KR20110125252A - 처리될 영역 상에 이미지를 투영하는 것을 포함하는 화장품 처리 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 a) 처리될 영역에 이미지를 투영하는 단계; b) 컨텐츠를 수정하고/수정하거나 투영된 이미지를 조정하는 단계; 및 c) 상기와 같은 방식으로 수정 및/또는 조정된 이미지에 따라서 상기 영역을 화장 처리하는 단계를 포함하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법에 관한 것이다.

Description

처리될 영역 상에 이미지를 투영하는 것을 포함하는 화장품 처리 방법{A COSMETIC TREATMENT METHOD INCLUDING THE PROJECTION OF AN IMAGE ONTO THE ZONE TO BE TREATED}

본 발명은 사람의 케라틴 물질을 메이크업하는 것에 관한 것으로서, 구체적으로, 피부 및 사람의 기타 케라틴 물질 예를 들어, 입술, 손톱 또는 머리카락을 메이크업하는 것에 관한 것이다.

메이크업을 할 때, 통상적으로 몸이나 얼굴에 침착되는 착색 물질을 사용한다.

최종 메이크업 결과는 사용한 제품의 품질 특히, 성분 및 이 제품의 제조에 사용된 기술뿐만 아니라, 사용자의 솜씨(dexterity)에 좌우된다.

메이크업 수행자가 메이크업을 수행할 때, 색을 가지는 여러 가지 획을 원하는 위치에 정확하게 그리려는 시도가 행해진다.

만일 메이크업이 제대로 안 되었을 경우, 그 결과는 심미적 측면 중 많은 부분을 상실하게 될 수 있다. 그러므로, 메이크업을 다시 하기 위해서는 메이크업을 수정하거나, 아니면, 심지어 지워야하기도 한다.

메이크업을 원하는 바대로 수행하는 것이 쉽지 않다는 사실 이외에, 몇몇 특정한 경우에는, 예를 들어, 메이크업 분야에서의 일반적인 경험 부족, 메이크업 스타일을 바꾸고자 하는 욕구 부족, 팔이나 손 근육의 경직 또는 기능 장애, 시력 또는 손 떨림으로 인한 문제, 또는 3차원 가시화에 있어서의 문제점과 같이, 메이크업을 수행하는 것이 매우 곤란하게 될 수도 있다.

어떤 사람들의 경우에는, 메이크업한 영역이 고르지 못하거나, 울퉁불퉁하거나, 또는 명확하게 한정되지 않을 수 있다는 사실[이러한 문제점들은 노인층의 입술과 눈꺼풀에서 살펴볼 수 있음]로 인해서 메이크업시 발생할 수 있는 문제점이 더욱 악화하기도 한다. 그러므로, 이와 같은 사람들은 균일하고 조화를 이루는 곡선으로 표현된 메이크업 외관을 연출하기가 어렵다.

뿐만 아니라, 어떤 사람들은 정확하고 복잡한 손의 움직임을 필요로 하는, 매우 정교한 메이크업 효과를 원하는데, 이러한 경우에는, 메이크업을 수행함에 있어서 어느 정도의 도움이 유용할 수 있을 것이다.

또 다른 문제점으로서는 얇은 입술을 더 두껍게 만들기 위해서 이 입술 영역 외부에 메이크업하고 싶어하는 사람들이 있다는 것을 들 수 있다. 이러한 사람들은 참고로 할 기준점을 가지지 않으므로, 이와 같이 메이크업 영역을 확장하여 수행하는 것이 어려운 것이다.

메이크업시 또 다른 문제점으로서는 전문적인 메이크업 아티스트에 관한 것을 들 수 있다. 종종, 메이크업을 하는 사람은 메이크업시 몸을 움직이기 때문에, 손을 균일하게 움직이는 것이 쉽지 않다.

부분적으로는, 메이크업에 사용된 기술에 따라서 메이크업이 원하는 위치에 표현되지 못하기도 한다. 폭이 넓은 도포기는 경계가 꽤 흐린 획을 연출하므로, 예를 들어, 블러셔 브러쉬와 같은 도포기를 사용하여 조성물을 도포할 경우 몇 가지 문제가 있다. 그러므로, 메이크업 위치 설정 오류에 따른 심미적 효과도 제한적일 수밖에 없다. 한편, 세밀한 도포기 예를 들어, 선을 그을 때 사용되는 것을 사용하여 조성물을 도포할 경우에는 상기 경우와 반대일 수 있는데, 이 경우, 메이크업 위치 설정 오류에 따른 심미적 영향력은 심각하다.

그러므로, 메이크업 위치 설정 오류 발생의 위험을 제한하면서, 정교하고 정확한 방식으로 메이크업을 도포하는 수단을 이용하여 이익을 볼 필요가 있다.

뿐만 아니라, 위치 설정 과정은 부여된 색의 가시도가 작은지 아니면 큰지 여부에 따라서 다소 어렵다고 할 수 있다. 만일 색을 명확하게 볼 수 있다면, 위치 설정은 더욱 용이하게 될 것이지만, 만일 색이 흐릿하다면, 사용자는 색이 어떻게 표현되었는지를 확인하는데 어려움이 따를 것이므로, 위치 설정은 더욱 힘들어질 것이다.

감광 메이크업을 이용하면 만족할만한 메이크업 결과를 얻을 수 있다는 사실을 알아냈다. 이 경우, 메이크업 결과는 정확하여, 특별한 솜씨나 훈련 과정 없이 통상의 메이크업을 통하여 화장하는 사람이 보통 이룰 수 있는 결과보다 뛰어나다.

뿐만 아니라, 감광 메이크업은 메이크업에 있어서 보통 용인되는 배색 효과 (color effect) 이상의 효과를 나타낼 수 있다. 상기 감광 메이크업은 종래의 메이크업 패턴, 또는 문자나 로고 등을 모의하는 임의의 패턴일 수도 있다.

감광 메이크업은 광선 조사 예를 들어, UV 조사에 의해 발색될 수 있으며, 한 시간 이상 동안 조사하였을 때 이로 인하여 유발된 외관상 변화를 유지할 수 있는 열 안정성 광 변색 조성물을 하나 이상 사용하는 것을 바탕으로 한다.

감광 메이크업 외관을 표현하기 위해, 처리될 영역에 하나 이상의 열 안정성 광 변색 조성물을 하나 이상의 층의 형태로 적층시키는 방법이 사용되기도 하였다.

열 안정성 광 변색 조성물이 도포될 때 이 조성물은 비 발색 상태(non-developed state)인데, 이 조성물에 포함된 성분에 따라서 발색되거나 또는 발색되지 않을 수도 있다.

열 안정성 광 변색 조성물 층은 불 균일한 방식으로 조사함으로써 선택적으로 조사될 수 있다. 그러므로, 어떤 부위는 발색시킬 필요가 없는 반면에, 다른 부위는 그렇지 않고/않거나, 어떤 부위는 다양한 정도로 발색시켜, 색의 진하기를 상이하게 만들 수도 있다.

사용된 빛 에너지는 비교적 낮게 유지되므로 피부를 태우지는 않는다.

감광 메이크업을 이용한 메이크업 방법에 관한 일례가 특허 EP-A-0 938 887에 개시되어 있는데, 상기 문헌은 본원에 참고용으로 인용된 것이며, 이 방법에서는 열 안정 광 변색 제제를 피부에 도포하는 것을 골자로 한다. 상기 특허에는 디아릴에텐 및 풀기드로부터 선택되는 광 변색 제제에 관하여 개시되어 있다.

감광 메이크업으로 메이크업하는 방법은, 조사되는 위치에 따라서 메이크업이 표현될 위치가 잘못 설정될 위험이 있으므로, 이러한 방법은 위치 설정에 어려움이 따른다.

기타 착색제 시스템 예를 들어, 화학 반응, 생물학적 반응, 효소 반응 또는 물리적 반응에 의해 색을 발색시키는 시스템 예를 들어, DHA, 산화 착색제, 또는 공기로부터 유래하는 산소 중에서 발색되는 폴리페놀을 사용하는 화장료 처리 방법에도 문제가 있다.

색을 부여하기 위한 처리 방법 이외의 처리 방법에도 문제가 있다. 예를 들어, 어떤 관리 제품 예를 들어, 탈색 조성물, 탈 색소 조성물 또는 제모용 조성물은 메이크업의 위치를 정확하게 설정할 수 있는 양만큼 필요하다.

미국 특허 출원 US 2007/0038270(A1)에는 감광 조성물을, 연출하고자 하는 패턴대로 피부에 적층시키거나 또는 이 조성물을, 연출할 패턴에 상응하도록 광선에 노출시키는 다수의 방법이 개시되어 있다.

국제 특허 출원 공보 WO 2008/144787에는 사람의 피부에 눈으로 확인할 수 있는 패턴을 표현하는 방법에 관하여 개시되어 있다. 이 방법에서는, UV 광선을 발광하는 어드레스 가능 매트릭스 화상기(addressable matrix imager)를 사용하여 피부를 선택적으로 태운다.

본 발명의 구체적인 목적은, 특별히 메이크업 솜씨가 없어도 실용적이고 신속한 방식으로 메이크업 외관을 표현할 수 있도록 하는 것이다.

본 발명의 예시적인 구체예는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법을 제공하는데, 이 방법은 다음과 같은 단계들을 포함한다:

ㆍ이미지를 처리될 영역에 투영하는 단계;

ㆍ가능하게는, 컨텐츠를 수정하고/수정하거나 투영된 이미지를 조정하는 단계; 및

ㆍ투영된 이미지에 따라서 영역을 처리, 구체적으로, 화장 처리하는 단계.

컨텐츠를 수정하는 단계 또는 조정하는 단계는 수동 또는 자동으로 진행될 수 있다.

조정 단계는, 얼굴에 이미지를 집중시키고/집중시키거나 얼굴에 이미지의 위치를 설정하는 단계를 포함할 수 있다.

컨텐츠 수정 단계는, 이미지가 픽셀화된 이미지일 때, 이 이미지 픽셀을 수정하는 단계를 포함한다. 상기 수정 단계는 이미지를 생성하는데 사용된 광선 스펙트럼을 바꾸는 과정을 포함할 수 있다.

본 발명에 의해서는, 메이크업, 관리 제품 또는 감광 메이크업을 수행하는 사람의 입장에서 특별한 노력 없이도, 이 감광 메이크업 및/또는 메이크업 또는 관리 제품의 위치를 정확하게 설정할 수 있다.

투영된 이미지는, 유리하게는 감광 메이크업일 수 있는(절대적인 것은 아님) 추후 처리에 대한 위치를 설정하는데 사용될 수 있다.

투영된 이미지는 또한 처리될 영역을 한정하는데 사용될 수도 있다.

이와 같은 경우, 투영된 이미지는 하나 이상의 기준점(reference point)을 포함하는 것이 유리할 수 있으며, 이 경우, 처리는 이 기준점(들)에 따라서 달리 수행될 수 있다.

본 발명의 방법은 단계 a)를 수행하기 이전에, 추후 처리 과정에서 감광 메이크업을 이용하여 메이크업하기 위해서, 또는 감광 메이크업으로 메이크업하는 것 이외의 추후 처리에 유용한 기준점을 그리기 위해 감광 메이크업을 표현할 목적으로, 처리될 영역에 열 안정성 광 변색 조성물을 도포하는 단계를 포함할 수 있다.

본 발명의 예시적인 구체예에서, 투영된 이미지를 생성하는 광선은 처음에는 열 안정성 광 변색 조성물을 활성화하지 않는 것으로 선택할 수 있으므로, 본 발명의 방법은 다음과 같은 단계들을 포함할 수 있다:

i) 임의로, 컨텐츠를 수정하고/수정하거나 처리될 영역에 투영된 이미지를 조정하는 단계; 및

ii) 상기 영역을 조사하여, 상기 단계 i)에서 투영된 이미지에 따라서 열 안정성 광 변색 조성물을 상이하게 여기하는 단계.

상기 광선은 상기 단계 i) 및 ii) 사이에 바꿀 수 있으며, 상기 단계 ii)에서는 UV 광선 및/또는 근 UV 광선의 광원을 사용할 수 있다.

열 안정성 광 변색 조성물은 하나 이상의 기준점 및/또는 하나 이상의 윤곽선 특히, 메이크업이나 관리 제품을 도포하는데 사용되는 견본(template)을 형성할 수 있는 방식으로 조사될 수 있다. 그러므로, 상기 영역은 기준점이나 윤곽선을 이용하여 처리될 수 있다.

처리 과정은 기준점(들) 및/또는 윤곽선(들)에 따라서 메이크업을 손으로 도포하는 단계를 포함할 수 있다. 처리 과정은 또한 구체적으로는, 처리될 영역의 위치를 설정하고/설정하거나 이 영역 위로 이동하는 도구를 사용하여 기준점(들) 및/또는 윤곽선(들)을 자동으로 감지함으로써 수행할 수도 있다.

본 발명의 예시적인 구체예에서, 처리될 영역의 이동 여부는 감지되며, 투영된 이미지는 이미지 투영시 이와 같이 감지된 처리 영역이 이동하였는지 여부에 따라서 자동으로 수정된다. 이로써, 감광 메이크업 외관이 흐리게 표현될 위험성을 줄일 수 있다.

투영된 이미지는 어드레스 가능 전자 매트릭스 화상기에 의해 생성되는 것이 유리하다.

투영된 이미지는 처리 받을 대상 개체로부터 습득한 이미지 중 하나 이상의 이미지로부터 생성될 수 있다. 이로써, 처리될 개체의 형태에 맞추어 감광 메이크업을 표현할 수 있다.

투영된 이미지는 상기 영역 중 도드라진 부분에 의해 유발되는 왜곡 현상을 보정할 수 있다. 이를 위해서, 처리될 영역 중 도드라진 부분을 사전에 파악하는 단계를 수행할 수 있다.

메이크업 수행시 사용자를 안내하는데 적당한 이미지들을 애니메이션 시퀀스(animated sequence)로서 투영할 수 있다.

투영된 이미지는 메이크업 수행 과정을 시뮬레이션하는 이미지, 또는 하나 이상의 기준점 및/또는 하나 이상의 윤곽선일 수 있다. 상기 윤곽선은 연속 선이나 불연속 선, 또는 이웃하는 표면과 대조를 보이는 표면의 둘레에 의해 형성될 수 있다.

열 안정성 광 변색 조성물

본 발명에 의하면, 감광 메이크업 외관은 적당한 열 안정성 광 변색 조성물을 사용함으로써 표현된다.

본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물은 감광 메이크업 외관을 표현하는데 적당한 열 안정성 광 변색 제제를 하나 이상 함유하는데, 이 경우, 상기 열 안정성 광 변색 제제는 광선 조사의 영향 하에서 외관을 변화시킨다.

본 발명에 사용된 열 안정성 광 변색 제제 또는 제제들은, 열 안정성 광 변색 제제 또는 비가역적 광 변색 제제[즉, 일단 감광 메이크업 외관을 변화시키면, 이 변화를 영구적으로 유지시키는 광 변색 제제]일 수 있다.

사용된 열 안정성 광 변색 제제 또는 제제들에 따라서, 감광 메이크업 외관은, 예를 들어, UV 및/또는 근 UV와 같은 적당한 광선에 노출함으로써 상기 열 안정성 광 변색 제제 또는 제제들을 점진적으로 발색시켜 표현될 수 있거나, 또는 이미 발색된 상태인 열 안정성 광 변색 제제로서 예를 들어, 근 UV 외부 가시 광선 영역에 속하는 적당한 광선을 조사하면 비 발색 상태로 변질되는 광 변색 제제를 하나 이상 포함하는 열 안정성 광 변색 조성물을 출발 물질로 하여 표현될 수 있다.

원하는 메이크업 결과를 정확하게 얻기 위해서, 감광 메이크업은 하나 이상의 열 안정성 광 변색 제제를 발색시키고, 하나 이상의 열 안정성 광 변색 제제를 소진(erasure)시킬 수 있는데, 이 경우, 상기 발색 및 소진 과정은 둘 다 예를 들어, 연속적으로 또는 번갈아서 실행될 수 있다.

본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물을 케라틴 물질에 도포하기 전, 이 조성물을 열 안정성 광 변색 제제 또는 제제들(비 발색 상태)과 함께 포장 장치에 담을 수 있다. 이러한 구체예에 있어서, 상기 열 안정성 광 변색 조성물은 비 발색 상태인 열 안정성 광 변색 제제 또는 제제들과 함께 케라틴 물질에 도포할 수 있으며, 이후, 상기 광 변색 제제 또는 제제들에 광선이 조사되면 상기 제제 또는 제제들은 발색된 상태로 바뀔 수 있다.

변형 예에서, 본 발명의 광 변색 조성물은 비 발색 상태인 열 안정성 광 변색 제제 또는 제제들과 함께 케라틴 물질에 도포되고, 이후, 상기 열 안정성 광 변색 제제 또는 제제들은 발색된 상태가 되며, 그 다음에, 예를 들어, 하나 이상의 패턴을 얻고/얻거나 원하는 색을 얻기 위해서 광선을 선택적으로 조사하였을 경우(예를 들어, 국소 방식으로 조사하였을 경우) 상기 열 안정성 광 변색 제제 또는 제제들은 비 발색 상태로 바뀔 수 있다.

다른 변형 예에서, 상기 열 안정성 광 변색 조성물은 발색된 상태인 열 안정성 광 변색 제제와 함께 포장 장치 내에 담긴다. 이후, 상기 열 안정성 광 변색 조성물은 발색된 상태인 열 안정성 광 변색 제제 또는 제제들과 함께 도포되고, 이것들은 선택적 방식으로 비 발색 상태가 되어, 하나 이상의 패턴을 형성하고/형성하거나 원하는 색을 얻을 수 있게 된다.

본 발명의 광 변색 조성물이 케라틴 물질에 도포될 때, 열 안정성 광 변색 조성물 즉, 열 안정성 광 변색 제제 또는 제제들이 이미 발색된 상태에 있는 열 안정성 광 변색 조성물을 사용하고자 할 때, 임의로는 예를 들어, 상기 조성물을 담고 있는 용기 포장 내 또는 분배 오리피스나 도포 부재에, 열 안정성 광 변색 조성물을 광선 조사에 노출하는데 적당한 광원을 포함하는 포장 장치를 사용할 수도 있는데, 이 경우, 상기 조사된 광선의 파장은, 열 안정성 광 변색 제제 또는 제제들을 발색시키는데 적당한 파장이다.

본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물은 예를 들어, 색을 발색 상태로 만들 수 있으며, 예를 들어, 비 발색 상태에서는 무색인, 열 안정성 광 변색 제제, 또는 발색 상태일 때 각각 상이한 색을 띠고, 비 발색 상태일 때에는 다른 색을 띠거나 무색인, 열 안정성 광 변색 제제의 혼합물을 포함할 수 있다.

예를 들어, 발색 상태에서 황색을 띠는 열 안정성 광 변색 제제의 비율이 더 큰 혼합물로서, 황색, 청색 및 마젠타색 열 안정성 광 변색 제제 각각의 혼합물을 포함하는 광 변색 조성물을 사용할 수 있는데, 이 경우, 상기 비율은 예를 들어, 열 안정성 광 변색 제제 전부가 발색 상태일 때 피부의 색조와 가까운 색조를 띠게 하는 비율로서 선택한다. 그러므로, 본 발명의 하나의 구체예에서는, 황색, 마젠타색 및 청색 열 안정성 광 변색 제제의 상대비가 각각 약 50%, 35% 및 15%인 혼합물이 사용된다.

상기 열 안정성 광 변색 조성물이 다수의 열 안정성 광 변색 제제를 포함할 때, 주 파장이 각각 상이한 광선에 각각 노출됨에 따라서 상이하게 발색할 수 있는 열 안정성 광 변색 제제를 포함할 수 있으므로, 이 열 안정성 광 변색 조성물이 노출될 광선의 파장을 선택함으로써, 하나의 색을 다른 색으로 발색시킬 수 있다. 또한, 상이한 주 파장에 노출될 때 소진될 수 있는 열 안정성 광 변색 조성물 중에는 열 안정성 광 변색 제제가 포함될 수 있는데, 이는 곧, 상기 열 안정성 광 변색 조성물을 소진하는데 사용된 광선의 특징을 선택함으로써, 다른 색보다는 주어진 색을 우선적으로 소진시킬 수 있다는 것을 의미한다.

열 안정성 광 변색 제제의 열 안정성 측정

광 변색 제제가 열에 안정한지 여부를 측정하는 테스트를 다음과 같이 수행하였다. 테스트할 제제(비 발색 상태로서 초기 색을 E_i로 표시함)에 1분 동안 UV 광선을 조사한 다음(1J/㎠)[제곱 센티미터 당 쥴], 분광 비색계[예를 들어, 미놀타(MINOLTA) CM 2002(d/8, SCI, D65, 관찰각 = 2°]를 사용하여 최종 색 E_f를 측정한다. CIE 랩 공간에서 색 차를 구하는데, 이는 최대 발색 시를 기준으로 하는 것이다:

이후, 25℃에서 60분 동안 상기 화합물에 빛이 비추지 않도록 완전히 빛을 차단하고, 전술한 방법을 사용하여 이것의 색 E_r을 측정한다. 만일 ΔE_{i ,r}의 새로 측정한 값이 ΔE_{i ,f} 값 즉, 최대 발색 시 측정한 값의 50% 이상이면, 상기 화합물은 열에 안정성인 것으로 간주한다. 바람직하게, 상기 열 안정성 광 변색 제제는, 일단 발색되면, 표현된 메이크업이 1시간 이상, 바람직하게는 4시간 이상 동안 가시적으로 보존될 수 있도록 만드는 것으로 선택한다.

임의의 형태의 열 가역적 광 변색 화합물이 열 안정성 광 변색 제제의 정의에 포함되지 않으면, 상기 열 안정성 광 변색 조성물은 상기 열 가역적 광 변색 화합물 예를 들어, 도핑된 산화티타늄, 스피로피란, 스피로옥사진 또는 크로멘을 포함하지 않을 수 있다.

본 발명에 사용된 열 안정성 광 변색 제제 또는 제제들은 첫 번째 조사 I₁ 하에 있는 것이 유리하며, 이와 같은 제제 또는 제제들은 실질적으로 무색이거나 흐리게 발색된 상태에서 시작하여 점진적으로 발색되고; 또한 첫 번째 조사와는 다른 두 번째 조사 I₂ 하에 있을 경우, 상기 제제 또는 제제들은 다시 실질적으로 무색인 상태 또는 흐리게 발색된 상태로 되돌아간다. 본 발명을 실행함에 있어서, 상기 조사 I₁은 UV 조사(290∼400㎚) 특히, UVA(320∼400㎚) 및/또는 UVB 바람직하게는, 근 UV(400∼440㎚)인 반면에, 조사 I₂는 가시 광선 조사 예를 들어, 백색 광선 조사이다.

열 안정성 광 변색 제제

사용할 수 있는 광 변색 제제의 바람직한 예로서는 디아릴에텐 군에 속하는 화합물과 풀기드 군에 속하는 화합물이 있는데; 이와 같은 예시는 한정적인 것은 아니다. 당 업자는 열 안정성 광 변색 제제의 예에 관하여 개시되어 있는 특허 EP-A-0 938 887을 참고로 할 수 있다.

디아릴에텐은 다음과 같은 화학식 I로 표시될 수 있다:

[화학식 I]

상기 식 중, R₁ 및 R₂ 라디칼은 이중 결합에 대해서 항상 "시스" 위치에 존재한다.

상기 R₁ 및 R₂ 라디칼은 각각 독립적으로, 플루오르화 또는 퍼플루오르화될 수 있는 C₁∼C₁₆알킬 라디칼 및 니트릴로부터 선택될 수 있다.

특히, 하기 화학식을 가지는 화합물을 예로 들 수 있다:

이와 같은 화합물은 또한, 플루오르화 또는 퍼플루오르화될 수 있으며, 5개 또는 6개의 탄소 원자를 함유하는 환 구체적으로, 다음과 같은 화학식을 가지는 환을 형성할 수 있거나:

또는

5개의 탄소 원자 무수물 환 구체적으로, 다음과 같은 화학식을 가지는 환을 형성할 수 있다:

상기 식 중, X는 산소 원자 또는 -NR₃ 라디칼일 수 있으며, 여기서, 이 R은 C₂∼C₁₆알킬 및/또는 하이드록시알킬 라디칼을 나타낸다.

A 및 B 라디칼은 또한 동일하거나 상이할 수도 있으며, 구체적으로는, 하기 화학식을 가지는, 5-원자 환이나, 5-원자 또는 6-원자 이환을 나타낼 수 있다:

상기 식 중,

ㆍ X 및 Y는 동일하거나 상이할 수 있으며, 또한 산소 원자, 황 원자, 산화된 황, 질소 원자 또는 셀레늄 원자를 나타낼 수 있고;

ㆍ Z 및 W는 동일하거나 상이할 수 있으며, 또한 탄소 원자 또는 질소 원자를 나타낼 수 있으며;

ㆍ R₃∼R₁₂ 라디칼은 동일하거나 상이할 수 있으며, 또한 수소, 선형 또는 분지형 C₁∼C₁₆알킬 또는 알콕시 기, 할로겐, 선형 또는 분지형 플루오르화 또는 퍼플루오르화 C₁∼C₄ 기, 카복실기, C₁∼C₁₆알킬카복실기, C₁∼C₁₆ 모노- 또는 디알킬-아미노 기, 니트릴 기를 나타낼 수 있으며; 페닐기, 나프탈렌기 또는 복소환(피리딘, 퀴놀린, 티오펜)은 상기 라디칼 상에서 치환될 수 있다.

