alkoylphenol)、具有缩水甘油的酰胺或二甘醇酰胺、或缩水甘油的前体的缩合产品。
可制成包含光学剂的卸妆除组合物,以便允许该光学剂例如通过凝聚效应被沉积在清水(rinsing)上,能够例如通过使用表面活性剂以及具有互补的离子性质的聚合物获得该效应,所述具有互补的粒子性质的聚合物例如PC/PA、TC/TA、TC/PA、TA/PC,所述清水可能具有两性和非离子表面活性剂以方便沉积。PC通常为诸如阳离子瓜尔胶(例如Jaguar C13S)的化合物或诸如JR400或紫罗烯的人造化合物。TC通常为四链化合物(特别是三甲基铵基团)以及脂肪链化合物(C6至C30)。PA可以是诸如丙烯酸酯的多阴离子聚合物或甲基丙烯酸酯聚合物或共聚物或包含磺酸基的聚合物。TA为阴离子表面活性剂,例如羧基或硫酸或磺酸基表面活性剂(LES、LS)。
可使用任何合适的载体来施用卸妆组合物,该载体特别是能够吸收的载体,例如诸如编织的或非编织的、毛毡、脱脂棉、植绒薄膜、海绵、或小毛巾的纤维卸妆盘;用于卸妆的载体在卸妆操作之后被有利地消除。
卸妆组合物可被包含在容器内,并且在每次需要卸妆时被取出。在一个变型中,卸妆组合物浸渍用于卸妆的载体,然后该载体可被包装,例如被包装在密封包装中。在使用卸妆组合物之后,角质材料不需要被冲洗。在一个变型中,角质材料可被冲洗。可例如使用流水进行冲洗,而不加入肥皂。
建议的示例
比例用重量表示。
配方1(光致变色组合物)
二芳基乙烯* 0.8%
(1,2-双(2,4-二甲基-5-苯基-3-噻吩)-3,3,4,4,5,5-六氟环戊烯)
纤维素 4%
丙酮 qs 100%
配方2(用于形成基层的光保护组合物)
Parsol 1789非耐光遮光剂 5%
乙酸乙酯 qs 100%
该遮光剂和溶剂的混合物被引入喷雾剂中,通过DME(65/35)施加压力。
底片
如下所述,可产生用于光敏化妆的底片。生成文件表示网格,其中每个正方形具有大约为3mm的边。随后使用激光打印机将该文件打印在透明物上。在未被打印处,该透明物允许紫外线在UVA活化带中、约365nm处通过。
辐照器
所使用的紫外线辐照器例如为由Bioblock Scientific出售的具有编号VL 6L的木质灯(Wood lamp),在约365nm处在约75cm2上传送约6W。在距装置3cm处,使用瓦特计测量的所接收到的功率为2.25mW每平方厘米。
测试
测试在密闭空间中的环境光下进行。
使用打算用于尝试发型的塑料头部作为光敏化妆的载体,例如可从CosmeyInternational获得的并且具有商品名称为Suzy的韧性头部。
组合物被施用到所述头部上,并且允许干燥1分钟。
底片被放置在用手把持的表面上,并且将辐照器置于距该表面约3cm处。进行照射t秒,相应于约2.25t mJ/cm2(毫焦耳每平方厘米)的所接收到的能量。
通过眼睛评估光敏化妆的质量,细心观察网格图案的质量。
在使用肥皂水清除化妆后,通过将该塑料头部置于明亮照亮的房间内来初始观察到残留的颜色。随后将该塑料头部放置在室外光下大于1小时。
测试1:
通过将配方1直接施用到该塑料头部载体的皮肤上来产生第一光敏化妆,允许它干燥1分钟,随后用具有表示将在该皮肤上产生的图案的底片的紫外线辐照器照射该区域。
照射持续约10秒,并传送22.5mJ/cm2。
测试2:
相同于第一光敏化妆产生第二光敏化妆,不同之处在于,配方2在施用光致变色组合物之前10分钟被喷洒。
这两种光敏化妆被放置在室内环境光下24个小时,随后它们通过非离子水基浸湿组合物被清除,并且被放置在室外光下1个小时。
观察到测试1的一些区域变成轻微有色的。相反地,对于测试2,没有区域变成有色的。
本发明不限于所描述的示例。
例如,用于形成基层的第一组合物可通过被施用到热稳定光致变色组合物层上而第二次被使用作为光保护层。这样的施用可发生在用于产生光敏化妆的照射之前、或在所述照射之后。当施用预先发生时,曝光较长时间和/或以较高能量密度进行曝光,以补偿由于在热稳定光致变色组合物层上所述层的存在而导致的吸收。
可处理除了脸部以外的身体的其他区域。有关处理脸部的所有示例同样对处理其他区域有效。
表述“包括”应被理解为与“包括至少一个”同义。
Claims (15)
1.一种用光敏化妆为人的角质材料化妆的方法,其中:
a)将第一组合物基层施用到角质材料上,该第一组合物包含至少一种能够至少暂时形成对波长λ的防护的光学剂;以及
b)将热稳定光致变色第二组合物施用到所述基层上,该第二组合物能够通过曝光于至少波长为λ的辐射下而显色。
2.根据权利要求1所述的方法,所述光学剂为具有80%或更小的耐光因数的非耐光遮光剂。
3.根据权利要求2所述的方法,所述遮光剂初始具有针对日光紫外线辐射的大于或等于2或3、优选为5或10的防护力F。
4.根据权利要求1所述的方法,所述基层被形成在比所述热稳定光致变色组合物更大的表面上。
5.根据权利要求1所述的方法,所述基层被直接施用到皮肤上。
6.根据权利要求1所述的方法,所述热稳定光致变色组合物包括热稳定光致变色剂。
7.根据权利要求6所述的方法,所述光致变色剂选自二芳基乙烯和俘精酸酐。
8.根据权利要求1所述的方法,所述波长λ落入紫外线或近紫外线光谱内。