그러나, A 및 B 기 둘 다는 예를 들어, 이하와 같은 구조를 가지는 인돌 류의 구조와 동일해서는 안 된다:

A 및 B 기는 하나 이상의 이중 결합에 의해 환으로부터 분리되어 있을 수 있다.

이중 결합과 A 및 B 잔기 사이 연결부에 대해서 오르토 위치에는 항상 수소 이외의 기 예를 들어, CH₃, CN 또는 COOEt가 존재해야 하는데, 즉, R₃ 또는 R₅, R₄, R₇ 및 R₈ 기는 수소 이외의 기이어야 한다.

예로 들 수 있는 구체예로서는, 404∼436㎚의 광선을 조사하였을 때 무색에서 적색으로 변색되는 다음과 같은 화합물이 있다[상기 변색은 546∼578㎚에서 원래대로 복구됨]:

디아릴에텐의 일례로서는 발색 상태에서 청색을 띠는 것으로서, 상표명 DAE-MP(일본 야마다 케미컬(Yamada Chemical))로서 시판되며, 다음과 같은 화학명 및 구조를 가지는 것이 있다: 1,2-비스(2-메틸-5-페닐-3-티에닐)-3,3,4,4,5,5-헥사플루오로시클로펜텐:

디아릴에텐의 다른 예로서는 발색 상태에서 황색을 띠는 것으로서, 상표명 DAE-2BT(일본 야마다 케미컬)로서 시판되며, 다음과 같은 화학명을 가지는 것이 있다: 1,2-비스(3-메틸벤조(b)티오펜-2-일)퍼플루오로시클로펜텐:

풀기드는 다음과 같은 화학식으로 나타낼 수 있다:

상기 식 중,

ㆍ A기는 전술한 의미를 갖고;

ㆍ R₁₃∼R₁₅ 기는 동일하거나 상이할 수 있으며, C₁∼C₁₆ 선형 또는 분지형 알킬기를 나타낼 수 있거나, 또는 R₁₃ 및 R₁₄ 기는 3∼12개의 탄소 원자를 함유하는 환 예를 들어, 시클로프로판 또는 아다만틸렌을 형성할 수 있다.

기타 열 안정성 광 변색 제제

이와 같은 광 변색 화합물은 광선 조사에 의해 제어되는 기작을 통해 외관을 바꾸는 화합물 예를 들어, 무색 또는 희미하게 발색된 상태에서 발색된 상태로 바꾸는 화합물이다.

광선이 외관을 예를 들어, 무색에서 발색된 상태로 변질시킴으로써 바꾼다는 의미에서 이 과정에 관여하는 기작은 직접적인 것일 수 있다. 이는 예를 들어, 광 분해 작용기(photodegradable function) 또는 광 방출 작용기(photorelease function)를 가지는 화합물의 경우에도 마찬가지이다.

바람직하게는, 광 분해 작용기 또는 광 방출 작용기가 케라틴 물질에 대해서 비활성인 화합물이 사용된다.

바람직하게는, 광 분해 작용기 또는 광 방출 작용기가 중합체 또는 기타 고체나 부피가 큰 구조에 의해 고정 또는 운반되는 화합물이 사용된다.

예를 들어, 문헌[C.P.McCoy외 다수, J.Am.Chem.Soc., 2007, 129, 9572]에 개시된 바와 같이, 착색된 제품과 3-5-디메톡시벤조산 작용기를 사용할 수 있다.

광선이 예를 들어, 처음에는 무색인 화합물을 다른 형태로 바꾼 후, 여전히 무색이면서 형태가 바뀐 이와 같은 화합물을 제3의 작용을 통해 상이한 외관을 가지는 형태 예를 들어, 발색된 형태의 화합물로 변형시킨다는 의미에서, 상기 기작은 또한 간접적일 수도 있다.

광선에 의해 변형되지 않은 화합물과 변형된 화합물에서 제3의 작용이 상이하게 진행될 때 상기 기작은 간접적이라고 할 수 있는데, 예를 들어, 변형되지 않은 화합물은 변형되어 외관을 (예를 들어, 발색된 상태로) 바꾸는 반면에, 변형된 화합물은 비 발색 커플링을 통해서 외관을 보존한다.

예를 들어, 디아조늄 염 화합물과 커플링 반응에 의해 반응할 수 있는 다른 방향족 화합물을 사용하는 디아조형 과정(diazotype principle)을 이용할 수 있다. 광선 조사에 의해서 디아조늄 염을 파괴할 수 있다[질소의 방출]. 이후, 조사되지 않은 디아조늄 화합물은 (예를 들어, 암모니아 존재 하에서의) pH의 심플 점프(simple jump)를 통해서 커플러와 반응하여, 아조 화합물을 생성하게 된다. 이와 같은 조건 하에서, 비-착색 디아조늄염 화합물 예를 들어, 환 상에 디아조늄 작용기는 보유하되 아민이나 하이드록실 작용기는 보유하지 않는 방향족 화합물이 선택된다. 상기 커플러는 단순 방향족 아민 예를 들어, 아닐린이나 페놀 유도체일 수 있다.

그러므로, 다음과 같은 반응에 의해서 조사되지 않은 부분이 발색되는 것이다:

사용된 광 변색 제제 또는 제제들은 발색 시 또는 특정 작용 예를 들어, 화학적 화합물에 원하는 열 안정성을 부여하는 화합물이 생성되는 작용이 진행된 후에만 열 안정성이 될 수 있다.

열 안정성 광 변색 조성물은 광 변색 제제(들) 특히, 열 안정성 광 변색 제제(들)를 총 0.001∼20중량%로 함유할 수 있다.

광 변색 조성물은 또한 화장품으로서 사용하기 적당한 임의의 용매 특히, 특허 EP-A-0 938 887에 예시된 용매로부터 선택된 것을 함유할 수도 있다.

상기 조성물은 EP-A1-0 938 887의 [0029]∼[0041] 단락에 언급된 성분들을 포함할 수 있으며; 상기 문헌은 본원에 참고용으로 인용되어 있다.

감수성이 감소한 열 안정성 광 변색 조성물

본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물은 UV 또는 근 UV 광선에 대한 감수성을 감소시키는 광학 제제를 하나 이상 포함할 수 있다.

본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물은 특히, 이하에 정의된 바와 같은 스크리닝 파워 F(Screening Power F)가 2 이상, 또는 5, 10, 15 또는 20이 되기에 충분한 양만큼의 광학 제제를 하나 이상 포함할 수 있다.

스크리닝 파워 측정 프로토콜

피부에 홍반 반응이 일어날 걱정이 없는 색 차인 SPF를 측정하는데에 사용되는 것과 유사한 프로토콜을 실시한다.

샌딩된(sanded) 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA) 플레이트에, 구별할 스크리닝 파워를 가지는 조성물을 1.2㎎/㎠[제곱 센티미터 당 밀리그램]로 도포한다(UV 스크린 부재)[5㎝×5㎝, 3㎜(밀리미터)(도포 두께); 조도 = 4.5±1㎛; 유로플라스트(EUROPLAST)로 측정]. 이 평판에 바셀린 145B를 발라서 예비 처리한다(10±1㎎). 상기 조성물을 점의 형태로 14개 찍어 바른 다음, 손가락으로 20초 동안 문질러 조성물을 지그재그로 펴 바른 다음, 이 평판을 5초마다 회전 원의 4분의 1씩 회전시킨다.

상기 조성물을 펴 발라 0.6㎎/㎠가 되도록 만든다. 이를 (최소) 20분 동안 건조시킨 후, 다시 펴 바른다.

분광 휘도계[예를 들어, 적분구를 포함하는 랩스피어(Labsphere) UV 투과도 분석기]를 사용하여 290∼400㎚에서의 확산 투과도를 측정하였다. 각각의 투과도 값 T(λ)를 기록하였다. T(λ)는 조사된 광선 파장이 λ일 경우, 입사광 에너지에 대한 투과광 에너지의 비율이다. (평판을 이동시키면서) 평판 당 5회 측정하여, 이 5회 측정값의 평균을 구한다. 5개의 평판을 대상으로 실험을 수행한다. 5회 측정값의 평균을 구한다.

태양 UV 광선(290∼400㎚)에 대한 스크리닝 파워 F는 다음과 같은 2개의 적분 비율로 구한다:

상기 식 중, I(λ)는 태양 스펙트럼을 구성하는 각 파장의 발생률(occurrence)을 나타내는 함수이다. I(λ)는 시험관 내에서 SPF를 계산하는데 사용되는 것과 동일한 요소이다[COLIPA GUIDELINES Edition of 2007: A METHOD FOR THE IN VITRO DETERMINATION OF UVA PROTECTION PROVIDED BY SUNSCREEN PRODUCTS]. 만일 F가 1이면, 조성물은 스크리닝하지 않는다.

"파장 λ인 광선에 대한 스크린으로 작용한다"라는 용어는, 광학 제제가 파장 λ인 광선을 감쇄 인자(attenuation factor) 2 이상만큼 감쇄시키는 것을 의미하는 것으로서, 여기서, 상기 측정은 흡광 스펙트럼을 측정하고, 파장 λ±10㎚인 조사 광선을 특정 영역에만 비추게 하는 장치를 사용하여 수행된다. 다음과 같은 비율

[상기 식 중, I(λ) 및 T(λ)는 상기 정의한 바와 같음]

은 파장 λ에서의 감쇄 인자이다.

본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물의 파장 범위(P)는 λ₁∼λ₂ 파장 범위 중 하나 이상일 수 있는데, 여기서, 상기 광선은 덜 스크리닝되고, 상기 범위에서의 스크리닝 파워는 F_λ1,λ2의 평균이며, 여기서, F/F_λ1,λ2는 2보다 크고, 바람직하게, F/F_λ1,λ2는 5보다 크다. 상기 범위 P의 폭 p는 80㎚ 미만, 바람직하게는 40㎚ 미만일 수 있다.

F_λ1,λ2는 다음과 같이 정의하며, 전술한 바와 같이 측정하되, 상한 및 하한인 290 및 400 대신에 λ₁과 λ₂를 대입한다(여기서, λ₂ > λ₁):

적당한 경우, 본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물은 변색 착색제 예를 들어, 시간이 경과 함에 따라서 가능한 한 서서히 발색되는 착색제 예를 들어, 공기와 접촉할 때 서서히 발색될 수 있는 폴리페놀 또는 DHA를 포함할 수 있다. 본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물은 예를 들어, 90%가 발색되는데 30분 이상 소요되는 착색제를 포함할 수 있다. 이와 같은 착색제의 이점은, 예를 들어, 환경 광의 효과로 인하여 감광 메이크업 패턴이 분해되는 것을 지연시키기 위해서, 일단 감광 메이크업 외관이 표현될 때 스크리닝 파워를 나타낸다는 점일 수 있다.

제1 층에 존재하는 광학 제제에 대해 활성 인자로 작용하는 제2 층

본 발명의 하나의 구체예에서, 제1 층은 열 안정성 광 변색 조성물로 이루어져 있으며, 광학 제제를 부분적으로 또는 완전히 탈 활성화된 형태로 함유하거나, 또는 전구체로서 함유한다. 이러한 탈 활성화된 형태 또는 전구체 형태인 제제는 아직 감광 메이크업 결과를 보호하기에 충분히 활성화되지는 않았다.

감광 메이크업 후 제2 층을 도포하는데, 이로써, 탈 활성화된 광학 제제를 활성화하거나, 또는 전구체를, 열 안정성 광 변색 조성물을 발색시키는 광선에 대한 스크린을 형성하는데 유효한 광학 제제의 형태로 만들 수 있다.

예를 들어, 여러 층 중 하나에 전구체 형태로서 존재하는 광학 제제는 포르피린 군에 속하는 착색제로서, 다른 층에 용액 중 염 예를 들어, 아연, 철 또는 마그네슘 염의 형태로 존재하게 되면 더욱 활성을 띠게 될 수 있다.

갈레누스 형태( Galenical forms )

본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물은 그것을 구성하는 성분들의 성질과 도포 방법에 따라서 다양한 갈레누스 형태로 제공될 수 있다.

본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물은 화장품에 사용할 수 있는 매질 즉, 모든 케라틴 물질 예를 들어, 피부, 손톱, 머리카락, 속눈썹 및 눈썹, 점막 및 준 점막(semi-mucous membrane), 그리고 신체와 얼굴 중 기타 피부 영역과 혼화 가능한 매질을 함유한다. 특히, 상기 매질은 현탁액, 분산액, 용매나 하이드로알콜성 매질 중 용액(임의로는 증점 용액 또는 겔화된 용액); 수중유 에멀젼, 유중수 에멀젼, 또는 복합 에멀젼; 겔 또는 소포; 겔 에멀젼; 분사; 루스 파우더(loose powder), 컴팩트 파우더(compact powder) 또는 캐스트 파우더(cast powder); 무수 페이스트; 또는 필름의 형태를 갖거나 또는 이러한 형태의 것을 포함할 수 있다.

처리 영역

본 발명에 따르면, 일반적인 메이크업이 수행되는 신체 중 임의의 부분 예를 들어, 손톱, 속눈썹, 머리카락, 피부, 구체적으로는 얼굴 중 특정 부분 예를 들어, 볼, 이마, 입술 또는 아이 콘투어(eye contour), 목, 가슴 또는 다리에 감광 메이크업을 할 수 있다.

뿐만 아니라, 메이크업을 거의 하지 않는 신체의 일부분 예를 들어, 귀, 손 또는 치아도 처리할 수 있다. 이러한 영역은 통상적인 메이크업 제품을 도포하는 것이 쉽지 않게 복잡한 형태를 띠고 있다. 이와 같은 복잡한 형태에도 불구하고, 감광 메이크업은 이러한 영역에 심미적 효과를 연출할 수 있다.

감광 메이크업은 피부의 티를 감추는 데에도 사용될 수 있다.

감광 메이크업은 사용자가 착용하는 의상이나 액세서리의 패턴 예를 들어, 귀금속, 지갑, 안경, 신발, 가구, 개인 휴대 정보 단말기(PDA) 또는 휴대폰의 패턴을 모사할 수도 있다.

적당한 경우, 이와 같은 의상 또는 액세서리를 판매할 때, 상기 액세서리 또는 의상과 어울리는 감광 메이크업 외관을 표현할 수 있도록 해주는 파일 또는 인터넷 링크도 함께 제공될 수 있다.

상기 파일 또는 인터넷 링크는 의상이나 액세서리와 어울리도록 디자인 또는선택된 이미지를 연출하는데 필수적인 데이터에 접근할 수 있도록 할 수 있다. 예를 들어, 이 파일 또는 인터넷 링크는 패턴의 전부 또는 일부를 모사하거나 또는 이 패턴을 완성할 수 있다.

도면의 설명

ㆍ 도 1은 본 발명에 의해서 연출되는 감광 메이크업 처리 시스템의 일례를 개략적으로 도시한 단편도이고;

ㆍ 도 2는 광선 조사시, 처리될 영역이 어떻게 고정되는지를 도시한 것이며;

ㆍ 도 2a는 이미지 픽셀 내 패턴이 형성된 상태를 도시한 것이고;

ㆍ 도 3∼도 6은 조사기의 변형 예의 일부를 개략적으로 도시한 것이며;

ㆍ 도 7∼도 10 및 도 10a는 몇 가지 기술을 이용하는, 어드레스 가능 매트릭스 화상기의 상이한 예를 도시한 것이고;

ㆍ도 11∼도 13은 감광 메이크업의 예를 도시한 것이며;

ㆍ도 14a∼도 14c 및 도 15a∼도 15c는 감광 메이크업이 진행되는 과정의 예를 도시한 것이고;

ㆍ도 16은 조성물을 도포하기 전에 이 조성물이 발색될 수 있도록 만드는 포장 장치의 예를 도시한 것이며;

ㆍ도 17은 처리될 영역에 투영된 이미지에 따라서 달라지는 메이크업의 예를 도시한 것이다.

도포 방식

본 발명을 수행하기 적당한, 파우더, 유체, 분사 또는 필름 형태의 조성물을 각각 도포할 수 있다. 이들 중 유체는 레올로지가 상이할 수 있다. 예를 들어, 유체는 케라틴 물질 상에 문질렀을 때 발라지는 제품 블록일 수 있거나, 또는 액체일 수 있다.

열 안정성 광 변색 조성물 층 또는 임의로는 광학 보호 조성물 층, 바람직하게는 광학 보호 조성물 층은 건조된 파우더 또는 거의 건조된 파우더의 형태로 도포될 수 있다.

본 발명의 조성물은 각각 예비 성형된 필름의 형태를 가질 수도 있다.

바람직하게, 본 발명의 조성물을 다층으로 도포할 경우, 제2 층은 이미 도포한 제1 층을 손상시키지 않도록 도포하는 것이 바람직하다. 이를 위해서, 제2 층을 형성할 조성물을 분사하여 도포하는 것이 바람직할 수 있다.

도포는 프린터 예를 들어, 잉크젯 프린터 즉, 처리될 영역과 접촉하고 임의로는 그 영역의 위를 이동하기도 하는 장치를 사용하여 수행될 수도 있다. 하나 이상의 층이 분사될 때, 임의의 분사 기술 예를 들어, 추진 가스를 사용하는 분사 기술, 에어 브러시를 사용하는 분사 기술, 또는 정전 분사 기술 또는 압전 분사 기술을 사용할 수 있다. 도포는 또한, 조성물 중 하나 이상이 묻어있는 지지 시트 또는 형성될 다수의 층을 사용하는 전사(transfer)에 의해 수행될 수도 있다. 전사는 압력이나 열을 이용하고/이용하거나, 본 발명에 따라서 처리될 케라틴 물질 및/또는 지지 시트에 적층된 용매를 이용하여 수행될 수 있다.

도포는 사용자가 직접 수행할 수 있거나, 또는 예를 들어, 매니퓰레이터 암(manipulator arm)을 사용하여 자동 방식으로 수행될 수 있다.

각각의 층은 그 층보다 먼저 도포된 임의의 층을 건조한 후에 도포할 수 있다.

도포는 도포할 조성물이 로딩된 도포 부재를 포함하는 도포기, 가능하게는 1회용 도포기를 사용하여 수행될 수 있다.

본 발명의 조성물은 판매 현장, 뷰티 살롱 또는 가정에서 도포할 수 있다.

각각의 조성물은 사용 전에 임의의 적당한 용기에 담겨 포장될 수 있다.

본 발명의 조성물 특히, 열 안정성 광 변색 조성물은 환경 광의 세기가 감광 메이크업 외관의 품질을 떨어뜨리지 않는다는 것을 확인한 후에 도포할 수 있다. 이와 같은 확인 과정은 환경 광이 지나치게 강한 UV 또는 근 UV 광선 예를 들어, 플럭스(flux)가 0.1 mW/㎠ 또는 0.5 mW/㎠인 UV 또는 근 UV 광선(필요에 따라서는 최소 치도 해당할 수 있음)을 포함하는지 여부를 사용자에게 알려주는 경고 장치를 사용하여 수행될 수 있다. 이러한 장치는 독립적으로 존재할 수 있거나, 또는 포장 장치나 열 안정성 광 변성 조성물을 도포하는 장치, 심지어는 포장 장치나 광학 보호 조성물을 도포하는 장치와 통합되어 있을 수 있다.

적당한 경우, 상기 경고 장치에 의해 전달된 정보는 또한 UV 광선 수준에 따라서, 열 안정성 광 변색 조성물, 광학 보호 조성물 및/또는 다수의 조성물 중 기저 층으로서 사용되는 조성물을 선택하는데 유용할 수도 있다.

전술한 바와 같이, 적당한 경우 본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물은 완전히 발색된 상태 또는 비 발색 상태로 도포될 수 있다.

본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물과, 코팅층 또는 기저 층 또는 광학 보호층을 형성하는데 사용될 조성물은 다양한 형태 예를 들어, 크림, 겔, 액체의 형태를 가질 수 있거나, 손이나 도포기 예를 들어, 롤-온(roll-on)을 사용하여 펴 발라질 조성물의 형태를 가질 수 있다.

본 발명의 조성물은 조성물 블록(예를 들어, 립스틱)을 케라틴 물질과 접촉한 상태에서 이동시킴으로써 도포할 수 있다. 뿐만 아니라, 본 발명의 조성물은 에어로졸 캔, 펌프 병 또는 정전 장치, 압전 장치 또는 에어브러시 분사 장치를 사용하여 분사함으로써 도포할 수 있다.

본 발명의 조성물은 필요에 따라서 브러시 또는 페인트 브러시로 도포할 수 있는 건조된 형태 예를 들어, 파우더 형태를 가질 수 있다.

본 발명의 광 변색 조성물을 발색된 상태로 도포하고자 할 때, 상기 광 변색 조성물은 도 16에 도시한 바와 같은 포장 및 도포 장치 즉, 이 조성물이 담겨있는 수용기(1000), 예를 들어, 조성물을 발색시키기 위해 UV를 발광하는 광원(1010), 그리고 도포 수단 예를 들어, 도포기용 페인트 브러시(1020)를 포함하는 장치에 담길 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템

도 1을 통해 개략적으로 확인할 수 있는 바와 같이, 감광 메이크업 외관은, 하나 이상의 광원(2)을 포함하는 조사기(3)를 포함하는 감광 메이크업 처리 시스템(1)을 사용하여 표현될 수 있다. 화상기는, 환경에 따라서, 예를 들어, 본 발명의 광 변색 조성물이 함유하고 있는 광 변색 제제 또는 제제들을 비 발색 상태에서 발색 상태로 변질시키고/시키거나, 상기 광 변색 제제 또는 제제들을 발색된 상태에서 비 발색 상태로 변질시켜 열 안정성 광 변색 조성물 중에 포함된 광 변색 제제 또는 제제들을 소진시켜, 본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물을 발색시키는데 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물이 처음에 비 발색 상태일 때, 조사기는 열 안정성 광 변색 조성물이 UV 또는 근 UV 광선으로 발색될 수 있을 때 이 UV 또는 근 UV 광선을 발광할 수도 있다.

이미지는, 처리될 영역을 지나가거나, 임의로는 이 처리될 영역과 접촉하는 광선의 진행 경로에 놓여있는 네거티브 또는 마스크에 의해 한정될 수 있다.

조사기는, 처리될 영역(Z)에 일정 거리만큼 떨어져서 하나 이상의 이미지를 형성하는 화상기(4)를 하나 이상 포함하는 것이 바람직하다.

간단히 말해서, 화상기 또는 화상기들은 마스크 또는 네거티브 및 광학 장치를 사용하여, 처리될 영역을 투영할 수 있다. 상기 네거티브는, UV 또는 근 UV 광선에서 이미지를 생성할 수 있는 UV 네거티브일 수 있다.

광원(2)은 임의의 유형의 발광 소자 예를 들어, 백열 전등, 할로겐 램프, 방전 램프 및/또는 전계 발광 소자, 구체적으로, 하나 이상의 발광 다이오드(LED), 유기 LED(OLED) 또는 기타 전계 발광 장치를 포함할 수 있다.

이하 더욱 상세히 기술된 바와 같이, 조사기(3)는 UV 또는 근 UV 뿐만 아니라, 가시 광선, 구체적으로는, 근 UV 가시 광선을 발광시키도록 다수의 광원을 포함할 수 있다.

광원 또는 광원들을 포함하는 조사기와 화상기 또는 화상기들은 UV 또는 근 UV 및 가시 광선을 선택적으로 발광할 수 있는 것이 유리하다.

가시 광선으로 이미지를 투영하는 방법을 UV 광선으로 이미지를 투영하는 방법으로 바꾸는 과정은, 이동식 거울 또는 반투명 표면을 사용하거나, 필터를 부가 또는 제거하고/제거하거나, 주파수 배가기 또는 삼배기를 사용하여 광원을 바꾸어 줌으로써 이루어질 수 있다.

이하에 상세히 기술되어 있는 바와 같이, 본 발명의 광 변색 제제 또는 제제들이 발색될 수 있을 때, 가시 광선을 사용하면, 최소한 부분적으로 이미 발색된 영역을 마저 발색시키고/발색시키거나 이 영역에서 감광 메이크업을 제거하기 전에, 처리될 영역에 투영된 이미지를 눈으로 확인할 수 있게 된다.

도 1에서 살펴볼 수 있는 바와 같이, 감광 메이크업 처리 시스템은 사용자 인터페이스(11)와 합체될 수 있으며, 예를 들어, 키보드, 마우스, 터치 스크린, 음성 인식 장치, 그래픽스 태블릿, 조이스틱 및/또는 터치 패드(이에 한정되는 것은 아님)를 포함하는 컴퓨터(10)를 포함할 수 있다.

컴퓨터(10)는 마이크로컴퓨터, 더욱 일반적으로는 예를 들어, 마이크로컨트롤러, 마이크로프로세서 및/또는 프로그래밍할 수 있는 논리 어레이를 사용하여 제조되는 임의의 아날로그 및/또는 디지털 연산 수단을 포함할 수 있다.

컴퓨터(10)는 하나 이상의 가전 제품의 형태로 제조될 수 있는데, 전자 화상기가 사용될 때, 적당한 경우, 이 화상기는 연산 작용 전부 또는 일부를 수행할 수 있다. 컴퓨터(10)는 또한 예를 들어, 컬러 스크린 예를 들어, LCD, 플라즈마, OLED 또는 캐소드 레이 류, 임의로는 터치 스크린과 같은 디스플레이 수단(12)과 합체될 수도 있다. 이하에 기술되어 있는 바와 같이, 이러한 디스플레이 수단(12)은 처리시 처리된 영역을 디스플레이하여, 처리 과정을 제어할 수 있게 해주고/해주거나 시뮬레이션을 디스플레이할 수 있게 해 주는데 사용될 수 있다.

컴퓨터(10)는 또한 데이터 저장 수단(13) 예를 들어, 하드 디스크, 자기 테이프, 광학 디스크 및/또는 플래시 메모리와 합체될 수 있으며, 여기서, 상기 데이터 저장 수단은 컴퓨터(10), 조사기(3) 및/또는 적어도 부분적으로 분리되어 있는 외부 데이터 저장 시스템과 합체될 수도 있다.

컴퓨터(10)는 예를 들어, 감광 메이크업과 관련된 데이터를 다운 로드하거나, 또는 도포하고 있거나 도포한 감광 메이크업과 관련된 데이터를 제3자나 서버에 전송시키는데 사용되는, 네트워크 인터페이스(14)와 합체될 수 있다.

적당한 경우, 컴퓨터(10)는 이미지를 형성하는데 사용되는 광선을 발광하는 광원 또는 광원들을 제어하여, 소정의 발광체에 의해 이미지를 형성하는 것이 유리할 수 있다.

화상기는 이하에 기술된 바와 같이, 소정의 이미지를, 처리될 영역(Z)에 투영할 수 있도록 컴퓨터가 데이터를 전송할 수 있는 어드레스 가능 전자 매트릭스 화상기인 것이 유리하다.

감광 메이크업 처리 시스템에는 이미지의 초점을 수동식으로 또는 자동식으로 맞출 수 있도록 하는 광학 시스템 및/또는 전자 시스템이 하나 이상 제공될 수 있으며, 이동을 막는 수단도 제공되면 유리할 수 있다.

처리될 영역을 조사기에 대해서 고정된 상태로 유지시키기 위해서, 감광 메이크업 처리 시스템은 사용자를 정지된 상태로 유지시키는 수단을 포함할 수 있는데, 이로써, 사용자가 움직이지 않도록 할 수 있을 뿐만 아니라, 이미지 결과가 흐릿해지는 것도 막을 수 있다.

이미지를 얼굴에 생성시킬 때, 감광 메이크업 처리 시스템은 얼굴 긴장이 풀렸는지를 감지하고, 이와 같은 감지 결과에 따라서 화상기를 제어하도록 환경 설정될 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템(1)은 편평부를 포함할 수 있거나, 또는 신체 일부의 형태를 가질 수 있는데, 이 부분은 처리될 영역에 대해 배치될 수 있다.

변형예에서, 또는 이에 부가하여, 감광 메이크업 처리 시스템은 예를 들어, 이미지를 정지된 상태로 안정시키는데 사용되는 것 또는 모션 픽쳐 카메라에 사용되는 것과 동일한 유형의 움직임 수정 시스템을 포함할 수 있다.

얼굴을 처리할 때, 감광 메이크업 처리 시스템은, 도 2에서 살펴볼 수 있는 바와 같이, 처리될 개체를 고정하는 수단(8)(턱 받침 형태)을 포함할 수 있다.

변형 예에서, 조사기(3)는 휴대 가능하며, 처리될 개체가 놓인 대 위에 단단히 고정되어 예를 들어, 얼굴을 조사할 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템(1)은, 이하에 상세히 기술된 바와 같이, 본 발명의 하나의 구체예에서, 컴퓨터(10)에 데이터를 전송하여, 이 데이터가 감광 메이크업 외관을 제안하고/제안하거나 이 외관의 연출을 제어할 수 있도록 하는 광학 데이터 습득 장치(16)를 포함할 수 있다. 광학 데이터 습득 장치(16)는 실질적으로 이미지 투영 방향과 평행인 시야 축 선을 가질 수 있는 것이 유리하다. 광학 데이터 습득 장치는 모노 픽셀(monopixel) 또는 멀티 픽셀(multipixel)일 수 있으며, 이는 화상기로부터 직접적으로 발광되는 광선을 수용할 수 있거나, 처리될 영역(Z)에 의해 반사되는 광선을 수용할 수 있다.

임의의 광학 데이터 습득 장치, 조사기, 임의의 컴퓨터, 그리고 임의의 뷰 스크린(view screen)은 별도의 소자의 형태로 제조될 수 있거나, 또는 동일한 케이스에 통합되어 있을 수 있다. 조사기와 광학 데이터 습득 장치는 동일한 케이스에 통합되어 있는 것이 유리할 수 있거나, 아니면 다른 수단에 의해 상호 고정될 수 있다.

상기 뷰 스크린은 조사기 케이스의 배면에 고정될 수 있거나, 아니면 이 케이스에 통합될 수 있다. 적당한 경우, 광학 데이터 습득 장치는 습득 데이터를 클로즈-업하는 내부 조사 수단을 포함한다.

조사기 케이스는 또한 이동할 수 있으며, 피부와 닿을 수도 있는데, 예를 들어, 손으로 쥘 수 있다. 본 발명의 하나의 구체예에서, 조사기의 케이스는 예를 들어, 테이블 위에 놓을 수 있다. 이후, 예를 들어, 얼굴을 기울여서 얼굴과 케이스가 가까워지도록 만들 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템에는 눈 및/또는 입을 뜨거나/벌리거나 감는 것/다무는 것을 감지하여, 눈 및/또는 입이 떠져 있을 때/벌려져 있을 때 조사를 멈추거나 개시하지 않도록 하는 수단이 제공될 수 있다. 광학 데이터 습득 장치(16)는 이러한 목적으로 컴퓨터(10)에 의해 분석되는 이미지를 제공할 수 있다.

이미지가 얼굴에 생성될 때, 감광 메이크업 처리 시스템은 얼굴을 식별하도록 환경 설정될 수 있으며, 또한 화상기는 최소한 이러한 식별 결과에 따라서 제어될 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템은, 사용자가 감광 메이크업 진행 상태를 눈 등으로 평가할 수 있도록 디자인된 것이 유리하다.

이와 같은 목적으로, 감광 메이크업 처리 시스템은 조사시 처리될 영역을 적당한 경우, UV 스크린을 통해서 직접 확인할 수 있는 윈도우를 포함할 수 있다. 직접 확인할 공간을 확보하기 위해서, 광선은 오프셋 위치로부터 발광될 수 있으며, 광 섬유 또는 하나 이상의 거울 또는 프리즘은 이 광선을 배향시켜, 처리될 영역에 광선을 집중시키는데 사용될 수 있다.

도 3은 처리될 영역(Z)을 향하여 각각 자외선과 가시 광선을 발광하는 2개의 화상기(4a 및 4b)를 포함하는 감광 메이크업 처리 시스템의 일부를 도시한 다이아그램이다. 윈도우(403)는 상기 화상기(4a 및 4b) 사이에 제공되므로, 처리시 상기 영역(Z)을 관찰할 수 있다.

도 4에서 살펴볼 수 있는 바와 같이, 시역(viewing zone)은 또한 거울(404)이나 임의의 기타 광학 시스템 예를 들어, 광섬유 또는 프리즘을 사용하는 오프셋(offset)일 수도 있다.

광학 데이터 습득 장치 예를 들어, 디지털(모션 픽쳐 또는 스틸) 카메라가 존재할 때, 처리된 영역(Z)은, 스크린 즉, 조사기에 배치할 수 있거나 오프셋일 수 있는 스크린을 통하여 관찰할 수 있다.

도 5는 거울(18)을 사용하여, 처리될 영역(Z)으로 향하고 있는 광선 빔을 오프셋 함으로써 조사기(3)를 제조할 수 있음을 도시한 것으로서, 여기서, 사용자는 처리된 영역(Z)을 조사기의 윈도우(20)를 통해 관찰할 수 있다.

도 6은 2개의 광원(2a 및 2b)이 각각 UV와 가시 광선을 발광하는 조사기(3)를 제조할 수 있음을 도시한 것이다. 도 6에 도시한 조사기는 컬러 필터(302) 예를 들어, 녹색 필터를 포함하는데, 이 필터는 광원(2b), 조정 가능한 시준 광학 장치(adjustable collimation optic; 303) 및 이동식 거울(304) 앞에 배치되어 있다. 본 구체예의 조사기(3)에서는 네거티브(308)가 광학 경로에 배치될 수 있다. 상기 조정 가능 시준 광학 장치(303)는 상기 네거티브의 이미지가 조사기(3)의 광선 출구로부터 임의의 거리(예를 들어, 약 20 센티미터)만큼 떨어진 지점에 생성될 수 있도록 한다.

조사기(3)에는 2개의 스위치(306 및 307)가 제공된다. 첫 번째 스위치는 광원(2a 및 2b)을 작동시킨다. 이동식 거울은, 가시 광선만을 두 번째 스위치가 존재하는 임의의 위치에 있는 광선 출구를 향하게 하도록 배치된다. 예를 들어, 마이크로모터 또는 전자석을 작동하여 상기 스위치를 작동시키면 이동식 거울이 이동하게 되고, UV 광선은 이후 네거티브(308) 쪽으로 향하게 된다.

전술한 바와 같이, 감광 메이크업 처리 시스템은 어드레스 가능 전자 매트릭스 화상기를 포함하는 것이 유리하다.

어드레스 가능 전자 매트릭스 화상기

예를 들어, 어드레스 가능 매트릭스 화상기는 픽셀화한 이미지(해상도 = 10×10 픽셀 이상, 바람직하게는 10×100 픽셀 이상)를 투영하는데 적당하다.

화상기가 어드레스 가능 전자 매트릭스 화상기일 때, 처리될 영역 상에 생성된 이미지는 온(on) 또는 오프(off) 상태의 픽셀[임의로는, 각각 소정의 그레이 레벨(gray level)인 픽셀]에 의해 생성된다. 예를 들어, 도 2a는 연출된 감광 메이크업(P)이 입술 윤곽선을 나타내는 경우인 도 2를 자세히 도시한 것이다. 도 2a는 투영된 이미지 픽셀의 다양한 배치 상태를 나타낸 것으로서; 생성될 이미지 윤곽선에 상응하는 픽셀만을 스위치-온(switch-on) 한 경우를 도시한 것이다. 열 안정성 광 변색 조성물의 발색 상태는 픽셀의 상태와 매치된다.

어드레스 가능 매트릭스 화상기를 떠나는 광선은 단색성 또는 다색성일 수 있는데; 바람직하게, 상기 어드레스 가능 매트릭스 화상기는 UV 또는 근 UV를 선택적으로 발광할 수 있을 뿐만 아니라, 근 UV 외부의 가시 광선도 선택적으로 발광할 수 있고, 발광된 가시 광선은 백색광 또는 유색 광, 임의로는, 단색 광일 수 있다.

컴퓨터(10)는 전자 화상기가 구체적으로, 각 픽셀의 그레이 레벨, 임의로는, 각 픽셀에서의 광선 주 파장을 제어한다는 것을 바탕으로 하여, 디지털 이미지를 측정할 수 있다.

몇 가지 기술을 사용하여 어드레스 가능 매트릭스 화상기를 제조할 수 있다.

텍사스 인스트루먼츠(TEXAS INSTRUMENTS)에 의해 개발된, DLP(디지털 광선 프로세싱; Digital Light Processing)라고 알려져 있는 기술을 이용할 수 있는데, 이 기술에서는, DMD(디지털 마이크로 거울 장치) 칩 즉, 전기 펄스를 이용하여 개별적으로 제어할 수 있는 배향을 가지는 수 천개의 마이크로 거울로 이루어져 있으며, 또한 이 마이크로 거울의 배향에 따라서 입사 광선 빔을 임의로 반사시켜 화상기의 광선 출구로 이 빔을 전송하거나 전송하지 않는, DMD 칩을 사용한다. 투영될 이미지는 거울 매트릭스 상에 생성된다. 각 픽셀의 그레이 레벨(예를 들어, 256개 레벨)은 마크 스페이스 비율(mark space ratio)을 조정하여 제어할 수 있다.

도 7은 이와 같은 기술을 이용하여 제조한 전자 화상기(4)의 일례를 도시한 것으로서, 이 화상기는 참조 번호 111의 DMD 칩을 사용하였다. 상기 칩은 이 칩을 제어하는 프로세서(113)를 포함할 수도 있으며, 임의로는 메모리(114)를 포함할 수도 있는 판(platen; 112)에 고정될 수 있다. 도시한 구체예에서는, 칩을 프로세서(113) 및 메모리(114)가 존재하는 판과 동일한 판에 도시하였지만, 이 소자들은 다른 형태로도 배치될 수 있다.

도 7에 도시한 화상기(4)는 UV 및/또는 가시 광선 둘 다를 발광할 수 있는 광원, 또는 가시 광선이나 UV를 선택적으로 발광할 수 있는 광원일 수 있는 광원(2)으로부터 유래하는 광선을 수용한다.

광원(2)은 UV 및 가시 광선 영역의 스펙트럼을 발광하는 할로겐 램프, 방전 램프, 또는 UV와 백색 광, 또는 예를 들어, 소정의 색을 띠는 광선을 발광할 수 있는 하나 이상의 LED일 수 있다.

도시한 바와 같이, 화상기(4)는 각각 광선을 모아서 DMD 칩에 초점을 생성하여 이를 처리될 영역에 전달하는 광학 장치(118, 119 및 120)를 포함할 수 있다.

도시한 바와 같이, 광원(2)이 UV 및 가시 광선 둘 다에 해당하는 스펙트럼을 발광할 때, 화상기(4)는 예를 들어, 집광 장치(118) 및 초점 형성 장치(119) 사이에서 광선 빔을 교차시키는 필터 휠(130)을 포함할 수 있다. 상기 필터 휠(130)의 위치에 따라서, 칩은 UV 또는 가시 광선을 수용한 후, 이를 광선 출구 쪽으로 향하게 한다. 그러므로, 처리될 영역에 선택적으로 가시 광선 및/또는 UV 광선을 조사하여 이미지를 형성할 수 있다.

도 8에 도시한 조사기에 관한 변형 예의 경우, 광원(2)으로부터 유래하는 입사 광선을 주 파장이 상이한 2개 이상의 빔(예를 들어, UV 또는 근 UV 및 가시 광선)으로 나누는, 프리즘 상에 다수의 DMD 칩이 고정되어 있다.

DMD 칩에 의해 반사된 광선 빔은 처리될 영역을 향해 투영된다.

UV 또는 근 UV 빔과 관련된 DMD 칩 및 가시 광선 빔과 관련된 칩을 제어함으로써, UV 광선 빔 또는 가시 광선 빔 중 어느 하나, 또는 가능하게는, 둘 다를 동시에 처리될 영역에 투영할 수 있는데; 이로써, 발색이 비교적 서서히 진행될 때, 발색시키는 역할을 하는 광선이 적당한 위치에 있는지를 눈으로 모니터하는데 유용할 수 있다.

조사기는 또한 액정 디스플레이(LCD) 기술을 이용한 것일 수도 있다.

도 9에 도시한 구체예에서, 광원(2)은 주 파장이 상이한 광선 빔을 2개 이상 발광하는 색 선별 거울(125)을 향하고 있는데, 이때, 상기 빔들 중 하나의 주 파장이 예를 들어, UV 또는 근 UV이면, 다른 하나의 주 파장은 가시 광선이다.

상기 빔은, 거울(125 및 126)에 의해, 투영될 이미지가 생성될 LCD 매트릭스 스크린(127) 방향으로 향하게 되며, 이로써 단색 이미지는 프리즘 시스템(128) 방향으로 향하게 되고, 처리될 표면에 투영 광학 장치(120)를 통해 이미지를 보낼 수 있게 되는 것이다. 스크린(127)의 불투명도에 따라서, 가시 광선 영역 또는 UV 영역의 광선이 발광된다.

도 10에 도시한 조사기(3)는 LCD 매트릭스 스크린(132)과 이 스크린(132)을 비추는 광원(2)을 포함한다. 여기에 생성된 이미지는 투영 광학 장치(120)에 의해, 처리될 영역에 투영된다. 예를 들어, 광원(2)은 UV 또는 가시 광선을 선택적으로 발광할 수 있다.

변형예에서, 스크린(132)은 도 6에 도시한 구체예의 네거티브(308)를 대신할 수 있다.

투영 시스템은 또한 실리콘을 근간으로 하는 액정(LCOS) 기술을 바탕으로 할 수도 있다. LCD 기술에서는 광선이 LCD 스크린을 통과하므로 이 기술을 전송 기술이라고도 부르는 반면에, DLP 기술에서는 광선이 DMD 칩의 마이크로 거울에 의해 반사되므로 이 기술을 반사 기술이라고 부른다. LCOS 기술에서, DMD 칩의 거울은 투광 상태와 차광 상태 사이에서 변할 수 있는, 액정 층으로 덮인 반사 표면으로 대체된다. 액정이 켜지거나 꺼지는 주파수를 변조함으로써, 픽셀의 그레이 레벨을 바꿀 수 있다.

예를 들어, 도 7 및 도 8에 도시한 배열을 사용할 수 있는데, 여기서는 DMD 칩을 LCOS 칩으로 대체하였다.

도 10a는 LCOS 칩 조사기를 도시한 것이다. 렌즈 시스템(901)은 광원(2) 예를 들어, UV 램프와 반투명 거울(903) 사이에 배치할 수 있다. 이 시스템은 광원으로부터 유래하는 광선을 칩(900)으로 반사시킨다. 상기 칩은 광선을 다시 초점 형성 시스템(120) 즉, 처리할 영역에 픽셀화한 이미지를 투영하는 시스템에 반사시킨다.

일반적으로, 어드레스 가능 매트릭스 화상기에 의해 전달된 이미지는, 개별적으로 어드레스 가능한 그레이 레벨 픽셀 매트릭스를 포함하는데, 여기서, 각각의 그레이 레벨은 예를 들어, 4 비트 이상, 바람직하게는 8 비트로 암호화된다. 적당한 경우, 각각의 픽셀과 관련된 광선도 암호화될 수 있다.

투영될 이미지는 VGA, SVGA, 복합 신호, HDML, SVIDEO, YC_BC_R, 광학 비디오 신호 또는 기타 표준 신호를 따르는 비디오 신호의 형태, 또는 비디오나 디지털 이미지 파일 예를 들어, .jpeg, .pdf, .ppt 등의 파일의 형태로 전자 화상기에 공급될 수 있다. 이와 같은 이미지가 단색이 아닐 때, 파일 내 이미지에 입혀진 소정의 색에 따라서 예를 들어, UV 또는 근 UV의 조사량을 제어할 수 있다.

전자 화상기는 이미지를 바꾸지 않고, 발광된 광선의 성질을 바꿀 수 있도록 제조된 것이 유리한데; 예를 들어, 이미지 픽셀은 자체의 그레이 레벨과 업스트림을 바꾸는데 사용된 광원의 발광 스펙트럼만을 보유한다. 이로써, 처리될 영역에 이미지가 가시화될 수 있으며, 이후, 광원의 발광 스펙트럼을 간단히 변질함으로써 상기 처리될 영역을 발색시킬 수 있다.

하나 이상의 광 변색 제제를 선택적으로 소진시키고, 발색된 상태인 열 안정성 광 변색 조성물로부터 감광 메이크업 외관을 표현하기 위해서, 상기 화상기를 가시 광선을 투영하는데 사용할 수 있다. 이 경우, 화상기는 예를 들어, 통상의 비디오 투영기일 수 있다.

투영된 이미지의 선택

특히, 어드레스 가능 전자 화상기를 사용할 때, 투영된 이미지를 선택하는 수단을 감광 메이크업 처리 시스템에 제공하는 것이 바람직하다. 이러한 이미지는 이미지 라이브러리로부터 선택할 수 있는데, 이러한 과정은, 가능하게는 상기 라이브러리로부터 유래하는 이미지를 연속적으로 디스플레이하고 사용자가 이 디스플레이된 이미지를 선택함으로써 실현 가능하다. 이미지는 디지털 형태 또는 사진의 형태로서 예를 들어, 데이터 저장 수단에 저장될 수 있다. 이미지 라이브러리는 감광 메이크업 처리 시스템에 포함될 수 있거나, 또는 다운 로드할 수 있다.

본 발명의 하나의 구체예에서는, 감광 메이크업을 받을 예정인 개체, 또는 모델 예를 들어, 유명인이나 특정 스타일의 개체로부터 얻은 이미지를 다듬어서 사용하는데, 이 경우, 이 이미지는 메이크업한 사람 또는 메이크업하지 않은 사람으로부터 얻을 수 있다. 뿐만 아니라, 그림, 페인팅, 스케치 또는 캐리커처로부터 얻은 이미지를 사용하여, 투영된 이미지를 생성할 수도 있다.

컴퓨터는 자체 내에 메모리를 가질 수 있거나, 또는 라인이나 붓질의 형태를 갖거나, 또는 점 하나나 연속된 라인, 획 또는 점들의 형태를 가지는 픽토리얼 모델 하나 이상을 다운 로드할 수 있다.

생성된 이미지는 습득된 이미지에 따라서 달라지는 것으로서, 자동으로 측정될 수 있다. 이로써 투영된 이미지를 얼굴의 형태 및/또는 얼굴 색에 맞출 수 있다.

캡쳐한 얼굴의 위치를 기초로 하여, 컴퓨터는 감광 메이크업 외관으로 표현할 이미지를 올바르게 배치할 수 있다.

그러므로, 감광 메이크업 처리 시스템은 다음과 같은 단계들을 포함하는 방법에 사용될 수 있다:

ㆍ 메이크업할 대상의 특정 영역에 대한 이미지를 하나 이상 습득하는 단계;

ㆍ 습득한 이미지에 따라서 화상기를 제어하는 단계.

예를 들어, 이미지는, 광학 데이터 습득 장치(16)를 얼굴의 전부나 일부, 또는 신체의 기타 처리된 영역을 캡쳐하도록 조정하여 습득할 수 있다.

예를 들어, 상안검에 감광 메이크업 외관을 표현하기 위해서, 다음과 같은 단계들을 수행할 수 있다:

ㆍ 얼굴의 이미지를 캡쳐하고 이로부터 눈꺼풀 영역을 도출하는 단계;

ㆍ 상기 눈꺼풀 영역에 열 안정성 광 변색 조성물을 도포한 다음, 이 눈꺼풀 영역이 있는 부위에 표현할 픽토리얼 모델을 조사함으로써; 감광 메이크업을 올바른 위치에 표현하는 단계.

픽셀 전부에 광선이 비추어질 때 이미지가 더욱 넓은 영역을 덮을 수 있는 경우, 처리될 영역의 위치에 조사하는 과정은, 이 위치에 상응하는 픽셀만을 조사함으로써 수행될 수 있다. 해상도를 더 좋게 만들기 위해서, 예를 들어, 처리된 영역의 이미지 픽셀 수를 이미지 픽셀 총 수의 3분의 2 이상으로 만들 수 있다.

컴퓨터는 또한 픽토리얼 모델의 형태를 변형시켜, 이 픽토리얼 모델을 얼굴의 형태에 맞출 수도 있다. 그러므로, 예를 들어, 입술을 메이크업하고자 할 경우, 다음과 같은 단계들을 수행할 수 있다:

ㆍ 얼굴 이미지를 캡쳐하여, 이로부터 입술 영역을 도출하는 단계;

ㆍ 입술 형태와 재생될 픽토리얼 모델을 비교하는 단계;

ㆍ 픽토리얼 모델을 수정하여 입술 형태에 맞도록 새기는 단계; 및

ㆍ 광 변색 조성물을 입술에 도포한 다음, 이 입술을 조사하여 픽토리얼 모델을 수정하는 단계.

이 방법은 또한 신체의 다른 부위에도 적용할 수 있다.

그러므로, 감광 메이크업 처리 시스템에는 다음과 같은 4가지 기능이 부여될 수 있다:

ㆍ 처리될 얼굴 또는 기타 신체 부위의 이미지를 캡쳐하는 기능;

ㆍ 처리될 얼굴 또는 기타 부위의 이미지를 분석함으로써, 처리될 신체 중 얼굴 부분에 적용할 픽토리얼 모델의 위치를 고정하는 기능;

ㆍ 임의로는, 픽토리얼 모델의 형태를 수정하여 얼굴의 형태에 맞추는 기능; 및

ㆍ 감광 메이크업으로 표현하고자 하는 이미지의 투영을 제어하는 기능.