9.根据权利要求1所述的方法,所述基层为非含水的,并且所述热稳定光致变色组合物为含水的,或反之亦然。
10.根据权利要求1所述的的方法,所述热稳定光致变色组合物利用可寻址矩阵成像器显色。
11.一种在单一包装内的装置,包括:
·用于施用到角质材料上从而形成基层的第一组合物,所述第一组合物包含至少一种能够至少对落入280nm至440nm范围内、较佳为320nm至440nm范围内的波长λ形成防护的光学剂,该第一组合物包括具有小于或等于80%的耐光系数的非耐光遮光剂;以及
·用于施用到所述基层上的热稳定光致变色第二组合物。
12.根据权利要求11所述的装置,所述热稳定光致变色组合物包括热稳定光致变色剂。
13.根据权利要求12所述的装置,所述光致变色剂选自二芳基乙烯和俘精酸酐。
14.根据权利要求11所述的装置,所述第一组合物为非含水的,并且所述热稳定光致变色组合物为含水的,或反之亦然。
15.根据权利要求11所述的装置,包括能够有选择地发出紫外线和/或可见光的辐照器。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0900825 | 2009-02-23 | ||
FR0900825A FR2942403A1 (fr) | 2009-02-23 | 2009-02-23 | Procede de photomaquillage avec application d'une couche de base et ensemble pour la mise en oeuvre d'un tel procede |
US15944809P | 2009-03-12 | 2009-03-12 | |
US61/159,448 | 2009-03-12 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101810544A true CN101810544A (zh) | 2010-08-25 |
Family
ID=41207601
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201010125142A Pending CN101810544A (zh) | 2009-02-23 | 2010-02-23 | 应用基层用光敏化妆进行化妆的方法及实现该方法的装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100215599A1 (zh) |
EP (1) | EP2221038A1 (zh) |
JP (1) | JP2010195790A (zh) |
CN (1) | CN101810544A (zh) |
BR (1) | BRPI1003235A2 (zh) |
FR (1) | FR2942403A1 (zh) |
RU (1) | RU2445070C2 (zh) |
Families Citing this family (8)
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2009
- 2009-02-23 FR FR0900825A patent/FR2942403A1/fr not_active Withdrawn
-
2010
- 2010-02-23 US US12/710,896 patent/US20100215599A1/en not_active Abandoned
- 2010-02-23 CN CN201010125142A patent/CN101810544A/zh active Pending
- 2010-02-23 BR BRPI1003235-5A patent/BRPI1003235A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2010-02-23 JP JP2010056659A patent/JP2010195790A/ja active Pending
- 2010-02-23 EP EP10154374A patent/EP2221038A1/fr not_active Withdrawn
- 2010-02-24 RU RU2010108204/15A patent/RU2445070C2/ru not_active IP Right Cessation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2942403A1 (fr) | 2010-08-27 |
US20100215599A1 (en) | 2010-08-26 |
JP2010195790A (ja) | 2010-09-09 |
EP2221038A1 (fr) | 2010-08-25 |
RU2010108204A (ru) | 2011-08-27 |
RU2445070C2 (ru) | 2012-03-20 |
BRPI1003235A2 (pt) | 2013-06-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20100825 |