감광 메이크업 처리 시스템은 얼굴의 3D 형태를 습득하는 수단을 포함할 수 있다. 감광 메이크업 처리 시스템은 예를 들어, 앞머리를 투영함으로써 돌출부를 감지하도록 조정한 광학 데이터 습득 장치를 포함할 수 있고/있거나, 광택을 감지하도록 조정할 수도 있다.

본 발명의 하나의 구체예에서, 사용된 픽토리얼 모델은 자동으로 결정된다. 이러한 선택은 램덤한 방식으로 이루어질 수 있거나, 또는 얼굴의 외관을 최적화하는 규칙 예를 들어, 색이 조화를 이루도록 만드는 계획 또는 얼굴과 자연스럽게 조화를 이루도록 만드는 계획과 부합하는 규칙을 이용하는 프로그래밍 논리를 사용하여 실현될 수 있다. 그러므로, 예를 들어, 하얀 피부의 얼굴인 경우, 주근깨를 만들 수 있다.

상기 선택은 또한, 비대칭 얼굴을 대칭 얼굴로 재구성하는 논리를 적용하고/적용하거나, 광선과 음영을 적용하여 지나치게 각진 얼굴을 둥글게 만들거나 또는 그 반대로 만들거나, 자연스럽지 않거나 매력적이지 않은 비율을 수정함으로써 이루어질 수도 있다.

본 발명의 하나의 구체예에서, 감광 메이크업 처리 시스템은 픽토리얼 모델을 다수 개 제안하고, 이 중에서 사용자가 하나를 선택할 권리를 가질 수 있도록 한다. 이러한 제안은 그래픽을 통하여(예를 들어, 스크린에 디스플레이하여) 제공될 수 있다. 제안된 픽토리얼 모델은 감광 메이크업을 받을 대상의 이미지에 겹쳐놓을 수 있거나, 아니면 얼굴을 디이아그램으로 나타내는 스크린에 이 픽토리얼 모델을 디스플레이할 수 있다. 사용자가 픽토리얼 모델을 선택할 수 있는 임의의 인터페이스를 사용할 수 있다. 예를 들어, 사용자에게 제안한 픽토리얼 모델에 관한 설명은, 감광 메이크업 처리 시스템에 의해 행하도록 제안된 행동을 음성으로 묘사함으로써 제공될 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템은 처리될 영역의 피부에 존재하는 흠을 자동으로 감지하도록 환경 설정될 수 있으며, 화상기는 감지된 흠의 성질에 따라서 제어할 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템에는 예를 들어, 다음과 같은 흠을 인식하기 위한 특정 인식 기능이 제공될 수 있다:

ㆍ 반점, 블랙 헤드, 여드름, 붉은 반점(strawberry spot), 얼룩;

ㆍ 주름, 크랙(crack), 튼살, 정맥;

ㆍ 울퉁불퉁한 부분(예를 들어, 상처) 중 솟은 부분 또는 함몰 부분 ;

ㆍ 비대칭성;

ㆍ 박리부;

ㆍ 푸석한 피부 또는 번들거리는 피부;

ㆍ 털.

이와 같은 흠은 이미지 분석 및/또는 울퉁불퉁한 부분을 분석함으로써 감지될 수 있다. 이미지 분석법은 3D 이미지 분석법일 수 있다. 이미지 분석법은 색 및/또는 광택을 분석하는 것을 포함할 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템에는 또한 상기 흠이 가시화되는 것을 막기 위해서 픽토리얼 모델을 연산 처리 또는 선택할 수 있는 기능이 제공될 수 있다. 이와 같이 예로 들 수 있는 픽토리얼 모델의 예로서는, 흠이 있는 것으로 감지되는 일부 부위를 흐릿하게 나타낸 것, 그리고 임의의 부분 특히, 상처나 비 대칭부의 윤곽선을 수정한 것이 있다.

본 발명의 다른 구체예에서, 사용자 또는 제3자는 픽토리얼 모델을 규정하여 제작할 수 있다. 그러므로, 사용자 또는 제3자는 감광 메이크업 처리 시스템에 의해 해석될 명령들을 전송할 수 있다. 이와 같은 명령들은 그래픽일 수 있으며, 감광 메이크업 처리 시스템은 터치 스크린형의 사람-기계 인터페이스를 포함할 수 있다. 사용자는 메이크업 라인이 연출될 영역을 지정함으로써, 얼굴 이미지 또는 얼굴 다이아그램에 메이크업 명령을 전송한다. 감광 메이크업 처리 시스템은 사용자 지시를 해석하고, 이 지시를 얼굴 토포그래피에 적용하여, 감광 메이크업 외관을 표현하도록 환경 설정될 수 있다.

상기 명령은 예를 들어, "입술 영역을 붉은 색으로 채울 것"과 같은 설명일 수 있거나, 아니면 예를 들어, "눈꺼풀 메이크업"과 같이 이해하기 쉬운 설명일 수 있다. 감광 메이크업 처리 시스템은 이후, 통상적이거나 특별히 프로그래밍된 방식으로 작동하여, 사용될 디폴트 픽토리얼 모델을 해석할 것이다.

명령은 프로그래밍될 수 있으며, 이러한 프로그램은 개인의 필요에 맞출 수 있다.

제안된 픽토리얼 모델을 선택하거나 제작할 픽토리얼 모델을 결정하는 사람은 메이크업하는 사람 또는 다른 사람 예를 들어, 전문 메이크업 아티스트일 수 있다. 픽토리얼 모델의 선택 또는 제작은, 감광 메이크업 외관이 표현되는 곳 또는 여기와 떨어져 있는 곳에서 실현될 수 있다. 떨어져 있는 곳에서 실현될 때, 감광 메이크업 처리 시스템에는 처리 영역 이미지를 커뮤니케이션 할 수 있는 커뮤니케이션 수단 예를 들어, 전술한 네트워크 인터페이스(14)가 제공될 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템에는, 임의로, 잡지 또는 기타 매체에 나오는 메이크업 외관을 캡쳐하는 수단과, 추후 처리될 영역에 재현될 수 있는 잡지 또는 기타 매체 속 픽토리얼 모델을 제작하는 수단 예를 들어, 스캐너 또는 RFID 칩 판독기가 제공될 수도 있는데, 여기서, 상기 칩은 메이크업 외관에 관한 설명을 다운 로드할 수 있는 인터넷 링크나 메이크업 외관에 관한 설명을 포함한다. 상기 칩은, 감광 메이크업 외관을 표현하는데 사용될 조성물 또는 조성물들이 담겨있는 포장 내에 포함될 수 있거나, 또는 감광 메이크업으로 재현해 낼 수 있는 특별한 패턴을 가지는 의상이나 기타 액세서리에 관한 정보를 포함하는 장치에 포함될 수 있다.

사용자가 다양한 종류의 픽토리얼 모델 중 재현할 모델을 선택할 수 있도록 하기 위해서, 감광 메이크업 처리 시스템은 여러 종류의 픽토리얼 모델을 시뮬레이션 형태로 연속 디스플레이하도록 환경 설정될 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템은 다양한 종류의 모델을 얼굴에 직접 신속하게 대입시킬 수 있다. 그러므로, 사용자는 이 모델이 자신에게 맞는지 여부를 실사로 확인할 수 있다. 이러한 모델은 가시 광선하에 얼굴에 투영될 이미지 또는, 예를 들어, 가시 광선을 조사함으로써 지워질 수도 있는 열 안정성 광 변색 조성물을 사용하여 표현한 감광 메이크업 외관일 수 있는데, 이 경우, 상기 열 안정성 광 변색 조성물은 발색되지 않는다.

감광 메이크업 처리 시스템은 저장 수단(13) 내 메모리 안에 사전 입력한 모델 몇 개를 포함하여, 표현해낼 수 있었던 픽토리얼 모델을 기억할 수 있는 것이 유리할 수 있다. 이러한 방식으로, 사용자는 입력된 픽토리얼 모델을 이용하거나 교체할 수 있다.

본 발명의 하나의 구체예에서, 일단 픽토리얼 모델을 선택하면, 이 픽토리얼 모델을 사용자 얼굴의 토포그래피에 맞추고 이미지를 투영하여 감광 메이크업을 표현하는 과정은 자동으로 진행된다. 얼굴을 캡쳐하고 이미지를 생성하는 과정 사이의 시간 간격은 비교적 짧을 수 있다[예를 들어, 1초 미만].

본 발명의 다른 구체예에서, 전체 과정이 진행되는 동안, 감광 메이크업을 받는 사람 또는 제3자가 개입할 수 있다. 이후, 메이크업을 표현하는 과정은 이전보다 더 느려질 수 있다. 감광 메이크업 처리 시스템은 사용자 또는 제3자가 예를 들어, 스크린(12)을 통해 감광 메이크업 진행 과정을 확인하여 메이크업 과정의 진행을 늦추거나 중지할 수 있도록 환경 설정될 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템은 임의로는 얼굴을 규칙적으로 다시 캡쳐함으로써 픽토리얼 모델을 얼굴에 고정한 후 조정하여, 열 안정성 광 변색 조성물을 발색시키기 위해 광선을 조사하는 과정 중에 사용자가 움직임으로써 발생할 수 있는 문제를 없애는 과정을 다시 시작할 수도 있다.

몇 가지 부분 감광 메이크업 외관을 연속으로 표현할 수 있다. 그러므로, 감광 메이크업 외관을 표현하는 도중에라도, 각각의 픽토리얼 모델을 결정할 수 있으며, 그로 인한 효과는 눈으로 확인할 수 있고, 추후 계속 이용될 또 다른 픽토리얼 모델도 이런 식으로 선택하여 감광 메이크업을 점진적으로 구성할 수 있다.

전술한 바와 같이, 감광 메이크업 처리 시스템은, 하나 이상의 구체화된 프로그램에 의해서 얼굴이나 얼굴의 일부에 가장 적합한 픽토리얼 모델을 선별하도록 환경 설정될 수 있다. 그러므로, 감광 메이크업 외관은, 제1 픽토리얼 모델을 제작하고 나서, 제작될 새로운 픽토리얼 모델을 이 제1 픽토리얼 모델로부터 도출하도록 얼굴을 두 번째로 선별함으로써 표현될 수 있다.

얼굴의 어느 한 부분은 반자동 방식으로, 그리고 다른 부분은 자동 방식으로 처리할 수 있다. 뿐만 아니라, 얼굴의 일부를 임의의 시점까지 자동 방식으로 처리한 후, 계속해서 반자동 방식으로 감광 메이크업을 수행할 수 있거나, 아니면 그 반대로 수행할 수도 있다.

감광 메이크업 처리 시스템은 예를 들어, 전술한 광학 데이터 습득 장치를 사용하여 이미지를 얻거나, 임의로는, 처리될 영역에 상응하는 부분을 추출하고, 적당한 경우, 이 이미지를 수정하여 일단 투영된 결과를 개선하도록 환경 설정될 수 있다.

사용된 감광 메이크업 처리 시스템은, 처리될 얼굴이나 기타 임의의 영역에 투영된 이미지를 바탕으로 하여, 이 이미지를, 예를 들어, 1차원 또는 2차원으로 확대 또는 축소함으로써 사용자가 형태를 수정할 수 있도록 환경 설정되는 것이 바람직하다. 변형 과정은 더욱 복잡할 수도 있다. 그러므로, 예를 들어, 이미지의 일부를 수정하고, 특정 영역을 확장하여, 라인의 크기를 바꿀 수 있다. 이를 위해서는 일반적으로 이미지 생성 및 편집용 소프트웨어 예를 들어, 포토샵^®에 존재하는 도구를 이용할 수 있다. 적당한 경우, 이미지는 광학 데이터 습득 장치를 통해 피드백하여 편집될 수 있는데; 이때, 컴퓨터는 순환 실행되는 감광 메이크업 프로그램 처리 시스템을 이용하여 원하는 결과를 얻을 때까지, 투영된 이미지의 결과를 파악하고 상기 결과를 자동으로 수정할 것이다.

감광 메이크업의 점진적 표현

감광 메이크업은 다음과 같은 단계들로 이루어진 과정을 통해서 표현될 수 있다:

ㆍ 처리될 영역에 열 안정성 광 변색 조성물을 도포하는 단계;

ㆍ 열 안정성 광 변색 조성물을 점진적으로 발색시키거나, 또는 이 열 안정성 광 변색 조성물을 점진적으로 소진시키도록 선택된 광선으로 상기 영역을 조사하는 단계; 및

ㆍ 원하는 외관이 얻어졌을 때 조사를 중지하고/중지하거나 이 조사의 특징을 변질시키는 단계로서, 여기서, 상기 외관은 예를 들어, 열 안정성 광 변색 화합물의 부분적 발색 또는 열 안정성 광 변색 조성물의 부분적 소진에 상응하여 표현된 결과이다.

그러므로, 의도로 하는 진하기를 가지는 메이크업 결과를 더욱 용이하게 얻을 수 있다. 점진적으로 광선을 조사하는 중에, 감광 메이크업 실연자 및/또는 감광 메이크업 처리 시스템은 이 감광 메이크업의 진행 과정을 모니터하여, 원하는 결과가 얻어졌을 때 감광 메이크업을 중지시킬 수 있다.

이와 유사하게, 만일 열 안정성 광 변색 조성물이 변색될 수 있다면, 감광 메이크업을 더욱 세련되게 표현하기 위해서, 감광 메이크업을 실행하는 당시 또는 그 후에도 계속해서 편집을 실시할 수 있다.

조사는 1회 이상 중지되었다가 재개될 수 있다.

조사 광선의 주 파장 및/또는 세기는 원하는 외관이 얻어지기 전에 바꿀 수 있다. 예를 들어, 조사 광선 세기를 바꿈으로써, 열 안정성 광 변색 조성물의 발색율 또는 소진율을 바꿀 수 있다. 주 파장을 조정함으로써, 조사 에너지 및/또는 광 변색 제제에 대해 발생한 효과를 조정할 수 있다.

전체 이미지는 점진적으로 처리될 수 있지만, 점진적 방식 예를 들어, 자동 방식, 프로그래밍된 방식 또는 프로그래밍 가능한 방식으로 이 이미지를 부분-대-부분(portion-by-portion) 처리할 수도 있다.

감광 메이크업은 몇몇 패턴을 연속으로 형성하는데 사용될 수 있다. 하나 이상의 다른 패턴이 여전히 조사되고 있는 동안, 원하는 외관을 갖게 된 하나 이상의 패턴에는 조사를 중지할 수 있다. 연속으로 표현될 수 있는 패턴은 예를 들어, 주근깨이다.

그러므로, 도 13에서 살펴볼 수 있는 바와 같이, 주근깨를 표현하기 위해 특정 프로그램을 실행할 수 있다. 이 프로그램은 광선을 적당하게 점진적으로 조사함으로써 주근깨를, 처리된 영역의 중심부로부터 이 영역의 외부로(도 13a∼도 13c), 또는 분포가 희박한 형태에서부터 조밀한 형태로(도 14a∼도 14c), 또는 작은 주근깨 분포 방식에서부터 큰 주근깨 분포 방식으로 표현할 수 있거나, 아니면 랜덤한 방식으로(도시하지 않음) 표현할 수 있다.

광선의 세기는 발색을 시작하는 순간에 거의 발색시키지 못할 정도로 약할 수 있다.

발색을 충분히 늦추기 위해서, 초당 조사 에너지 E는 0.5 E₀ 이하, 바람직하게는 0.2 E₀일 수 있는데, 여기서, 상기 E₀는 상기 열 안정성 광 변색 조성물의 80%를 발색시키는데 필요한 초당 에너지이다. E는 0.2 E₀ 이하일 수 있다. 비 발색 상태의 색 변화 ΔE와 비교된 발색 상태의 색 변화 ΔE가, 얻을 수 있는 최대 색 변화량의 80%에 해당할 때, 열 안정성 광 변색 조성물의 80%가 발색되는 것으로 간주한다.

이와 유사하게, 본 발명의 조성물이 소진될 때, 초당 조사 에너지(E')는 0.5 E'₀ 이하일 수 있는데, 여기서, 상기 E'₀는 열 안정성 광 변색 조성물의 80%를 소진시키는데 필요한 초당 에너지이다. 상기 E'는 0.2E'₀ 이하일 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템은 처리될 영역의 색을 분석하도록 환경 설정될 수 있으며, 추후, 조사를 자동으로 제어하는데 이 분석 결과를 사용할 수 있다. 예를 들어, 색은 열 안정성 광 변색 조성물을 도포한 후와 원하는 외관을 얻기 전에 분석될 수 있다. 이 시스템은 예를 들어, 원하는 외관이 얻어졌을 때 감광 메이크업을 자동으로 중지시킬 수 있다. 색은 예를 들어, 처리된 영역 상에 생성된 이미지 픽셀의 색을 분석하여 측정할 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템은 이미지의 소정 영역을 분석하도록 환경 설정될 수 있으며, 조사는 상응하는 영역의 색에 따라서, 관찰한 다수의 영역에 조사되는 조사 광선의 세기를 조정하여 제어할 수 있다. 어드레스 가능 매트릭스 화상기로 조사를 수행할 때, 처리된 영역을 이루는 다수 픽셀에 조사한 결과를 정확하게 모니터할 수 있다.

조사는 일정하거나 가변적일 수 있다. 상기 조사는 특히, 소정의 시간("조장 시간(bring-up time)") 동안에는 세기가 셀 수 있으며, "미세 조정(fine tune)" 단계에서는 세기가 약해질 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템은 조사 광선을 간헐적으로 전달하도록 프로그래밍할 수 있는데, 예를 들어, 계속 조사하다가 조사를 중지하는 기간(예를 들어, 30초 이하의 기간)을 가질 수 있다. 사용자가 결과에 만족할 때 이 과정을 중지할 수 있다.

조사를 중지한 다음 재개하는 과정에 사용자가 개입할 때, 조사를 충분히 늦추어 사용자가 색 변화를 확인할 수 있도록 할 수 있으며, 이 경우, 조사율은 예를 들어, CIE 랩 공간에서 초당 3 단위(E) 이하(예를 들어, 초당 약 2 단위(E))로 변한다.

조사 광선의 세기를 조정할 수 있을 때, 감광 메이크업 처리 시스템에는 조사 광선의 세기를 감소 또는 증가시키도록 비율 및/또는 진폭을 조정하는 제어 부재 예를 들어, 버튼, 센서, 조이스틱, 음성 제어 인터페이스 또는 제어 패드가 제공될 수 있는데, 이것들은 조사 광선의 세기 특히, 화상기로부터 유래하는 업 스트림에 따라서 작동할 수 있다.

본 발명의 구체예에 따라서, 사용자는 결과를 고려 및/또는 관찰하기 위해 원하는 바대로 조사를 중지하거나 조정할 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템에 의해 조사 프로그램을 수행함에 따라서 조사 광선의 공급이 이루어질 수 있는데, 이 경우, 사용자는 프로그램 수행 중 이 프로그램을 중지하거나 또는 일시 중지할 수 있고, 아니면 하나의 프로그램을 다른 프로그램으로 변경할 수 있다. 이 프로그램은, 예를 들어, 조사 광선 세기가 증가 또는 감소하는 비율을 조정하기 위해, 사용자가 시간이 경과 함에 따라서 조사량을 한정 또는 특정하여 이 조사량을 변경할 수 있도록 만들 수 있다.

조사 광선의 세기가 증가 또는 감소한다고 해서 반드시 이미지의 형태와 생성 영역 범위가 변하는 것은 아니다. 그러므로, 조사 광선의 세기를 조정하기 위해서, 가하여진 광선의 유입량을 조정하는 전기 시스템 및/또는 광학 시스템 예를 들어, 하나 이상의 필터, 격판 및/또는 편광기, 및/또는 광원을 제어하기 위해 전력을 변경하는 장치를 사용할 수 있다. 조사 광선 세기는 또한 이미지 픽셀의 그레이 레벨에 따라서 달라질 수도 있다.

감광 메이크업 처리 시스템은 연출될 감광 메이크업에 따라서 달라지는 점진적 조사 프로그램을 자동으로 결정하도록 환경 설정될 수 있다. 예를 들어, 만일 소정의 영역 위에 표현된 감광 메이크업이 옅은 색을 나타내면, 감광 메이크업 처리 시스템은 약한 조사 광선을 지정하는 프로그램을 제안 및/또는 적용할 수 있다. 만일 다른 영역에 표현된 감광 메이크업이 진한 색을 나타내면, 감광 메이크업 처리 시스템은, 처음에는 더욱 강한 광선을 조사하다가 이후에는 조금 덜 강한 광선을 조사하여, 사용자가 감광 메이크업 결과를 미세하게 변조할 수 있는 과정을 포함하는 프로그램을 제안 및/또는 적용할 수 있다. 처음에 수행된 광선 조사는 추후 적용될 플럭스의 2배 이상인 플럭스로 수행될 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템은, 최종 감광 메이크업 외관을 표현하기 위해 적용한 조사량을 계산한 값과, 상기 시스템으로부터 조사 프로그램을 도출해내기 위한 규칙을 적용하기 위해 적용한 조사량을 계산한 값을 바탕으로 하여, 조사 광선의 세기를 측정할 수 있다. 예를 들어, 만일 이 시스템이 조사량이 X J만큼 필요한 것으로 계산되면, (예를 들어, 1초에 걸쳐) X의 80%를 신속하게 적용한 다음, 나머지 20%는 예를 들어, 초당 5%씩 적용할 수 있다.

전술한 바와 같이, 감광 메이크업 처리 시스템에는, 조사를 개시할 때 또는 감광 메이크업을 수행하는 중에 피부 또는 기타 케라틴 물질의 색을 측정할 수 있는 광학 데이터 습득 장치가 제공될 수 있다. 상기 장치는 점진적인 조사 변화량을 연산 또는 조정하는 정보를 이용할 수 있다. 예를 들어, 상기 장치는 조사량을 줄이거나 조사를 중지해야 하는 때의 시간을 확인하기 위해 상기 정보를 이용할 수 있다.

광학 데이터 습득 장치용 센서 또는 센서들은 모노 픽셀 또는 멀티 픽셀 측정이 가능한 단색 또는 다색 장치일 수 있다.

감광 메이크업의 진행 과정을 나타내는 정보는, 예를 들어, 표현되는 감광 메이크업의 색을 나타내는 수치 또는 감광 메이크업이 완성된 정도를 나타내는 수치를, 예를 들어, 백분율로 표시하는 등 다양한 방식으로 사용자에게 전송될 수 있다. 수치가 측정된 색을 나타내는 색 역시 스크린에 디스플레이될 수 있다.

역추적( backtracking )

감광 메이크업 처리 시스템은, 감광 메이크업이 수행된 부분들 중 한 군데 이상이 사라지도록 만들거나 원상 복구되도록 만들기 위해서, 광 변색 제제 또는 제제들을 비 발색 상태로 되돌려놓는데 적당한 조사 광선을 사용하여, 이 감광 메이크업의 진하기를 점진적으로 감소시키도록 작동할 수 있다.

이러한 방식으로, 사용자는 이전 단계들로 되돌아가서 최종 결과를 더욱 양호하게 조정할 수 있다. 감광 메이크업 처리 시스템은, 사용자가 원할 때 역추적을 중지하거나 감광 메이크업을 재개할 수 있도록 제조하는 것이 유리하다.

예를 들어, 디아릴에텐 및 풀기드로부터 선택되는 임의의 광 변색 제제의 경우, UV 광선 전부 또는 일부를 가시 광선 예를 들어, 백색 광으로 바꾸어 감광 메이크업을 역추적할 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템은, 이 가시 광선이 UV 광선이 조사되는 표면과 최소한 동일한 표면까지 확대 조사하도록 환경 설정되는 것이 바람직하다.

다수의 광 변색 제제를 포함하는 열 안정성 광 변색 조성물

열 안정성 광 변색 조성물이 각각 상이한 파장에서 최대의 감수성을 갖게 되는 다수의 광 변색 제제를 포함할 때, 상기 광 변색 제제 중 하나 이상은 이 파장을 조정함으로써 선택적으로 발색될 수 있다.

이미 발색된 상태이고, 가장 잘 소진시키는 파장이 각각 상이한, 상이한 광 변색 제제 다수를 포함하는 열 안정성 광 변색 조성물을 사용할 수도 있다. 적당한 경우, 이러한 광 변색 제제는 동일한 UV 광선에 의해 발색될 수 있으나, 가시 광선 영역 내 소진율은 가시 광선 파장에 따라서 달라지므로, 파장을 선택하여 하나의 광 변색 제제를 다른 광 변색 제제보다 더욱 잘 소진시킬 수 있다. 이와 유사하게, 광 변색 제제가 UV 광선에 의해 발색될 수 있을 때, 이 제제는 UV 영역의 파장에 따라서 상이한 비율로 발색될 수 있으며, 이러한 UV 파장을 조정함으로써, 하나의 광 변색 제제는 다른 광 변색 제제에 비하여 더욱 잘 발색될 수 있다.

감광 메이크업 변화 시뮬레이션

본 발명의 하나의 구체예에서, 감광 메이크업 처리 시스템에는 감광 메이크업에 일어나는 변화를 관찰하는 시스템에 더하여 또는 이 시스템 대신에, 감광 메이크업 외관의 변화를 시뮬레이션하는 시스템이 제공된다.

그러므로, 감광 메이크업 전 및/또는 감광 메이크업 중, 사용자는 이 시뮬레이션을 관찰할 수 있으며, 이를 이용하여 감광 메이크업의 진행을 늦출지 아니면 중지할지 여부, 또는 역추적할지 여부를 결정할 수 있다.

감광 메이크업 처리 시스템은, 열 안정성 광 변색 조성물을 도포한 후, 그리고 원하던 외관을 얻어내기 전에 감광 메이크업 결과를 시뮬레이션할 수 있도록 환경 설정될 수 있다. 광선 조사가 열 안정성 광 변색 조성물을 발색시키는지 여부, 또는 이와는 반대로 열 안정성 광 변색 조성물을 소진시키는지 여부에 따라서, 처리될 영역의 조사 진행 과정과 시뮬레이션 진행 과정을 연계시킬 수 있다. 조사기를 사용함으로써 이 같은 것이 실행 가능할 경우, 감광 메이크업의 외관상 변화를 시뮬레이션한 결과는 스크린에 디스플레이될 수 있으며/있거나 처리된 영역에 투영될 수 있다. 시뮬레이션은, 열 안정성 광 변색 조성물을 발색 또는 소진시킬 수 없는 광선 하에서, 최소한 단기간이되, 처리를 어떻게 계속 진행할지 여부를 결정하기에는 충분히 긴 기간에 걸쳐서 투영될 수 있다.

도구의 사용

감광 메이크업 처리 시스템이 전자 화상기를 포함할 때, 이 화상기는 사용자에 의해 조작되는 도구가 무엇인지에 따라서 제어될 수 있으며, 이 경우, 컴퓨터는 어떤 도구를 작동하였는지 여부에 따라서 투영된 이미지 및/또는 조사 광선의 세기를 수정할 수 있다. 처리될 영역 앞에 또는 이 영역에, 또는 처리될 영역을 관찰하는데 사용되는 스크린 앞에 또는 이 스크린에 상기 도구의 일부를 배치할 수 있다. 상기 도구는 또한, 처리될 영역을 관찰하는데 사용되는 스크린 또는 처리될 영역에 생성된 이미지 내 포인터의 움직임을 제어할 수도 있다.

감광 메이크업 처리 시스템은 점진적으로 조사 처리될 특정 영역을 사용자가 제어하고, 이러한 목적으로, 예를 들어, 사용자가 스크린의 특정 영역을 눌러서 조사 진행 과정을 제어할 수 있는 터치 스크린을 포함할 수 있는 디스플레이 수단을 이용할 수 있도록 환경 설정될 수 있다. 상기 터치 스크린은 사용자에 의해 가하여지는 압력의 세기에 감수성인 것이 더욱 바람직하고, 감광 메이크업 처리 시스템은 이 스크린에 가해진 압력을 분석하여, 처리될 영역에 상응하는 부위에 조사하는 시간 및/또는 이 부위에 조사된 빛의 세기를 제어함으로써 상기 압력을 감광 메이크업의 진하기로 바꾸어준다. 그러므로, 예를 들어, 터치 스크린에 가하여진 압력이 셀수록 더욱 진한 색으로 바뀌게 되는 것이다.

본 발명의 하나의 구체예에서, 감광 메이크업 처리 시스템은 터치 스크린상에 위치하거나 또는 그 앞에 위치하는 도구를 감지할 수 있으며, 사용자는 감광 메이크업 외관을 조정하는 도구를 사용할 수 있다.

예를 들어, 사용자는 몇 가지 도구들을 사용할 수 있는데, 이 경우, 각각의 도구에는 인식 수단 예를 들어, 바 코드 또는 RFID 칩이 제공될 수 있으므로, 이 도구가 감광 메이크업 처리 시스템에 의해 인식될 수 있는 것이다. 사용자가 특정 도구를 선택할 때 상기 수단들이 인식되는 것이며, 각각의 도구는 특정 유형의 메이크업을 수행하는 감광 메이크업 처리 시스템에 결합되어 있을 수 있다.

예를 들어, 사용자는 두께 및/또는 색의 진하기가 다르거나, 또는 심지어 색이 상이하기까지 한 메이크업의 라인에 따라서 다수 개의 도구를 사용할 것이다. 사용자는 도구를 선택하여 이를 디스플레이 수단 상에 생성된 이미지에 갖다 대어, 메이크업 외관을 바꿀 수 있다. 메이크업 시뮬레이션은 뷰 스크린을 통해 확인할 수 있고, 반드시 확인해야할 사항을 사용자가 확인한 후에, 조사기를 제어함으로써 감광 메이크업을 수행하여 메이크업 외관을 자동으로 디스플레이 수단 상에 표현할 수 있다.

이미지 구성 요소의 조정 및/또는 개질

본 발명의 하나의 구체예에서, 감광 메이크업 층은 가시 광선 하에서 투영된 이미지와 동일한 시뮬레이션 이미지대로 발색된다. 이를 위해서, 감광 메이크업 처리 시스템은, 처리될 영역 예를 들어, 얼굴에 이미지를 전송하는데, 이때, 시뮬레이션 결과가 표시되며, 사용자가 상기 전송된 이미지를 자신의 얼굴에 고정하거나, 심지어는 수정하도록 상기 시스템을 환경 설정할 수 있다. 이후, 이미지가 올바르게 적용 및 한정되면, 동일한 광학 장치 또는 유사한 광학 시스템을 사용하여, 이전에 생성된 이미지와는 오로지 UV 광선 또는 근 UV 광선에 의해 생성되었다는 점에서만 차이가 있는 이미지를 전송한다. 특히, 조사 광선이 가시 광선에서 UV 광선으로 변할 때에는, 이미지를 한정하는데 사용된 마스크, 네거티브 또는 어드레스 가능 픽셀 매트릭스를 바꿀 필요가 없다. 이를 위해서, 감광 메이크업 처리 시스템에는 하나 또는 2개의 화상기에 사용하기 적당한 UV 광원과 가시 광선 광원이 제공된다.

만일 슬라이드로부터 이미지를 얻는다면, 슬라이드는 이 이미지가 가시 광선 광원 및 UV 광원 둘 다에 의해 생성될 수 있도록 디자인될 수 있다. 이를 위하여, 슬라이드는 UV 광선 및 가시 광선 둘 다를 필터링하는 재료로 제조될 수 있다.

만일 전자 화상기의 어드레스 가능 픽셀로 이루어진 매트릭스 하나 이상에 의해 이미지를 얻는다면, 다음과 같이 몇 가지 형태를 가질 수 있다:

ㆍ2개의 광원 즉, UV 광원 및 가시 광선 광원, 그리고 하나의 매트릭스;

ㆍ2개의 광원(각각 UV 광원 및 가시 광선 광원), 그리고 2개의 매트릭스(각각 UV 및 가시 광선 매트릭스). 이 경우, 이미지는 예를 들어, X 프리즘과 합체되거나, 또는 처리된 영역 중 어느 한 쪽에 존재하는 위치들로부터 투영된다;

ㆍUV 및 가시 광선 둘 다를 발광하는 광원과, 예를 들어, 색 선별 거울, 이동식 거울 또는 외부로 발산되는 광선을 선택하는 필터를 포함하는 UV 또는 가시 광선 화상기;

ㆍUV 및 가시 광선 둘 다를 발광하는 광원과, 2개의 매트릭스(각각 UV 및 가시 광선용 매트릭스).

투영된 이미지는 윤곽선 또는 소수의 기준점에 제한될 수 있다. 이후, 표현된 감광 메이크업은 이와 같은 기준점 또는 윤곽선 내에 새겨진다.

예를 들어, 입술을 처리할 때 2개의 기준점을 사용할 수 있다. 사용자는 열 안정성 광 변색 조성물 층을 도포한다. 2개의 기준점은 감광 메이크업 효과를 나타낼 수 없는 가시 광선 예를 들어, 파장 450∼800㎚, 바람직하게는 파장 500∼700㎚의 가시 광선으로 투영된다. 사용자는 상기 2개의 점을 입술의 양끝에 위치 설정한다. 일단 위치가 설정되면, UV 광선은 상기 2개의 점 사이에 입술 이미지를 형성한다.

UV 조사시, 가시 이미지는 기준점을 바탕으로 일부 이미지를 잘라내거나, 축소하거나 또는 제한할 수 있으며, 또는 수정하지 않고 가시 광선 하 투영 단계 진행시와 동일한 상태로 유지시킬 수 있다.

얼굴에 처리 견본을 형성한 후 이를 이용하여 영역을 처리함에 있어서 감광 메이크업의 용도

광 변색 제제를 영역에 도포하면, 생성된 이미지가 20초 이상 바람직하게는, 1분 이상 동안 유지되기 충분한 만큼의 열 안정성을 가지게 되는데, 이 경우, 이 광 변색 제제는 예를 들어, 디아릴에텐 및 풀기드로부터 선택된다. 상기 견본은, 감광 메이크업에 의해 형성된 영역 A, B 및 C를 한정하는 선을 도시한 도 11에 도시한 바와 같이, 점 및/또는 기준선으로 이루어진 이미지일 수 있다. 필요하다면, 사용자에게 이 영역에 사용될 조성물 및/또는 도포기에 관하여 알려주는 인디케이터(indicator) 예를 들어, 글자와 숫자를 병기한 인디케이터를 동일한 방법으로 마련한다.

사용자는 발색된 견본에 따라서 메이크업 외관을 표현하거나 기타 처리를 수행할 수 있다. 이를 위해서, 사용자는 통상의 메이크업 도구를 사용할 수 있다. 사용자는 또한 관리용 제품을 도포하기 위해 감광 메이크업에 의해 제조된 견본을 사용할 수도 있다.

예를 들어, 이미지를 분석하고/분석하거나, 예를 들어, 피부 상태에 감수성인 센서를 하나 이상 사용함으로써, 특수한 관리가 필요한 영역에 대한 진단이 행해지게 되며, 또한 수행될 처리에 관한 맵(map)[이 맵은 저장되어 있을 수 있음]이 제작된다. 그 다음, 감광 메이크업 처리 시스템은 견본을 얼굴에 표현하는데 사용되는데, 여기서, 관리를 필요로 하는 영역은 최소한 일시적으로나마 발색된다. 이후, 사용자는 관리 제품 또는 제품들을 상기 발색된 영역에 도포할 수 있다.

얼굴에 기준점의 위치를 설정한 후, 이 기준점을 인지하여 메이크업 외관을 표현해내는 도구의 사용

사용자는 감광 메이크업을 사용하거나, 또는 기준점을 투영하며, 투영된 이미지를 따라서 손으로(예를 들어, 펜으로) 표시함으로써, 얼굴에 기준점의 위치를 설정할 수 있다.

일단 감광 메이크업이 처리된 영역에 기준점을 표시하면, 이 기준점을 판독하는데 사용되는 수단이 장착된 장치를 사용할 수 있는데; 이 장치는 또한 필요하다면 기준점을 변환할 수 있는 것이 바람직하다. 하나의 구체예에서, 상기 장치에는 멀티 픽셀 센서, 내부 조사 수단 및 도포 수단 예를 들어, 잉크 젯 프린트 헤드가 제공될 수 있다.

상기 기준점은 예를 들어, 선을 나타낸다. 사용자는 상기 장치가 피부 위로 지나가도록 할 수 있는데, 이 경우, 이 장치는 표면을 광학적으로 분석하도록 환경 설정될 수 있다. 예를 들어, 처리될 영역이 실선으로 한정된다고 가정하면, 상기 장치가 처음에 상기 실선 위를 지나갈지 여부를 결정할 때, 이 장치는 착색된 재료를 적층하기 시작하고, 이후, 상기 장치가 두 번째로 상기 실선 위를 지나갈 때, 이 장치는 상기 착색된 재료를 적층하는 것을 멈추게 된다.

기준점들이 서로 연결될 때, 이 점은 하나의 모양을 나타낼 수 있다. 상기 장치에는 이러한 점들을 인지하여 이 점들이 이루고 있는 모양에 상응하는 모양을 형성할 수 있는 수단이 제공될 수 있다. 이와 같은 장치는 이와 같은 모양을 형성하기 위해서 착색된 재료를 적층할 수 있다. 이를 위하여, 상기 장치는 기하학적 수정 과정을 수행함으로써 상기 점들이 이루고 있는 모양에 부합하는 모델을 기반으로 하여 작동을 개시할 수 있다.

적층된 착색 재료는 곡선 또는 이 곡선 내부에 새겨진 표면을 한정할 수 있다.

선 및/또는 표면의 곡률은 균일하거나, 무작위로 불균일하거나 또는 기하학적으로 불균일할 수 있다[즉, 반복 패턴을 포함할 수 있다].

처리될 영역 상에 존재하는 점은 암호를 규정할 수 있다. 상기 장치에는 점들이 이루고 있는 모양에 상응하는 암호를 변환하고, 인지된 암호에 의존적인 방식으로 선택 및/또는 도포된 조성물을 도포하는데 사용되는 수단이 제공될 수 있다.

예를 들어, 임의의 점들에 의해 제1 패턴이 형성되고, 다른 점들에 의해서는 상이한 패턴이 형성된다. 상기 장치는 감지된 패턴에 따라서 2개의 상이한 조성물을 도포하거나, 또는 동일한 조성물을 농도를 달리하여 도포한다.

광학 보호 조성물

전술한 바와 같이, 원하는 외관이 실현되면, 열 안정성 광 변색 조성물에 광학 보호 조성물이 포함될 수 있다. 이와 같은 열 안정성 광학 보호 조성물은 광 변색 조성물을 발색시키는데 사용된 광선이 UV 광선일 때, 이 UV 광선에 대한 스크린으로 작용할 수 있다.

필요하다면, 광학 보호 조성물은 광 변색 제제가 소진될 위험을 방지하기 위해서, 적당한 경우, 최소한 가시 광선 내 소정의 파장에서 스크린으로 작용할 수도 있다.

광 변색 조성물에 태양 광선(290∼400㎚)에 대한 스크리닝 파워 F(2∼20 바람직하게는, 4∼10)를 제공하는 광학 제제를 하나 이상 사용할 수 있다.

적당한 경우, 광학 보호 조성물은 광택성 조성물, 유질 또는 연화 조성물, 매티파잉 조성물(mattifying composition), 크림 블러셔(cream blusher), 파우더 블러셔, 폴리싱 조성물(polishing composition) 또는 피니싱 조성물(finishing composition)일 수 있다.

광학 제제

발색에 사용되는 광선, 구체적으로, UV 또는 근 UV 에 대한 스크린을 형성하는 광학 제제

전술한 광학 제제 또는 제제들은 UV 특히, UVA 및/또는 UVB의 투과를 차단하는 스크린 및 확산 입자 또는 기타 제제로부터 선택될 수 있다.

이와 같은 광학 제제는 무기 스크린 특히, 나노미터 크기의 입자형 무기 스크린, 및 유기 스크린으로부터 선택될 수 있다.

광학 제제 또는 제제들은 친수성이거나 친지성일 수 있다.

유기 필터는 안트라닐레이트 유도체, 신남산 유도체, 살리실산 유도체, 캠퍼 유도체, 벤지미다졸 유도체, 벤조트리아졸 유도체, 벤잘말로네이트 유도체, 이미다졸린, 비스-벤조아졸릴 유도체, 벤족사졸 유도체, 트리아진 유도체, 벤조페논 유도체, 디벤조일메탄 유도체, 베타, 베타 디페닐아크릴레이트 유도체, p-아미노벤조산 유도체, 중합체 스크린 및 실리콘 스크린(특허 출원 공개 공보 WO 93/04665 참조), 알파-알킬스티렌으로부터 유래하는 이량체, 4,4-디아릴부타디엔 및 이것들의 혼합물로부터 선택될 수 있다.

친수성 스크린은 특허 출원 EP-A-0 678 292에 개시된 것들로부터 선택될 수 있으며, 예를 들어, 3-벤질리덴 2-캠퍼 특히, 멕소릴(Mexoryl) SX^®이 있다.

예로 들 수 있는 친지성 스크린의 예로서는 디벤조일메탄 유도체(특허 출원 공보 FR-A-2 326 405, FR-A-2 440 933, EP-A-0 114 607에 개시); 기바우단(Givaudan) 사로부터 시판중인 파솔(Parsol)^® 1789, 머크(Merck) 사로부터 시판중인 유솔렉스(Eusolex)가 있다. 또한, 2-에틸헥실 2-시아노-2,2-디페닐아크릴레이트[옥토크릴렌이라고도 알려져 있으며, 바스프(BASF) 사로부터 상표명 유비널(Uvinul) N 539로 시판되고 있음]를 예로 들 수 있다.

뿐만 아니라, 머크 사로부터 상표명 유솔렉스 EX 6300으로 시판되고 있는 p-메틸벤질리덴 캠퍼를 예로 들 수도 있다.

다음과 같은 것들로부터 선택된 스크린도 광학 제제로 사용할 수 있다: 벤조페논-3(옥시벤존), 벤조페논-4(설리소벤존), 벤조페논-8(디옥시벤존), 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진(BEMT 또는 티노소브(Tinosorb) S), 디에틸아미노 하이드록시벤조일 헥실 벤조에이트(유비널 +), 에틸헥실 메톡시신나메이트, 에틸헥실 살리실레이트, 에틸헥실 트리아존, 메틸 안트라닐레이트(메라디메이트), (4-)메틸-벤질리덴 캠퍼(파솔 5000), 메틸렌 비스-벤조트리아졸릴 테트라메틸부틸페놀(티노소브 M), 파라-아미노벤조산(PABA), 페닐벤지미다졸 설폰산(엔설리졸; Ensulizole), 폴리실리콘 15(파솔 SLX), 트리에탄올아민 살리실레이트.

사용된 광학 제제는 또한 선택된 매질에 따라서 달라지는 여러 가지 표면 처리 방법에 의해, 스크린으로 사용하기 적당한 입자 예를 들어, 티타늄 또는 산화아연 나노 안료를 확산시켜 제조할 수도 있다. 상기 나노 안료의 평균 크기는 통상적으로 5∼1000㎚이다.

상기 광학 제제(들) 또는 심지어 건조 제제나 거의 건조된 상태인 제제의, 도포 전 광학 보호 조성물의 중량을 기준으로 한 전체 농도는 0.001∼30%일 수 있다.

바람직하게, 스크린 또는 이의 조합물은 320∼400㎚, 바람직하게는 320∼420㎚의 광선에 대해 스크린으로 작용하는 본 발명의 조성물 중에 포함된다.

광 변색 제제 또는 제제들에 가시 광선 및 적외 광선이 전파되는 것을 차단하는데 사용되는 광학 제제

비록 UV 광선에 대해서 스크린으로 작용을 하는 광학 제제가 비 발색 영역을 보호하는데 사용됨에도 불구하고, UV 광선에 의해 발색될 수 있는 열 안정성 광 변색 조성물을 사용할 때, 가시 광선을 스크리닝하는 광학 제제 하나 이상은 또한 열 안정성 광 변색 조성물에 첨가되어 발색된 영역을 보호할 수 있으며, 또한 상기 2가지 작용을 모두 가지는 광학 제제 즉, UV를 스크리닝하고 가시 광선을 스크리닝하는 광학 제제가 유리할 수 있다.

다수의 착색제 또는 안료가 사용될 수 있다. 구체적으로는, 피부색에 가까운 색을 띠는 착색제 예를 들어, 황색 착색제, 오렌지색 착색제, 또는 황색, 오렌지색, 황토색, 갈색 또는 적갈색 색조를 발색할 수 있는 혼합물, 또는 소량으로 사용하거나, 그 외에도 백색 또는 황색 확산제와 혼합하여 사용하는 것이 바람직한 적색 착색제를 사용하여, 파스텔톤의 색 예를 들어, 핑크색이나 베이지-핑크색을 발색시키는 것이 바람직하다. 백인 피부에 있어서는 약간 핑크색 톤을 띠는 착색제를 사용하는 것이 바람직하고, 동양인 피부에 있어서는 약간 황색 톤을 띠는 착색제를 사용하는 것이 바람직하며, 흑인 피부에 있어서는 적갈색 또는 갈색 톤의 착색제를 사용하는 것이 바람직하다.

착색제를 단독으로 사용하거나 혼합물로서 사용할 경우, 이 착색제는 피부색과 가까운 색도를 가질 수 있다. 착색제는 채도 C*(HVC* 시스템)가 40 미만인 것이 바람직하다.

착색제 또는 착색제들은 다음과 같은 것들로부터 선택될 수 있다:

ㆍ색 지수 CI가 11680, 11710, 15985, 19140, 20040, 21100, 21108, 47000, 47005인 황색 안료;

ㆍ색 지수 CI가 11725, 15510, 45370, 71105인 오렌지색 안료; 및

ㆍ색 지수 CI가 12085, 12120, 12370, 12420, 12490, 14700, 15525, 15580, 15620, 15630, 15800, 15850, 15865, 15880, 17200, 26100, 45380, 45410, 58000, 73360, 73915, 75470인 적색 안료.

광학 보호 조성물에 있어서, 유기 안료의 안료 페이스트 예를 들어, 다음과 같은 상표명으로 획스트(HOECHST) 사로부터 시판중인 것이 사용될 수 있다:

ㆍ존느 코스메닐 IOG(JAUNE COSMENYL IOG): 안료 5 t 황색 3호 (CI 11710);

ㆍ존느 코스메닐 G: 안료 황색 1호 (CI 11680);

ㆍ오렌지 코스메닐 GR: 안료 오렌지색 43호 (CI 71105).

레이크 특히, D&C 레드 21호(CI 45 380), D&C 오렌지 5호(CI 45370), D&C 레드 27호(CI 45 410), D&C 오렌지 10호(CI 45 425), D&C 레드 3호(CI 45 430), D&C 레드 7호(CI 15 850:1), D&C 레드 4호(CI 15 510), D&C 레드 33호(CI 17 200), D&C 황색 5호(CI 19 140), D&C 황색 6호(CI 15 985), D&C 황색 10호(CI 77 002)라는 명칭으로 알려져 있는 것들을 사용할 수 있다.

착색제는 이온성이거나 중성일 수 있다.

천연 착색제 및 안료는 얼굴 색과 자연스럽게 잘 어울리고, 이것들 중 일부는 시간이 경과 함에 따라서 자체의 색을 잃어버리게 되므로 특히 유리하다. 상기 천연 착색제 및 안료는 예를 들어, 인공적으로 재생산된 천연 분자 또는 식물로부터 유래하는 추출물로서 예를 들어, 멜라닌, 안토시안, 폴리페놀, 포르피린 및 커큐민으로부터 선택된다.

상기 착색제 및 안료는 예를 들어, 인돌 및/또는 페놀 유도체 예를 들어, 특허 공보 FR-2 679 771에 개시된 것들을 산화 중합하여 얻은 안료일 수 있다.

UV 스크린을 보충하는 이온 특성을 갖는 착색제 및 안료가 특히 유리한데, 음이온 작용기를 가지는 착색제 예를 들어, 임의의 식품 착색제 및 양이온 필터를 예로 들 수 있다.

뿐만 아니라, 반응시 발색하는 IR 필터 또는 화합물 예를 들어, DHA를 사용할 수도 있다.

또한, 변색 착색제(color-change colorant) 예를 들어, 시간이 경과 함에 따라서 가능하다면 서서히 발색되는 색을 나타내는 착색제로서, 공기와 접촉할 때 점차적으로 발색되는 경향이 있는 착색제를 사용할 수도 있는데, 이것의 예로서는 DHA 또는 폴리페놀이 있다. 이는 광학 보호 조성물의 스크리닝 파워를 점차적으로 나타낼 수 있다.

열 불안정성 광 변색 제제

광학 보호 조성물에 사용된 광학 제제는 열 불안정성 광 변색 착색제일 수 있다. 이 착색제는 감광 메이크업 외관을 표현하는데 사용되기보다는, 지나치게 강한 광선에 노출되는 경우 예를 들어, 매우 강렬한 햇빛이나 인공 조명 예를 들어, 텔레비젼 스튜디오에서 사용되는 조명, 임의의 의료 처리시 사용되는 조명, 임의의 미용 처리시 사용되는 광선 예를 들어, 태닝 부스에서 사용되는 광선, 카메라 플래시, 또는 축제 거리의 불빛에 노출되는 경우, 이 감광 메이크업 외관을 보호하는데 사용된다.

열 불안정성 광 변색 제제는 매우 강렬한 조명 하에서 자체의 색을 띠게 되며, 이미 수행된 감광 메이크업의 가시성을 임의의 방식으로 제한할 수 있다. 그러나, 열 불안정성 광 변색 제제를 일단 매우 강렬한 조명으로부터 차단시키면 다시 신속하게 무색으로 되돌아가게 되는데, 이와 같은 현상은 일시적인 것이다.

25℃의 암실에서 60초 경과시 자체의 색을 절반 이상 잃게 되는 열 불안정성 광 변색 제제를 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 열 불안정성 무기 광 변색 제제가 바람직하다.

입사광을 반사할 수 있는 광학 제제

광학 제제 특히, UV 또는 가시 광선을 감쇄시키기 위해서 사용된 광학 제제는 금속 거울을 형성하는 광학 제제, 또는 다층 간섭 구조나 회절 격자를 형성하는 광학 제제일 수 있다.

단독으로 사용하거나 상기 나열한 광학 제제에 대한 보충 제제로서 사용하기 적당한 광학 제제는 입사광을 반사할 수 있는 광학 제제이다. 반사는 광파 반사 층과 전파 매질 사이의 계면에서 일어난다. 반사 층을 구성하는 재료의 굴절률은 1.5 이상일 수 있으며, 가능하다면 1.8 이상일 수도 있다.

광학 제제는 금속을 함유할 수 있거나 또는 이 금속에 의해 제조될 수 있다. 예를 들어, 은 층은 은 염을 환원시켜 이것을 광학 보호 조성물과 함께 도포하거나 은 나노 입자 분산액을 도포하여 형성된다.

광학 보호 조성물의 반사 도는 5% 이상일 수 있으며, 가능하다면, 10% 이상일 수 있다. 감광 메이크업 결과를 악화시키지 않도록 하기 위해서는, 상기 반사 도가 50% 미만인 것이 바람직하다. 예를 들어, 광학 보호 조성물은 분산액을 포함할 수 있는데, 이 분산액은 은 나노 입자의 수성 분산액 또는 에탄올 계 분산액일 수 있는데, 상기 분산액의 예로서는, 샘플에 따라서 크기가 10∼60㎚이고, 중합체 시스템에 의해 안정화되는 분산액으로서 니폰 페인트(Nippon Paint) 사로부터 시판되고 있는 것들이 있다. 건조시 이루어지는 안정화에서는 입자들이 접촉하게 되는데, 이러한 접촉을 통하여, 은 거울에 의한 반사 능에 가까운 반사 능을 최종 재료에 제공하는데 충분한 전기 전도성이 확보된다.

다층 간섭 구조를 가지는 광학 제제를 사용할 수 있다.

이와 같은 간섭 구조는, 구조를 이루고 있는 다수의 층에 의해 반사되는 광파 사이에서 파괴적인 효과를 내는 간섭 현상을 통해 빛을 필터링한다.

다층 구조는 가시 광선에서의 투과율이 큰 것으로 선택하는 것이 바람직한데, 이 구조는 가시 광선에서 발색되지 않도록 만듦으로써 원하는 투명도를 가지게 될 수 있다.

다층 구조에는 굴절률이 낮은 층과 높은 층이 번갈아 포함될 수 있다. 예를 들어, 굴절률이 높은 층과 낮은 층 사이의 굴절률 차는 0.1 이상, 바람직하게는, 0.15 이상, 더욱 바람직하게는 0.6 이상이다.

전술한 다층 구조 내 존재하는 층의 수는 2개 이상인 것이 바람직하고, 4개 또는 6개인 것이 더욱 바람직하며, 심지어는 12개 이상인 것이 더더욱 바람직한데, 이와 같은 층의 수는 입사광에 대한 감수성이 작고, 필요로 하는 선택성을 제공하는 구조를 용이하게 제조할 수 있도록 만들어 준다. 다층 구조는 임의로는 대칭형일 수 있으며, 적당한 경우, 광선에 대한 주면(principal face)이 어느 것인지에 상관없이 입사광을 필터링하여 구조물에 입사할 수 있도록 만들 수 있다.

굴절률이 큰 재료는 무기물 예를 들어, 예추석 또는 금홍석 형태의 이산화티탄, 산화철, 이산화지르코늄, 산화아연, 황화 아연, 옥시염화 비스무트, 및 이것들의 혼합물이거나, 또는 유기물 예를 들어, PEEK(폴리에테르에테르케톤), 폴리이미드, PVN(폴리(2-비닐나프탈렌)), PVK(폴리(N-비닐 카바졸)), PF(페놀포름알데히드 수지), PSU(폴리설폰 수지), PaMes(폴리(알파-메틸스티렌)), PVDC, (폴리(비닐리덴 클로라이드)), MeOS(폴리(4-메톡시스티렌)), PS(폴리스티렌), BPA, (비스페놀-A 폴리카보네이트), PC(폴리카보네이트 수지), PVB(폴리(비닐 벤조에이트)), PET(폴리(에틸렌테레프탈레이트)), PDAP(폴리(디알릴프탈레이트)), PPhMA(폴리(페닐메타크릴레이트)), SAN(스티렌/아크릴로니트릴 공중합체), HDPE(고밀도 폴리에틸렌), PVC(폴리(비닐 클로라이드)), 나일론^®, POM(폴리(옥시메틸렌) 또는 폴리포름알데히드), PMA(폴리(메틸 아크릴레이트)) 등과, 이것들의 혼합물일 수 있다.

굴절률이 낮은 재료는 예를 들어, 이산화실리콘, 플루오르화마그네슘, 산화알루미늄 및 이것들의 혼합물로부터 선택되는 무기물, 또는 예를 들어, 중합체 예를 들어, 폴리메틸 메타크릴레이트 또는 폴리스티렌, 폴리우레탄 및 이것들의 혼합물로부터 선택되는 유기물일 수 있다.

다층 구조에 포함되는 간섭 입자를 생산하기 위해서, 당업자는 특히, 박막 증착에 관하여 다루고 있는 다수의 문헌 예를 들어, 본원에 참고용으로 인용되어 있는 문헌["Overcoated Microspheres for Specific Optical Powers", Applied Optics, Vol.41, No 6, 01/06/2002] 및 특허[발명의 명칭: "FLEXPRODUCTS"]를 참고로 할 것이다.

광학 제제는 빛을 회절시키도록, 실질적으로 반복되는 표면 패턴을 포함하는 격자 형태를 띨 수 있는 회절 구조물 예를 들어, 하나 이상의 회절 격자를 포함할 수 있다.

무엇보다도, 격자 주기(grating period)와 깊이가 격자의 회절 특성을 결정한다. 회절 격자의 마크 공간 비율은 균일한 것으로 선택할 수 있다.

바람직하게, 하나 이상의 방향을 향하고 있는 회절 격자의 주기는 광학 보호 조성물에 배색 효과가 나타날 위험을 줄일 수 있도록 충분히 짧은 것이 유리하다. 이후, 격자 주기는 가시 광선 영역(구체적으로, 400∼780㎚)에 속하는 광선을 회절하지 않는 것으로 선택하는 것이 유리하다.

가시 광선 하에서 회절 차수가 생기지 않도록 하는데 사용되는 격자의 최대 주기는 다음과 같은 식에 의해 최소한 대략으로나마 추정할 수 있다:

상기 식 중, θ는 격자 단면에 대한 법선을 기준으로 측정한 입사각이고, Ψ는 투과각이며, Λ는 격자 주기이고, m은 회절 차수이며, n₁ 및 n₂는 각각 입사 및 투과시 매질의 굴절률이다. 초기 추정치에 대한 상기 n₁ 및 n₂는 1.5일 수 있다. θ가 0°일 경우, 최대 주기는 λ/n₁으로서 400/1.5 즉, 약 267㎚이다. 입사각에 제한되지 않을 때, 상기 주기는 상기 수치의 절반에 못 미친다. 그러므로, 격자 주기 270㎚ 이하인 것, 바람직하게는, 140㎚ 이하인 것을 선택하는 것이 바람직하다.

예를 들어, UVA 투과율의 최소치를 얻기 위해서 격자 깊이 d와 이의 주기 Λ를 연속 테스트를 통해 선택할 수 있다. 예를 들어, 그레이팅 솔버 디벨롭먼트 컴퍼니(GRATING SOLVER DEVELOPMENT COMPANY)로부터 시판중인 지솔버(GSOLVER) 소프트웨어를 사용하여, 격자 특징을 벡터적으로 연산할 수 있다.

회절 격자를 제조하는데 사용된 층 또는 다수의 층들을 임의로는 유기 또는 무기 기판상에 적층할 수 있는데, 여기서, 사용될 수 있는 기판을 사용하여, 추후 용해 처리를 수행할 수 있다.

그러므로, 격자 또는 격자들의 구조는, 다량의 재료에 에칭되거나, 또는 구형이나 층상인 유기 또는 무기 기판상에 재료를 적층한 후에 에칭될 수 있다.

배색 효과를 줄이기 위해서, 가시 광선 영역에 속하는 광선의 회절이 최소화되도록 에칭을 수행할 수 있다. 에칭의 주기성과 두께는 UV 광선을 감쇄시킴에 있어서 시스템의 효율을 결정한다.

간섭 필터 제제는 임의로는 평행이 아닌 방향으로 확장된 회절 격자 2개 예를 들어, 실질적으로 수직 방향으로 확장된 회절 격자 2개를 포함할 수도 있는데, 여기서, 격자는 특히, UV 하에서의 원 편 입사광의 흡광도를 증가시키고, 입사광 필터각의 스크리닝 성능의 의존성을 줄일 수 있다.

상기 2개의 회절 격자의 주기는 Λ₁ 및 Λ₂인데, 이것들은 실질적으로 동일하며; 특히, 상기 회절 격자 주기는 둘 다 270㎚ 이하, 바람직하게는 140㎚ 이하이다.

상기 2개의 회절 격자 표면에 요철이 형성되어 있을 때 이 회절 격자들의 깊이는 또한 실질적으로 동일할 수도 있으며, 여기서, 상기 요철 구조는 격자의 굴절률을 주기적으로 변동시킬 수 있다.

상기 격자의 주기는 일정하거나 가변적일 수 있으며, 깊이도 일정하거나 가변적일 수 있다. 격자는 직선 또는 곡선 배향으로 확장될 수 있다.

회절 격자는 굴절률이 상이한 층들이 포개져 있는 구조를 포함할 수 있다. 회절 격자는 최소한 부분적으로는 유전 재료로 제조될 수 있다.

격자 또는 격자들을 다양한 패턴으로 사용할 수 있다: 상기 패턴은 가로 방향으로 예를 들어, 직사각형 또는 삼각형의 요철 구조를 가질 수 있거나, 아니면 파도 모양의 기복 구조를 가질 수 있거나, 아니면 계단식 요철 구조를 가질 수도 있다.

격자 구조는 최소한 입자 주 표면의 일부, 바람직하게는, 입자 주 표면 2개에 형성될 수 있다.

격자 구조는 이 격자 또는 격자들을 덮는 비-회절층과 보호층을 포함할 수 있다.

간섭 효과를 나타내며 기판에 고정되지 않는 안료, 예를 들어, 액정[와커(Wacker) 사로부터 시판되는 헬리콘스(Helicones) HC], 그리고 간섭성 홀로그래프 플레이크[스펙트라트렉(Spectratrek) 사로부터 시판중인 스펙트라(Spectra) f/x 또는 지오메트릭 피그먼트(geometric pigment)]를 사용할 수 있다.

본 발명의 조성물은 UVA 및/또는 UVB 스크리닝용 간섭 성분 예를 들어, 주기 및/또는 깊이가 상이한 회절 격자를 가지는 입자의 혼합물을 포함할 수 있다.

입사광의 파장을 바꿀 수 있는 광학 제제

광학 보호 조성물은 형광 화합물을 포함할 수 있다.

"형광" 화합물이란 용어는, 자외선 스펙트럼, 가능하게는 가시 광선 스펙트럼에 속하는 광선을 흡수하고, 이때 흡수한 에너지를 스펙트럼 중 자외선 또는 가시 광선 영역에서 발광하는 장파장의 형광으로 변경하는 화합물을 의미한다.

상기 화합물은 투명하거나 무색일 수 있고, 가시 광선을 흡수하지는 않되 UV는 흡수하여, 흡수한 에너지를 장파장(예를 들어, 20㎚ 또는 바람직하게는 50㎚, 또는 더욱 바람직하게는 100㎚ 더 긴 파장)의 형광으로 바꾸고, 스펙트럼 중 가시 광선 영역에서 발광하는 광학 광택제일 수 있는데; 여기서, 상기 광택제에 의해 발생하는 색감은 오로지 파장이 400∼500㎚인 주요 청색 순수 형광(predominantly blue purely fluorescent light)으로만 나타날 수 있다.

상기 화합물은 용액 또는 입자의 형태를 가질 수 있다.

상기 형광 화합물은 다음의 화학식을 가지는 디케토피롤로피롤일 수 있다:

상기 식 중, R₁, R₂, R₃ 및 R₄는 각각 독립적으로 수소 원자; 할로겐 원자; C₆∼C₃₀아릴기; 하이드록실기; 시아노기; 니트로기; 설포기; 아미노기; 아실아미노기; 디(C₁∼C₆)알킬아미노기; 디하이드록시(C₁∼C₆)알킬아미노기; (C₁∼C₆)알킬하이드록시(C₁∼C₆)알킬아미노기; (C₁∼C₆)알콕시기; (C₁∼C₆)알콕시 카보닐기; (C₁∼C₆)카복시알콕시기; 피페리디노설포닐기; 피롤리디노기; (C₁∼C₆)알킬할로게노(C₁∼C₆)알킬아미노기; 벤조일(C₁∼C₆)알킬기; 비닐기; 포르밀기; 하이드록실, 선형, 분지형 또는 환형 C₁∼C₆알콕시, 그 자체가 하나 이상의 하이드록실, 아미노, C₁∼C₆알콕시기로 임의 치환되는, 1∼22개의 탄소 원자를 함유하는 선형, 분지형 또는 환형 알킬로부터 선택되는 하나 이상의 기로 치환될 수 있는 C₆∼C₃₀아릴 라디칼; 하이드록실, 아미노, 선형, 분지형 또는 환형 C₁∼C₆알콕시기, 임의 치환된 아릴, 카복실, 설포 기, 할로겐 원자로부터 선택되는 하나 이상의 기로 임의 치환되는, 1∼22개의 탄소 원자를 함유하는 선형, 분지형 또는 환형 알킬 라디칼[여기서, 상기 알킬 라디칼에는 이종 원자가 개입되어 있을 수 있음]을 나타낸다.

상기 형광 화합물은 다음의 화학식을 가지는 나프탈리미드일 수 있다:

상기 식 중,

R₁, R₂, R₃은 각각 독립적으로, 수소 원자; 할로겐 원자; C₆∼C₃₀아릴기; 하이드록실기; 시아노기; 니트로기; 설포기; 아미노기; 아실아미노기; 디(C₁∼C₆)알킬아미노기; 디하이드록시(C₁∼C₆)알킬아미노기; (C₁∼C₆)알킬하이드록시(C₁∼C₆)알킬아미노기; (C₁∼C₆)알콕시기; (C₁∼C₆)알콕시카보닐기; (C₁∼C₆)카복시알콕시기; 피페리디노설포닐기; 피롤리디노기; (C₁∼C₆)알킬할로게노(C₁∼C₆)알킬아미노기; 벤조일(C₁∼C₆)알킬기; 비닐기; 포르밀기; 하이드록실기, 선형, 분지형 또는 환형 C₁∼C₆알콕시, 그 자체가 하나 이상의 하이드록실, 아미노, C₁∼C₆알콕시기로 임의 치환되는, 1∼22개의 탄소 원자를 함유하는 선형, 분지형 또는 환형 알킬로부터 선택되는 하나 이상의 기로 임의 치환되는 C₆∼C₃₀아릴 라디칼; 하이드록실, 아미노, 선형, 분지형 또는 환형 C₁∼C₆알콕시, 임의 치환된 아릴, 카복시, 설포, 할로겐 원자로부터 선택되는 하나 이상의 기로 임의 치환되는, 1∼22개의 탄소 원자를 함유하는 선형, 분지형 또는 환형 알킬 라디칼[여기서, 상기 5개의 알킬 라디칼에는 이종 원자가 개입되어 있을 수 있음]을 나타내고; 상기 탄소 원자를 포함하는 치환기 R₁, R₂ 및 R₃은 함께 결합하여, 총 5∼30개의 결합과 1∼5개의 이종 원자를 포함하는 복소환, 또는 방향족이나 비 방향족 C₆∼C₃₀ 환을 형성할 수 있으며; 이와 같은 환은 임의로 축합할 수도 있고, 임의로 카보닐기가 삽입되어 있을 수도 있는데, 이 경우, 상기 환은 C₁∼C₄알킬기, (C₁∼C₄)알콕시(C₁∼C₄)알킬, 아미노, 디(C₁∼C₄)알킬아미노, 할로겐, 페닐, 카복시 및 트리(C₁∼C₄)알킬암모니오(C₁∼C₄)알킬로부터 선택되는 기들 중 하나 이상으로 치환되거나 치환되지 않는다.

상기 형광 화합물은 예를 들어, 다음과 같은 화학식을 가지는 스틸벤 유도체일 수 있다:

상기 식 중, R은 메틸 또는 에틸 라디칼을 나타내고; R'는 메틸 라디칼을 나타내며, X-는 염화물, 요드화물, 설페이트, 메토설페이트, 아세테이트, 퍼클로레이트 류 음이온을 나타낸다.

예로 들 수 있는 화합물로서 상기와 같은 부류의 화합물의 예로서는, 유비켐(UBICHEM)으로부터 시판되고 있는 광감작 염료 NK-557이 있는데, 이 경우, R은 에틸 라디칼을 나타내고, R'는 메틸 라디칼을 나타내며, X-는 요드화물을 나타낸다.

상기 형광 화합물은 예를 들어, 다음과 같은 화학식을 가지는 메틴 유도체:

또는

다음과 같은 화학식을 가지는 옥사진 또는 티아진 유도체:

일 수 있다.

뿐만 아니라, 디시아노피라진 유도체(니폰 페인트(Nippon Paint)사 제품), 나프토락탐, 아자락톤 유도체, 로다민 및 잔텐을 예로 들 수도 있다.

또한, 무기 안료(MgO, TiO₂, ZnO, Ca(OH)₂ 등) 또는 유기 안료(라텍스 등) 또는 코어 부나 표면에 상기 화합물을 포함하는 입자를 사용할 수도 있다.

본 발명의 형광 화합물은 또한, 형광 효과를 나타내고, 예를 들어, 소립자(양자 점이라고 칭함) 형태를 가지는 반도체 화합물일 수 있다.

양자 점은 광 여기 상태에서 파장 400∼700㎚인 광선을 발광할 수 있는 발광 반도체 나노 입자이다. 이와 같은 나노 입자는 예를 들어, 특허 US-A-6 225 198 또는 US-A-5 990 479에 개시된 방법과, 이 특허 문헌에 인용된 공보 및 문헌[Dabboussi B.O.외 다수 "(CdSe)ZnS core-shell quantum dots: synthesis and characterization of a size series of highly luminescent nanocrystallites" Journal of Physical Chemistry B, vol 101, 1997, pp 9463-9475, 및 Peng, Xiaogang외 다수, "Epitaxial Growth of Highly Luminescent CdSe/CdS Core/shell Nanocrystals with Photostability and Electronic Accessibility" Journal of the American Chemical Society, vol.119, No 30, pp 7019-7029]에 개시된 방법에 따라서 제조될 수 있다.

바람직한 형광 화합물로서는 예를 들어, 오렌지색 및 황색을 나타내는 것들이 있다.

바람직하게, 본 발명에서 광학 제제로 사용된 형광 화합물 또는 화합물들은 파장 500∼650㎚, 바람직하게는 550∼620㎚에서 최대 반사율을 갖는다.

형광 화합물의 예로서는 다음과 같은 군에 속하는 것들이 있다: 나프탈리미드; 양이온 또는 비-양이온 쿠마린; 잔테노-디퀴놀리진(예를 들어, 설포로다민); 아자잔텐; 나프토락탐; 아즈락톤; 옥사진; 티아진; 디옥사진; 아조계, 아조메틴계 또는 메틴계 형광 다중 양이온성 착색제(단독 사용 또는 혼합 사용).

더욱 구체적으로, 다음과 같은 것들을 예로 들 수 있다:

ㆍ다음과 같은 화학식을 가지며, 산도즈(SANDOZ)로부터 시판되고 있는 존느 브릴리언트 B6GL:

ㆍ다음과 같은 화학식을 가지며, 프로라보(PROLABO), 알드리치(ALDRICH) 또는 카를로 어바(CARLO ERBA)로부터 시판되고 있는 오라민 O(Auramine O) 즉, 베이직 옐로우 2(Basic Yellow 2):

본 발명에 사용된 형광 화합물은 아미노페닐 에테닐 아릴 화합물일 수 있는데, 여기서, 상기 아릴은 임의 치환되는 피리디늄, 또는 임의 치환되는 기타 양이온기 예를 들어, 이미디졸리늄일 수 있다.

예를 들어, 2-[2-(4-디알킬아미노)페닐 에테닐]-1-알킬피리디늄과 같은 형광 화합물을 사용할 수 있는데, 여기서, 상기 피리디늄 핵의 알킬 라디칼은 메틸 또는 에틸 라디칼을 나타내며; 상기 벤젠 고리의 알킬 라디칼은 메틸 라디칼을 나타낸다.

광학 제제는 동일한 분자 상에 몇 개의 형광 기를 포함할 수 있다. 그 예로서는 다음과 같은 이량체가 있다:

상기 식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 R₁ 및 R₂는 다음과 같을 수 있다:

ㆍ수소 원자;

ㆍ1∼10개, 바람직하게는, 1∼4개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼[여기서, 상기 알킬 라디칼은 임의로, 하나 이상의 이종 원자 및/또는 하나 이상의 이종 원자를 포함하는 기가 개입되며/되거나, 이것들로 치환되며/되거나 하나 이상의 할로겐 원자로 치환될 수도 있음];

ㆍ아릴 또는 아릴알킬 라디칼[여기서, 상기 아릴기는 6개의 탄소 원자를 함유하고, 알킬 라디칼은 1∼4개의 탄소 원자를 함유하며; 상기 아릴 라디칼은 1∼4개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼 하나 이상으로 임의 치환되거나, 임의로는 하나 이상의 이종 원자 및/또는 하나 이상의 이종 원자를 포함하는 기가 개입되며/되거나 이것들로 치환되고/되거나, 하나 이상의 할로겐 원자로 치환됨]을 나타내고;

ㆍ질소 원자를 포함하는 복소환을 형성하고 기타 이종 원자를 하나 이상 포함하도록 만들기 위해서, R₁ 및 R₂를 임의로 결합시킬 수 있는데, 여기서, 상기 복소환은 하나 이상의 선형 또는 분지형 알킬 라디칼, 바람직하게는, 1∼4개의 탄소 원자를 함유하고, 임의로는, 하나 이상의 이종 원자 및/또는 하나 이상의 이종 원자를 포함하는 기가 개입되어 있고/있거나 이것들로 치환되며/치환되거나, 하나 이상의 할로겐 원자로 치환되는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼 하나 이상으로 임의 치환되고;

ㆍR₁ 또는 R₂는 임의로는 질소 원자와, 이 질소 원자를 보유하는 페닐기의 탄소 원자 중 하나를 포함하는 복소환 내에 포함될 수도 있으며;

ㆍ임의로 동일할 수도 있는 R₃ 또는 R₄는 수소 원자, 또는 탄소 원자를 1∼4개 포함하는 알킬 라디칼을 나타내고;

ㆍ임의로 동일할 수도 있는 R₅ 부는 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 탄소 원자를 1∼4개 함유하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼로서, 임의로는 하나 이상의 이종 원자가 개입되어 있는 알킬 라디칼을 나타내며;

ㆍ임의로 동일할 수도 있는 R₆ 부는 수소 원자; 할로겐 원자; 탄소 원자를 1∼4개 함유하고, 임의로는, 하나 이상의 이종 원자 및/또는 하나 이상의 이종 원자를 포함하는 기로 치환되고/치환되거나 이것들이 개입되어 있고/있거나, 하나 이상의 할로겐 원자로 치환되는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼을 나타낸다.

X는

ㆍ임의로는, 하나 이상의 이종 원자 및/또는 하나 이상의 이종 원자를 포함하는 기가 개입되어 있고/개입되어 있거나 이것들로 치환되며/치환되거나, 하나 이상의 할로겐 원자로 치환되는, 1∼14개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼, 또는 2∼14개의 탄소 원자를 함유하는 알케닐 라디칼;

ㆍ하나 이상의 이종 원자로 임의 치환되는, 1∼14개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼 하나 이상; 하나 이상의 이종 원자로 임의 치환되는, 1∼4개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 아미노알킬 라디칼 하나 이상; 또는 하나 이상의 할로겐 원자로 임의 치환되는 복소환 라디칼로서, 5개 또는 6개의 결합을 포함하는 복소환 라디칼;

ㆍ임의로 축합될 수 있으며, 1∼4개의 탄소 원자를 함유하는 알킬 라디칼, 하나 이상의 할로겐 원자로 임의 치환되거나, 또는 하나 이상의 이종 원자 및/또는 하나 이상의 이종 원자를 보유하는 기에 의해 임의 치환되고/치환되거나 이것들이 개입되어 있는, 1∼10개의 탄소 원자를 함유하는 하나 이상의 알킬 라디칼로 임의 치환되는 아릴 라디칼 또는 라디칼들에 의해 분리되거나 분리되지 않을 수 있는 방향족 또는 이 방향족 라디칼;

ㆍ디카보닐 라디칼;

ㆍ하나 이상의 양이온 하전을 띌 수 있는 X기를 나타내고;

ㆍa는 0 또는 1이다.

임의로 동일할 수도 있는 Y-부는 유기 또는 무기 음이온을 나타내는데, 이 경우, n은 2 이상인 정수로서, 형광 화합물 중에 존재하는 양이온 전하 수와 같거나 이보다 작다.

기타 이량체 예를 들어, 결합 지점이 2개의 비-양이온 기 사이에 형성되어 있는 것, 또는 예를 들어, 피리디늄기가 다른 아릴 양이온기 예를 들어, 이미다졸리늄기로 치환된 것도 사용할 수 있다.

디시아노피라진 군은 또한 오렌지색 형광을 발광하는 것으로서 본 발명에 사용되는 화합물을 제공할 수도 있다.

오렌지색 형광을 발광하는 안료도 사용할 수 있다. 그 예로서는 썬케미컬(SunChemical) 사로부터 시판중인 밝은 오렌지색(yellow orange) 안료, 썬브라이트(Sunbrite)-SG2515가 있다.

광학 보호 조성물의 도포

사용자는 열 안정성 광 변색 조성물 층을 넓게 펴 바르거나, 또는 그 반대로, 국소 방식으로 특정 영역에만 펴 바르면서, 광 변색 조성물을 처리한 영역 전체에 광학 보호 조성물을 도포할 수 있다(도 12 참조). 도 12에서는, 열 안정성 광 변색 조성물 PC를 광학 보호 조성물인 PP로 완전히 덮어서 감광 메이크업을 표현하였다. 상기 광학 보호 조성물은 예를 들어, 열 안정성 광 변색 조성물이 코팅된 영역의 가장자리에만 도포되어, 감광 메이크업이 수행된 영역의 범위가 열 안정성 광 변색 조성물 층이 존재하는 범위보다 좁을 때 감광 메이크업 패턴 주위를 감쌀 수 있다.

광학 보호 조성물 층은 또한 케라틴 물질 예를 들어, 피부에 결합될 가요성 필름의 형태를 가질 수도 있다. 이 필름을 구성하는 물질은 광학 제제로서 작용을 할 수 있으며/있거나, 이 필름은 필름을 구성하는 물질 중에 분산된 광학 제제를 하나 이상 함유할 수 있다. 상기 필름은 또한 광학 제제를 함유하는 코팅을, 예를 들어, 전사 필름(impression) 또는 다층의 간섭 구조의 형태로 보유할 수도 있다.

사용자는 상기 필름을 열 안정성 광 변색 조성물 층 전체에 도포할 수 있거나, 또는 이 필름이 비 발색 영역만 덮고, 발색된 영역은 덮지 않도록 상기 필름을 절단할 수 있다.

감광 메이크업 콘텐츠 예를 들어, 윤곽선을 바탕으로 하여, 상기 보호 필름을 적당한 형태로 절단하는 자동 절단 시스템을 사용할 수 있다. 이후, 사용자는 상기 절단된 보호 필름을 비 발색 영역 위에 배치할 수 있다.

본 발명의 다른 구체예에서, 광학 보호 조성물은, 전사 즉, 하나 이상의 광학 제제를 보유하는 지지 시트를 본 발명의 조성물이 처리될 영역에 붙임으로써 적층된다. 사용자는 상기 시트를 열 안정성 광 변색 조성물로 코팅된 케라틴 물질과 접촉시킨다음, 마찰력이나 기타 수단 예를 들어, 열 또는 용매를 사용하여 상기 광학 제제 또는 제제들이 열 안정성 광 변색 조성물 층에 전사될 수 있도록 만든다.

본 발명의 하나의 구체예에서, 광학 보호 조성물 층은 원래대로 되돌릴 수 있는 것으로서, 즉, 사용자가 제1 열 안정성 광 변색 조성물 층을 제거하지 않고도 상기 광학 보호 조성물 층을 제거할 수 있다.

이러한 목적으로, 상기 제1 층은 방수성이거나 물과 계면 활성제의 혼합물에 견딜 수 있도록 제조될 수 있으며, 제2 층은 방수성이 아니거나 물과 계면 활성제의 혼합물에 견딜 수 없도록 제조될 수 있다.

또한, 박리 가능한 제2 층을 형성할 수도 있다. 이를 위해서, 제2 층을 상기 제1 층에 도포하기 전 또는 후에 이 제2 층을 사용하여 접착성 코팅을 형성할 수 있다. 상기 제2 층을 박리할 수 있을 때, 이 제2 층은 예를 들어, 탄성 중합체 재료를 포함한다.

본 발명의 하나의 구체예에서, 제2 층은 예를 들어, 실리콘이나 플루오르화 화합물과 같은 저 표면 장력 화합물을 포함하는 열 안정성 광 변색 조성물 때문에, 제1층에 대한 접착성이 떨어진다. 본 발명의 다른 구체예에서는, 중간 비 접착층이 상기 제1 층과 제2 층 사이에 삽입되는데, 이로써, 광학 보호 조성물 층을 용이하게 제거할 수 있다.

특히, 광학 보호 조성물 층이 원래대로 되돌릴 수 있는 것일 경우, 이 층의 스크리닝 파워 F는 매우 높을 수 있다(예를 들어, 20 이상).

광학 제제 또는 제제들을 함유하는 단일 층 또는 상이한 광학 제제를 몇 개 함유하는 몇몇 층을 적층할 수 있다.

예를 들어, 열 안정성 광 변색 층을 UV와 가시 광선으로부터 확실히 보호할 수 있는 단일 층을 적층할 수 있다.

또한, 특정 UV 보호층과, UV 및/또는 가시 광선으로부터 부가적으로 보호하는데 사용되는 부가 층을 적층할 수도 있는데, 여기서, 상기 부가 층은 예를 들어, 착색제 또는 열 불안정성 광 변색 제제를 포함한다.

뿐만 아니라, 형광 화합물을 포함하며, UV 하에서의 부가 보호 작용을 보장하는 부가 층과 하나의 UV 보호층을 사용할 수도 있다.

특히, 열 안정성 광 변색 조성물의 제1 층과, 열 안정성 광 변색 조성물에 있어서 발색 광선에 대해 스크린을 형성하는 광학 제제를 포함하는 제2 층(광학 보호층)을 포함하는 다층 필름을 도포할 수 있다. 이 필름은 독립적으로 존재하는 것일 수 있거나 전사에 의해 도포되는 것일 수 있다.

본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물은 케라틴 물질에 도포할 때와 같이 도포할 수 있거나, 아니면, 기저 층 구체적으로, 이하에 정의한 바와 같은 기저 층상에 존재할 수 있다.

전술한 바와 같이, 상기 제2 조성물은 열 안정성 광 변색 조성물 층 또는 2개의 광 변색 조성물 층 사이의 중간층에 직접 도포할 수 있다. 제2 조성물 자체는 적당한 경우 부가층으로 코팅될 수 있다.

다수의 층에 사용되는 성분의 선택

본 발명의 하나의 구체예에서, 연속적으로 도포된 2개의 층 예를 들어, 열 안정성 광 변색 조성물 층과 광학 보호 조성물 층, 또는 기저 층과 열 안정성 광 변색 조성물 층, 또는 열 안정성 광 변색 조성물 층과 감광 메이크업을 보호하는 재료를 형성하기 위한 층은 물리적으로 상보적이어서, 제2 층이 제1 층상에 접지력 있게 밀착될 수 있도록 하거나 이를 촉진하며/촉진하거나, 제2 층이 제1 층상에 펴 발라질 수 있도록 하거나 이를 촉진한다.

상보적인 이온 특성이 있는 것이 유리할 수 있다. 그러므로, 예를 들어, 제1 층은 음이온 중합체를 함유할 수 있으며, 제2 층은 양이온 화합물 예를 들어, 양이온 필터, 양이온 착색제 또는 양이온 형광 화합물을 함유한다. 이와 반대의 경우도 가능하다.

또한, 표면 장력이 상보적인 경우도 유리할 수 있다. 그러므로, 제1 층의 제1 표면 장력은 예를 들어, 하나 이상의 친수성 중합체를 포함할 경우, 바람직하게는 40mNm^-1[미터당 밀리 뉴톤] 이상일 수 있다. 제2 층의 제2 표면 장력은 제1 표면 장력보다 작을 수 있는데, 예를 들어, 주로 유질의 실리콘 또는 플루오르화 조성물을 포함하거나, 또는 하나 이상의 계면 활성제를 포함하는 수성 조성물을 포함할 경우, 상기 제2 표면 장력은 바람직하게는 40 미만일 수 있다.

제2 층에 포함된 성분(용매, 접착제 등)은 제1 층의 용매가 아닌 것으로 선택할 수 있다.

예를 들어, 유기 용매(에탄올, 아세톤, 알킬 아세테이트, 탄소계 오일(예를 들어, 이소도데칸), 휘발성 실리콘(예를 들어, D5 등))를 제1 층 용으로서 선택할 수 있으며, 수성 또는 하이드로알콜성 용매를 제2 층 용으로서 선택할 수 있거나, 아니면 이와 반대일 수 있다.

또한, 2개 층에 사용할 2개의 유기 용매 또는 2개의 수성 용매를 선택할 수도 있는데, 다만, 이 경우에는 제1 층을 건조할 때 변형이 일어나게 된다. 예를 들어, 라텍스를 함유하는 제1 층을 사용한다. 건조시, 라텍스는 응집되어 제2 층 도포시 제1 층이 비활성이 되도록 만든다. 뿐만 아니라, 휘발성 염기 예를 들어, 암모니아를 사용하여 중화시킴으로써, 수 용해성이 떨어지는 아크릴/아크릴레이트 공중합체를 수 용해성으로 만든 제1 층을 사용할 수도 있다. 제1 층을 건조한 후, 암모니아는 증발하므로 제1 층은 방수성이 될 것이다.

기저 층

광학 보호 제1 조성물을 포함하는 기저 층이 케라틴 물질에 도포될 수 있는데, 이 경우, 상기 기저 층은 최소한 일시적으로 파장 λ 특히, 320∼440㎚ 범위 내의 파장에서 스크린을 형성할 수 있는 광학 제제를 하나 이상 함유하고, 상기 기저 층에는, 파장 λ인 광선에 최소한 노출될 때 발색될 수 있는 제2 광 변색 조성물이 포함되어 있을 수 있는데; 이 경우, 광학 제제 또는 제제들은 상기한 것들로부터 선택될 수 있다.

예를 들어, 최소한 광학 보호 조성물을 도포할 때, 기저 층으로서 도포한 상기 광학 보호 조성물의 태양 광선에 대한 스크리닝 파워 F는 2 이상, 바람직하게는 5 또는 10이다.

기저 층을 이용하면 열 안정성 광 변색 조성물 중에 포함된 광 변색 제제 또는 제제들이 바로 밑에 존재하는 케라틴 물질로 이동하는 것이 더욱 어렵게 되어, 피부가 염색될 위험이 줄어들 수 있다.

이와 같은 이동 현상은, 제1 조성물과 제2 조성물이 서로 혼화되지 않을 때 더욱 늦춰지거나 심지어는 억제될 수도 있는데, 이 경우, 상을 2개 형성하기 위해서는 예를 들어, 상기 조성물 중 하나가 수성이면, 다른 하나는 비 수성이거나, 아니면 그 반대이어야 한다.

그러므로, 제2 조성물에 포함되는 성분(용매, 접착제 등)으로서, 열 안정성 광 변색 조성물에 대한 용매가 아닌 성분을 선택할 수 있으며, 또한 그 반대일 수도 있다. 예를 들어, 유기 용매는 알콜 또는 케톤 구체적으로, 에탄올 또는 아세톤, 알킬 아세테이트, 탄소계 오일 특히, 이소도데칸, 또는 휘발성 실리콘(제2 광학 보호 조성물 용) 및 수성 또는 하이드로알콜성 용매(제1 열 안정성 광 변색 조성물 용)로부터 선택되거나, 또는 그 반대이다.

뿐만 아니라, 2개의 조성물 용으로서 2개의 유기 용매 또는 2개의 수성 용매를 선택할 수도 있으므로, 건조시 변형이 일어나게 된다. 예를 들어, 라텍스를 함유하는 제1 조성물을 사용할 수 있다. 건조시, 이 조성물은 응집되어, 상기 층이 열 안정성 광 변색 조성물 도포에 비활성이 되도록 만든다.

기저 층은, 열 안정성 광 변색 조성물을 도포한 표면보다 더욱 넓은 표면상에 형성될 수 있다. 이로써, 사용자는 2개의 조성물을 도포한 영역의 윤곽선이 정확하게 상응하도록 만드느라 더 이상 애쓸 필요가 없으므로, 열 안정성 광 변색 조성물을 더욱 용이하게 도포할 수 있다.

열 안정성 광 변색 조성물이 UV 광선에 노출되어 발색되기에 적당한 것일 때, 이 기저 층에 포함된 광학 제제는, 광 안정성 지수(photostability index)가 80% 이하인 비-광 안정성 썬 스크린인 것이 바람직하다.

본 발명을 통해서 얻을 수 있는 한 가지 이점은, 기저 층이 존재하는 범위가 실질적으로 열 안정성 광 변색 조성물이 존재하는 범위보다 넓더라도, 기저 층이 피부에 도포될 때 사용자는 태닝 작용의 영향을 전혀 못 받는 것은 아니라는 점이다. 태양에 노출되는 동안, 상기 기저 층은 UV를 차단하는 기능을 상실할 수 있는데, 이로써, 사용자는 최소한 열 안정성 광 변색 조성물이 덮지 못하는 영역을 점진적으로 태울 수 있게 된다. 만일 썬 스크린이 광 안정성이면, 사용자는, 태닝 부위에 트레이스 마크(trace mark)가 남을지도 모른다는 염려로 인해 이 기저 층을 지나치게 넓게 도포하는 것을 꺼리게 될 것이다.

썬 스크린의 광 안정성을 측정하기 위하여, 상표명 핀솔브(FINSOLV)^®인 C₁₂∼C₁₅알킬 벤조에이트 용매 중에 희석한다. 스크린인 파솔(Parsol) 1789는, 광 안정성[썬 테스트(SUNTEST) 사로부터 입수한 조사기에 의해 조사되는 UVA 광선에 노출된 지 한 시간 경과 후의 스크리닝 파워를 초기 스크리닝 파워로 나눈 비율로서 정의함]이 30%인 비-광 안정성 스크린의 일례이다.

기저 층은 감광 메이크업을 수행하기 훨씬 전 예를 들어, 15분 이상 전에 도포할 수 있는데, 이로써, 전술한 바와 같이, 상기 기저 층이 건조되는 시간과, 이 기저층이 그 위에 도포된 층에서 불용성 또는 거의 불용성이 되는데 걸리는 시간을 확보하는 효과를 얻을 수 있다. 뿐만 아니라, 건조시, 상기 기저 층은 비교적 평탄한 표면을 형성하여, 두께가 균일한 열 안정성 광 변색 조성물 층이 용이하게 도포될 수 있도록 할 수 있다. 이에 따라서, 피부도 평탄하게 되므로, 제2 층은 더욱 얇아질 수 있고, 두께가 불균일하게 될 위험도 줄어들어, 발색 후 시각적 효과를 매력적으로 만들 수 있다.

필요하다면, 하나 이상의 중간층을 기저 층에 도포하여, 이 중간층이 열 안정성 광 변색 조성물과 기저 층 사이에 위치하도록 만들 수 있다.

이러한 중간층은 기저 층에 열 안정성 광 변색 조성물이 더 잘 머무르게 만들 수 있는 효과가 있거나, 이와는 반대로, 예를 들어, 메이크업 제거시 상기 열 안정성 광 변색 조성물이 용이하게 제거될 수 있도록 만든다. 상기 중간층은 중합체 또는 왁스 층일 수 있다.

특히, 상기 중간층은 열 안정성 광 변색 조성물을 발색시킬 때 파장 λ에서 스크린으로서 작용해야 하는 것은 아니다.

또한, 다른 조성물 층을 상기 기저 층 아래에 도포하면, 피부와의 접착성이 개선될 수도 있다. 그러므로, 기저 층을 피부와 직접 접촉시킬 필요가 없게 된다. 변형 예에서, 기저 층은 피부 또는 기타 케라틴 물질에 직접 도포된다.

감광 메이크업의 물리적 보호

하나 이상의 열 안정성 광 변색 조성물 층은 케라틴 물질에 도포할 수 있는데, 이 경우, 상기 열 안정성 광 변색 조성물 층은 제2 조성물 또는 부가된 에너지에 의해서 열 안정성 광 변색 조성물 층 내 감광 메이크업을 물리적으로 보호하는 재료를 형성할 수 있다.

또한, 상기 감광 메이크업이 물리적으로 보호되는 것을 보장해주는 재료를 형성할 수 있는, 열 안정성 광 변색 조성물 층에 하나 이상의 커버 층을 적층할 수도 있다.

감광 메이크업 외관은, 열 안정성 광 변색 조성물 층을 선택적으로 발색시켜 이 감광 메이크업에 물리적 보호 기능을 부여하는 재료를 형성하기 전 또는 후에 표현될 수 있다.

감광 메이크업의 물리적 보유력을 개선하면, 시간이 경과 함에 따라서, 생성된 이미지가 분해되는 것을 지연시킬 수 있으며, 이미지의 선명도가 사라지는 것이 늦춰진다. 뿐만 아니라, 감광 메이크업은 문지름(rubbing)과 움직임(movement)에 대한 감수성이 떨어지게 된다. 열 안정성 광 변색 조성물이 옷이나 신체 중 기타 부분에 묻을 위험성도 줄어든다.

그러므로, 내구성이 더욱 큰 감광 메이크업은 옷으로 덮어지는 영역 예를 들어, 등, 배, 가슴, 다리 또는 엉덩이와 같은 영역에 표현될 수도 있다.

이와 같은 재료는 용액 증발법 또는 중합 반응이나 가교 반응을 통해 제조될 수 있는데, 이 경우, 이러한 반응이 반드시 종결될 필요는 없다. 중합 및/또는 가교에 의한 표면 경화는 상기 보유력을 개선하기에 충분한 것으로 판명되었다.

감광 메이크업을 물리적으로 보호하는 재료는 투명한 것이 유리하다.

상기 재료가 열 안정성 광 변색 조성물 층을 덮을 때, 이 재료는 낮 동안 조금씩 마모됨으로써 감광 메이크업을 보호하는 역할을 하는 웨어 레이어(wear layer)를 형성한다.

상기 웨어 레이어가 열 안정성 광 변색 조성물 층을 덮을 때, 상기 재료는 또한, 부가적인 광학적 효과 예를 들어, 확대 효과(magnifying effect) 또는 배색 효과를 제공함으로써 이 감광 메이크업에 심미성을 제공할 수도 있다.

열 안정성 광 변색 조성물을 발색시킬 때 사용된 파장과 상이한 파장을 가지는 광선을 열 안정성 광 변색 조성물 층에 조사한 결과, 본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물이 감광 메이크업 소진 가능성을 제공할 때, 상기 재료는 원한다면 어떠한 방식으로든 감광 메이크업이 제거되는 것을 막지 않아도 이 재료의 메이크업 보유력을 개선할 수 있는데; 이를 위해서, 사용자는 메이크업을 완전히 제거하지 않아도 된다.

감광 메이크업을 물리적으로 보호하는 재료를 제조하기 위해서, 열 안정성 광 변색 조성물 및/또는 커버 층 내에 중합 가능 화합물 및/또는 가교 화합물을 포함할 수 있다.

본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물은 상기 재료를 생성하는데 사용되는 중합 가능 화합물 및/또는 가교 가능 화합물 전부를 함유할 수 있다. 임의로, 본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물을 발색시키는데 사용된 광선은 중합 및/또는 가교에 사용된다.

본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물은 또한 잠재적으로 중합 및/또는 가교할 수 있는 제1 제제를 함유할 수도 있다. 본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물 중에 포함된 광 변색 제제를 발색시킨 후 또는 발색시키기 전에, 제1 화합물과 화합하여 중합 또는 가교를 수행할 수 있는 제2 화합물을 도포한다. 광선 조사는 또한 중합 및/또는 가교를 진행시키는데에도 사용될 수 있다.

다른 구체예에서, 제2 조성물은 본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물을 도포하여 감광 메이크업 외관을 표현한 후에 도포한다.

커버 층은 광 변색 제제 또는 제제들을 발색시키는데에 사용되는 광선을 조사하기 전이나 조사한 후에 도포될 수 있다. 이 커버 층의 평균 두께는 2㎛[마이크로미터] 이상일 수 있고, 만일 상기 재료가 더 단단하거나 탄성이 더 강하면 5㎛ 이상일 수도 있고, 만일 상기 재료가 가지는 탄성의 연성 모듈러스(soft modulus)가 더 크면 10㎛ 이상인 것이 바람직하다.

케라틴 물질이 감광 메이크업을 포함하는 단일 층으로 덮여 있을 때, 이 단일층의 두께는 5㎛ 이상인 것이 바람직하며, 10㎛인 것이 더욱 바람직하다. 상기 두께는 1㎜ 미만인 것이 바람직하다.

본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물이 잠재적으로 가교될 수 있는 화합물 전부 또는 일부를 포함할 때, 제2 단계에서는, 제1 조성물을 건조하기 전이나 후에 가교를 진행시키거나 가교에 필수적인 제2 화합물을 도포할 수 있다. (임의의 용매를 증발시키고 난 후에 생성된) 제2 층의 두께는 제1 층 두께의 20% 이상인 것이 바람직하며, 제1 층 두께의 50% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 제2 층의 두께는 5㎛ 이상인 것이 바람직하다.

본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물이 잠재적으로 가교 가능한 화합물을 전혀 포함하지 않을 때, 제2 단계에서는, 가교를 형성하는 화합물을 함유하는 제2 조성물을 도포할 수 있다. (임의의 용매를 증발시키고 난 후에 생성된) 제2 층의 두께는 제1 층 두께의 10% 이상인 것이 바람직하고, 제1 층 두께의 30% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 제2 층의 두께는 5㎛ 이상이고, 바람직하게는 1㎜ 미만이다.

상기 재료를 생성할 수 있는 중합 및/또는 가교는 화학적인 반응이거나 물리적인 반응일 수 있다.

화학적 중합 및/또는 가교

"화학적 가교"란 용어는, 화합물이, 단독으로, 또는 이 화합물과 제2 화합물의 반응에 의하거나, 또는 조사 작용에 의하거나, 또는 에너지를 공급함으로써, 분자 간에 공유 화학 결합을 형성할 수 있는 경우를 의미하는 것이다. 이와 같은 화학적 가교에 의한 결과로 상기 화합물을 포함하는 재료의 응집력이 증가하게 된다.

상기 화합물은 간단한 분자일 수 있거나, 또는 몇 개의 분자를 화합한 결과물 예를 들어, 올리고머나 중합체일 수 있다. 상기 화합물은 하나 이상의 반응성 작용기를 보유할 수 있다.

바람직한 분자로서는 가교 후 고체 및/또는 탄성체인(변형 가능) 재료를 제공하는 분자가 있다.

화학 작용기는 동일한 성질을 가지는 다른 작용기와 반응할 수 있거나, 아니면 다른 화학 작용기와 반응할 수 있다.

동일한 성질을 가지는 다른 작용기와의 반응

이와 같은 작용기로서는 예를 들어, 에틸렌 작용기 특히, 아크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴레이트, 메타크릴산 또는 스티렌이 있다.

반응을 일으키기 위해서, 이러한 분자는 일반적으로 외부 활성화 인자를 필요로 하는데, 예를 들어, 빛, 열, 촉매의 사용, 또는 가능하게는 광 개시제의 작용 스펙트럼을 넓히기 위한 광 감작제 및 광 개시제를 병용하는 것을 필요로 한다. 광 중합 가능 조성물 및/또는 광 가교 조성물에 관하여는 예를 들어, 특허 CA-A-1 306 954 및 US-A-5 456 905에 개시되어 있다.

특허 EP-A-1 247 515에 개시되어 있는 에틸렌 작용기를 보유하는 중합체 화합물을 사용할 수 있다.

반응을 촉진하고, 임의의 외부 활성화 인자를 더 이상 공급하지 않아도 되도록 만들기 위해서, 전자 끄는 기에 의해 에틸렌 작용기를 활성화할 수 있다. 이는 에틸시아노아크릴레이트 단량체의 경우에 통상적으로 행하여지는 것으로서, 이 경우에는, 촉매 예를 들어, 물만이 존재하여도 반응이 일어날 수 있다.

에틸렌 작용기는 예를 들어, 전자 끄는 기에 의해서 중간 정도로 활성화될 수 있다. 이 경우의 이점은, 활성화 반응이 진행되기 위해서는 외부의 활성화 작용이 필요하고[이러한 사실은 반응의 개시와 수율을 제어할 때 중요함], 광 개시제는 필요하지 않다는 점이다. 광 개시제는 예를 들어, 시아노아크릴레이트 단량체 특히, 에스테르 작용기가 보유하고 있는 기가 2개 이상의 탄소, 가능하다면 4개 이상의 탄소를 연속으로 보유하고 있는 시아노아크릴레이트 단량체일 수 있다.

외부 활성화 인자 예를 들어, 빛을 필요로 하되, 광 개시제는 필요로 하지 않는 분자가 바람직하다. 그러므로, 광 이량체화에 의해 반응할 수 있는 분자 예를 들어, 특허 EP-A-1 572 139에 개시된 분자가 특히 바람직하며, 구체적으로는 다음과 같은 작용기들을 보유하는 분자가 바람직하다:

1) 스틸바졸리움:

[상기 식 중,

ㆍR은 수소 원자, 알킬 또는 하이드록시알킬 기를 나타내고;

ㆍR'는 수소 원자 또는 알킬기를 나타냄];

2) 스티릴아졸리움:

[상기 식 중,

A는 황 원자, 산소 원자 또는 NR' 또는 C(R')₂ 기를 나타내고, R 및 R'는 상기 정의한 바와 같음];

3) 칼콘;

4) (티오)신나메이트 및 (티오)신남아미드;

5) 말레이미드;

6) (티오)쿠마린;

7) 티민;

8) 우라실;

9) 부타디엔;

10) 안트라센;

11) 피리돈;

12) 피롤리지논;

13) 아크리디지늄 염;

14) 푸라논;

15) 페닐벤족사졸;

16) 스티릴피라진.

동일한 성질을 가지는 다른 작용기 상에서 수행된 반응은 에틸렌 작용기가 관여하는 반응에 한정되는 것은 아니다.

다음과 같이, 축합에 의해 반응할 수 있는 화합물도 바람직하다:

ㆍ실록산기 특히, 디알콕시- 또는 디하이드록시-실란 작용기, 트리알콕시- 또는 트리하이드록시-실란 작용기. 알킬트리알콕시실란 또는 디알킬트리알콕시실란 작용기 특히, 알킬알콕시실란 작용기를 보유하는 분자 예를 들어, 아미노트리에톡시실란 또는 아미노트리에톡시실란과 같은 분자, 또는 상기와 같은 작용기를 보유하는 분자를 사용할 수도 있으며, 여기서, 상기 알킬기는 아민과 같은 수용화 작용기(hydrosolubilizing function)를 보유한다. 실록산계 소 분자(단량체 또는 올리고머) 이외에도, 질량이 큰 화합물 특히, 특허 FR-A-2 910 315에 개시된 화합물을 사용할 수 있다:

ㆍ티타늄계 졸-겔

이와 같은 분자를 사용하여 반응의 개시와 수율을 제어할 수 있다.

산화에 의해 반응할 수 있는 화합물 예를 들어, 2개 이상의 하이드록실 작용기, 또는 하이드록실 작용기와 아민 작용기, 또는 하이드록실 작용기를 보유하는 방향족 화합물 예를 들어, 카테콜 또는 디하이드록시인돌도 바람직하다. 산화제는 공기 중에 존재하는 산소 또는 다른 산화제 예를 들어, 과산화수소일 수 있다.

다른 작용기와의 반응

이와 같은 조건 하에서 반응하는 분자는 2가지 유형의 상보성 작용기를 갖는다. 상기 조건이란, 작용기 FA를 보유하는 분자가, 이 작용기 FA와 반응할 수 있는 작용기 FB를 보유하는 분자와 접촉하게 되는 시스템일 수 있다.

상기 분자는 또한 동일한 구조에 작용기 FA 하나 이상과 작용기 FB 하나 이상을 보유하는 분자일 수도 있다.

상기 작용기 FA는 예를 들어, 다음과 같은 것들로부터 선택될 수 있다:

ㆍ에폭시드;

ㆍ아지리딘;

ㆍ비닐 및 활성화된 비닐, 특히, 아크릴로니트릴, 아크릴산 및 메타크릴산 에스테르;

ㆍ크로톤산 및 에스테르, 신남산 및 에스테르, 스티렌 및 유도체, 부타디엔;

ㆍ비닐 에테르, 비닐케톤, 말레산 에스테르, 비닐설폰, 말레이미드;

ㆍ카복실산 무수물, 염화물 및 에스테르;

ㆍ알데히드;

ㆍ아세탈, 헤미-아세탈;

ㆍ아미날, 헤미-아미날;

ㆍ케톤, 알파-하이드록시케톤, 알파-할로케톤;

ㆍ락톤, 티오락톤;

ㆍ이소시아네이트;

ㆍ티오시아네이트;

ㆍ이민;

ㆍ이미드, 특히, 숙신이미드, 글루티미드;

ㆍN-하이드록시숙신이미드 에스테르;

ㆍ이미데이트;

ㆍ티오설페이트;

ㆍ옥사진 및 옥사졸린;

ㆍ옥사지늄 및 옥사졸리늄;

ㆍC₁∼C₃₀알킬 또는 C₆∼C₃₀아릴 또는 화학식 RX[식 중, X는 I, Br, Cl임]인 아랄킬 할로겐화물;

ㆍ불포화 탄소계 또는 복소환 고리 할로겐화물, 특히, 클로로트리아진;

ㆍ클로로피리미딘, 클로로퀴녹살린, 클로로벤조트리아졸;

ㆍ설포닐 할로겐화물: RSO₂-Cl 또는 -F[식 중, R은 C₁∼C₃₀알킬임].

실례로서, 다음과 같이 FA기를 가지는 작용기를 보유하는 분자들을 예로 들 수 있다:

ㆍ메틸비닐 에테르 및 말레산 무수물 공중합체, 특히, 예를 들어, ISP 사에 의해 상표명 간트레즈(Gantrez)로서 시판되고 있는 것;

ㆍ글리시딜 폴리메타크릴레이트, 특히, 폴리사이언시스(Polysciences) 사에 의해 시판되고 있는 것;

ㆍ글리시딜 폴리디메틸실록산, 특히, 시네츠(Shinetsu) 사에 의해 시판되고 있는 것(제품명: X-2Z-173 FX 또는 DX);

ㆍ에폭시 폴리아미도아민 예를 들어, 허큘레스(Hercules) 사에 의해 상표명 델세트(Delsette) 101로 시판되고 있는 것, 허큘레스 사에 의해 상표명 카이멘(Kymene) 450으로 시판되고 있는 것;

ㆍ에폭시-덱스트란; 및

ㆍNaIO₄를 사용하여 다당류를 산화함으로써 생성된 폴리알데히드 다당류[Bioconjugate Techniques; Hermanson GT, Academic Press, 1996].

작용기 FB는 XHn 작용기[식 중, X는 O, N, S, COO이고, n은 1 또는 2임] 특히, 알코올, 아민, 티올 및 카복실산으로부터 선택될 수 있다.

FB류 작용기를 보유하는 분자의 예로서는 다음과 같은 것들이 있다:

ㆍPAMAM 덴드리머 특히, 덴드리테크(Dendritech), DSM, 시그마-알드리치(Sigma-Aldrich) 사로부터 시판되고 있는 것[스타버스트 파맘 덴드리머(STARBURST PAMAM DENDRIMER), 덴드리테크의 G(2, O)];

ㆍ하이드록실 작용기를 가지는 덴드리머, 특히, 퍼스토프(Perstorp) DSM으로부터 시판되고 있는 것[예를 들어, HBP TMP 코어 2세대 퍼스토프];

ㆍPEI(폴리에틸렌-이민) 특히, 바스프 사에 의해 상표명 루파솔(Lupasol)로 시판되고 있는 것;

ㆍPEI-티올;

ㆍ폴리리신 특히, 시쏘(Chisso) 사로부터 시판되고 있는 것;

ㆍHP 셀룰로즈 예를 들어, 아쿠아론(AQUALON) 사로부터 시판되고 있는 클루셀레프(KLUCELEF);

ㆍ아미노-덱스트란 예를 들어, 카보머(Carbomer) 사로부터 시판되고 있는 것;

ㆍ아미노-셀룰로즈 예를 들어, WO 01/25283에 개시되어 있는 바와 같이, 바스프 사로부터 시판되고 있는 것;

ㆍPVA(폴리비닐아세탈) 예를 들어, 에어프로덕츠 케미칼(AIRPRODUCTS CHEMICAL) 사로부터 시판되고 있는 에어볼(AIRVOL) 540;

ㆍ아미노 PVA 예를 들어, 카보머 사로부터 시판되고 있는 것; 그리고

ㆍ키토산.

두 번째 경우도 하이드로실릴화에 의해 반응할 수 있는 분자를 포함한다:

[상기 식 중, W는 예를 들어, 탄소계 사슬 또는 실리콘-함유 사슬을 나타냄]

2가지 성분, 시판되고 있는 분자, 촉매 작용 조건과 사용 조건에 관한 상세한 설명은 특허 출원 FR-A-2 910 315에 개시되어 있다.

하나의 특정 구체예에서는, 이미 피부에 존재하거나 피부에 의해 배출된 분자를 시약 또는 촉매 제제로서 사용한다. 상기 시약 또는 촉매 제제는 통상적으로, 예를 들어, 시아노아크릴레이트 반응 또는 실록산이 관여하는 임의의 반응에서 보조 작용을 할 수 있는 물이다.

다른 특정 구체예에서, 분자는 주위 공기 중에 존재하는 시약 또는 촉매 제제로서 사용된다. 통상적으로, 상기 시약 또는 촉매 제제는 임의의 오일 예를 들어, 시카티브 오일 특히, 시카티브 식물성 오일 예를 들어, 아마인 오일, 오동 오일(또는 동유), 오이티시카 오일, 버노니아 오일, 양귀비씨 오일, 석류 오일, 칼렌듈라 오일 또는 알키드 수지의 가교 반응에 관여하는 산소이다. 이와 같은 반응들은 촉매 예를 들어, 옥토에이트, 리놀레이트 또는 옥타노에이트 형태의, 코발트, 망간, 칼슘, 지르코늄, 아연, 스트론튬, 납, 리튬, 철, 세륨, 바륨, 또는 주석 염을 사용함으로써 촉진될 수 있다.

기타 특정 구체예에서, 재배열 과정에 의해 상호 결합하는 분자를 사용할 수 있다. 그러므로, 내부 이 황화물을 보유하는 분자를 사용할 수 있다. 내부 이 황화물을 개방하여 이것들을 반응시킴으로써, 상기 분자들 간에 신규의 공유 결합을 형성할 수 있다.

촉매는 반응을 촉진하는데 사용될 수 있다. 예를 들어, 금속염 예를 들어, 망간, 구리, 철, 백금 염, 티탄산염 또는 효소 예를 들어, 산화 효소나 라카아제를 사용할 수 있다.

동일하거나 상이한 성질을 가지는 다른 작용기와 반응하는 화학 작용기를 이용하여, 몇 가지 유형의 도포를 수행할 수 있다.

예를 들어, 반응하는 성분들 전부가 본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물 중에 포함되거나, 또는 하나 이상의 화합물 예를 들어, 화합물 중 하나, 또는 촉매를 제외한 성분들 전부가 상기 열 안정성 광 변색 조성물 중에 포함된다. 본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물에는 상기 성분들 중 어느 것도 포함되지 않을 수도 있으며: 상기 성분들 모두는, 열 안정성 광 변색 조성물을 도포한 후, 바람직하게는 감광 메이크업 외관이 표현된 이후에, 동시에 또는 상이한 시점에 도포한다.

물리적 가교

분자 간에 지속적인 물리 결합을 형성하고, 최종 생성 재료에 방수성을 부여할 수 있는 성분이 사용될 때의 가교는 물리적 가교일 수 있다. 이와 같은 결합은 비 공유 결합으로서, 이온 결합 또는 수소 결합이 있다.

예로 들 수 있는 구체예로서는 2가 또는 다가 류의 염 예를 들어, 칼슘, 아연, 스트론튬 또는 알루미늄 염과의 혼합물이 있다.

예를 들어, 화합물 A 예를 들어, 알기네이트 유도체 및 화합물 B 예를 들어, 칼슘 염을 혼합할 수 있다. 예를 들어, 상기 알기네이트 유도체는 본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물 중에 포함된다. 제2 단계에서, 염화칼슘 수용액은 가교를 진행시키기 위해서 예를 들어, 분사 형태로 도포한다.

강한 수소 결합을 형성할 수 있는 분자 예를 들어, 폴리실록산 및 폴리우레아 블록 공중합체 특히, 다음과 같은 화학식을 가지는 것도 예로 들 수 있다:

상기 식 중,

ㆍR은 하나 이상의 플루오르 또는 염소 원자로 치환될 수 있는, 1∼20개의 탄소 원자를 함유하는 1가 탄화수소 라디칼을 나타내고;

ㆍX는 1∼20개의 탄소 원자를 함유하는 알킬렌 라디칼을 나타내며[여기서, 이웃하고 있지 않은 메틸렌 단위는 -O- 라디칼로 치환될 수 있음];

ㆍA는 산소 원자 또는 아미노 라디칼 -NR'-을 나타내고;

ㆍZ는 산소 원자 또는 아미노 라디칼 -NR'-을 나타내며;

ㆍR'는 수소 또는 1∼10개의 탄소 원자를 함유하는 알킬 라디칼을 나타내고;

ㆍY는 1∼20개의 탄소 원자를 함유하고, 필요에 따라서 플루오르 또는 염소로 치환되는 2가의 탄화수소 라디칼을 나타내며;

ㆍD는 1∼700개의 탄소 원자를 함유하며, 필요에 따라서 플루오르, 염소, C₁∼C₆알킬 또는 C₁∼C₆알킬 에스테르로 치환되는 알킬렌 라디칼을 나타내고[여기서, 이웃하고 있지 않은 메틸렌 단위는 -O-, -COO-, -OCO- 또는 -OCOO- 라디칼로 치환될 수 있음];

ㆍn은 1∼4000의 수이며;

ㆍa는 1 이상의 수이고;

ㆍb는 0∼40의 수이며;

ㆍc는 0∼30의 수이고;

ㆍd는 0 이상의 수이다.

작용기, 시판되고 있는 분자, 그리고 반응 진행 조건에 관한 상세한 설명은 특허 EP-A-0 759 812에 개시되어 있다.

특히 내구성인 코팅을 형성하는 가교 화합물

가교가 화학적 가교인지 물리적 가교인지 여부와는 상관없이, 가교 화합물은 특히, 수분과 습기에 대해 최고의 내구성을 가지는 것으로 선택할 수 있다.

그러므로, 소수성이 큰 코팅을 형성할 수 있는데, 이 코팅은 특히, 습기를 배출하는 신체의 부분 예를 들어, 가슴이나 겨드랑이에 처리할 수 있다.

예를 들어, 폴리올 류의 제1 반응성 성분 FA 예를 들어, 셀룰로즈 유도체와, 퍼플루오로알킬트리에톡시실란 류의 제2 반응성 성분 FB를 사용할 수 있다. 이러한 조건 하에서, 도포는 2단계로 수행된다. 상기 폴리올은 열 안정성 광 변색 조성물에 혼합된다. 성분 FB를 함유하는 코팅 조성물은 본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물에 도포된다.

다른 구체예에서, 가교 코팅을 형성할 수 있는 시스템이 사용되는데; 이 시스템은 소수성 입자도 함유한다. 이와 같은 조합의 예로서는, 축합 기술 또는 하이드로실릴화 기술 예를 들어, 특허 FR-A-2 910 315에 개시된 기술과 소수성 입자의 조합이 있다. 사용할 수 있는 고체 입자는 무기 또는 유기 공급원으로부터 유래하는 것으로서, 다공성 또는 비 다공성, 착색 또는 착색되지 않은 것일 수 있다. 이와 같은 입자는 임의의 형태를 가질 수 있는데, 바람직하게는, 구형일 수 있다. 상기 입자가 예를 들어, PTFE 분말일 경우, 이 입자는 원래부터 소수성일 수 있거나, 또는 이 입자는 특히, 탄화수소, 실리콘, 플루오르화 화합물 또는 플루오로실리콘 코팅을 통하여 소수성이 될 수 있다.

또한, 피지 및 지방에 대한 내성을 개선해주며, 예를 들어, 산화물 또는 아연 염을 주성분으로 하는 코팅, 또는 연신이나 인열에 대한 내성을 개선하는 코팅을 형성할 수도 있다. 이와 같이 개선된 성질들은 가장 많이 움직이는 신체 일부 예를 들어, 입술, 손, 겨드랑이, 목 또는 관절과 가까운 임의의 영역을 대상으로 도포를 수행할 경우 유리할 수 있다.

연신 강도는 예를 들어, 탄성을 가지는 재료를 생산하는 가교 성분을 사용함으로써 습득될 수 있다. 또한, 비 반응성 화합물을 조성물 또는 조성물들에 혼합하여, 탄성을 가지는 재료 예를 들어, 탄성 중합체 예를 들어, 단백 제거 천연 라텍스 또는 섬유를 제공할 수도 있다.

하나의 특정 구체예로서는 가교 성분을 직물 또는 부 직물에 담지하는 것이 있다. 상기 직물 또는 부직물은 감광 메이크업 조성물을 도포하기 전, 도포하는 도중 또는 도포한 후에 피부에 부착할 수 있다. 상기 조성물을 직물에 담지하면, 기계적 강도도 얻을 수 있다.

뿐만 아니라, 상기 직물과 감광 메이크업 조성물을 배합하여 제품을 생산하고 나서, 이를 접착제를 사용하거나 사용하지 않고 피부에 부착할 수도 있다.

윤활 활성을 가지는 성분 특히, 고체 윤활제 예를 들어, 질화붕소 또는 알루미늄을 본 발명의 조성물에 혼합할 수 있다.

또한, 고체 충전제 특히, 친수성이거나 친수성으로 만들어주는 충전제 예를 들어, 금속 산화물 입자, 금속 수산화물 입자, 금속 탄산염 입자 또는 유기 입자를 혼합할 수도 있다. 이와 같은 충전제는 부가의 내마모성을 제공할 수 있다.

웨어 레이어를 형성하는 커버 층

코팅층은 본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물 층 위에 물리적 보호 재료를 형성하여 웨어 레이어로서 작용할 수 있다.

상기 코팅층은 이후 임의의 용매를 증발시킨 후에 응집성을 가지게 되는 것이 유리하며, 이 층은 조사 전 또는 후에 도포될 수 있다.

"응집성을 가지는(cohesive)"이란 용어는, 층이 접촉에 내구성을 갖는다는 의미이다. 예를 들어, 만일 표면적이 1㎠[제곱 센티미터]인 편평한 프로브를 이 코팅층으로 가져가서 10N/㎠[제곱 센티미터 당 뉴톤]의 압력으로 접촉시킨 후, 5초간의 접촉 시간 경과시 상기 프로브를 견인하였을 때, 어떠한 물질도 상기 프로브에 딸려가지 않아야 한다. 그러므로, 유질의 화합물은 배제한다.

코팅층으로부터 용매를 증발시키면, 이 코팅층은 점착성을 갖지 않게 된다. "점착성을 갖지 않는다"라는 용어는, 이 층이 견인에 대한 내구성을 제공하지 않는다는 의미이다. 예를 들어, 만일 표면적이 1㎠인 편평한 프로브를 이 층으로 가져가서, 10N/㎠의 압력으로 접촉시킨 후, 5초간의 접촉 시간 경과시 상기 프로브를 견인하였을 때, 이 프로브는 이러한 견인 현상을 일으킴에 있어서 내구성이 없어야 한다. 그러므로, PSA(감압 접착제)라고 알려진 화합물은 배제한다.

상기 코팅층을 형성하는 재료는 탄성 모듈러스가 500MPa[메가파스칼] 미만일 수 있으며, 100kPa[킬로파스칼] 이상일 수도 있고, 바람직하게는 200∼1MPa일 수도 있다.

상기 코팅층의 평균 두께는 1㎛ 이상이며, 가능하다면, 상기 재료의 탄성 모듈러스가 10MPa 이상일 경우 평균 두께는 2㎛ 이상일 수도 있다. 상기 코팅층의 평균 두께는 2㎛ 이상이며, 가능하다면, 상기 재료의 탄성 모듈러스가 10MPa 미만일 경우 평균 두깨는 5㎛ 이상일 수도 있다.

코팅층을 형성하는 재료가 탄성 중합체일 때, 즉, 이 재료가 파열되기 전 최대 변형률이 400% 이상이고, 1분 동안 대기한 후의 탄성 회복율이 90% 이상일 때, 심지어 탄성 모듈러스가 10MPa 미만인 경우에도, 평균 두께는 1㎛ 이상인 것이 바람직하다.

"탄성 회복율"이라는 용어는, 40% 인장 변형 후 부하를 제거하였을 때 표본의 처음 길이로 되돌아가는 정도를 의미한다. 그러므로, 만일 표본의 처음 길이가 L0이고, 40% 인장 변형 후 부하를 제거하였을 때의 길이가 L(t)이면, 시간 t일 때 부하 제거로 인한 회복율 R(t)은 다음과 같이 계산한다:

100×(1-L(t)-L0)/L0)/0.4)

그러므로, 만일 L(t)가 L0이면, R(t)는 100이다.

만일 L(t)가 1.4×L0이면, R(t)는 0이다.

회복 테스트는, 맨 처음, 두께가 200㎛이고, 길이가 6㎝이며, 폭이 1㎝인 표본을 마련하는 것으로부터 시작된다. 필요에 따라서, 상기 표본은 임의로는 지지 필름상에 제조되는데; 이 경우, 상기 표본의 물리적 충격량은 표본의 여타 물리적 특성과 비교하였을 때 작은 것으로 판단된다.

상기 표본을 대상으로 하여 그 자체 길이의 40%를 0.1㎜/s[초당 밀리미터]의 비율로 인장 변형시킨다. 그 다음, 하중을 제거한 후 1분 동안 방치한다.

바람직하게, 코팅층은, 열 안정성 광 변색 조성물 층에 사용되는 용매와는 전혀 다른 용매와 함께 도포한다. 그러나, 이러한 조건에 변화를 줄 수 있는데, 특히, 열 안정성 광 변색 조성물 층 용 가교 화합물 또는 융합 화합물을 사용할 때 그러하다.

예를 들어, 만일 열 안정성 광 변색 조성물 층이 유리 전이 온도 Tg가 40℃를 초과하는 라텍스와 물을 함유하면, 이 코팅층은 또한 수계 코팅층일 수도 있다.

만일 본 발명의 열 안정성 광 변색 조성물 층이 용매 및 가교할 수 있는 화합물 예를 들어, 상기한 바와 같은 화합물을 함유하면, 상기 코팅층은 동일한 용매를 함유할 수 있다.

코팅층을 적당하게 형성하는 것을 돕기 위해서, 이 코팅층을 도포하기 전에 예를 들어, 빛이나 열을 가할 수 있다. 뿐만 아니라, 예를 들어, 접착을 보조하는 수지 또는 임의의 기타 제품 예를 들어, 접착제나 임의의 분말 특히, 입도로 인해 상층을 용이하게 쥘 수 있게 해주는 제품으로 제조된 중간층을 적층할 수도 있다.

코팅층을 도포한 후, 빛이나 열을 가할 수 있다.

코팅층은 서서히 제거할 수 있다. 그러므로, 감광 메이크업 층은 시간이 경과하여도 변성되지 않으며, 감광 메이크업의 정확성도 온전히 유지된다.

웨어 레이어를 형성하는 코팅층 내 성분

상기 코팅층을 제조하는데 사용될 수 있는 화합물로서는 중합체 예를 들어, 폴리(메트-)아크릴산, 폴리(메트-)아크릴레이트, 폴리우레탄, 폴리에스테르, 폴리스티렌 또는 가용형 또는 분산형 공중합체 예를 들어, 멕소머(Mexomer), 울트라홀드 스트롱(Ultrahold Strong) DR 25, 28-29-30, 간트레즈(Gantrez), 애머홀드(Amerhold) DR 25, 앰포머(Amphomer), 루비셋(Luviset) Si Pur, AQ 38 또는 AQ 48로부터 선택되는 것이 있다.

상기 중합체는 자체의 경도를 조정하기 위해 측 기 또는 말단 기를 보유할 수 있다. 예를 들어, 코팅층을 형성하는 재료는 실리콘 작용기를 보유하는 아크릴레이트 중합체 예를 들어, VS80을 포함할 수 있다.

상기 중합체는 천연 중합체 또는 개질된 천연 중합체 예를 들어, 폴리오즈 중합체(polyosic polymer) 예를 들어, 구아 검, 카로우바 검, 또는 셀룰로즈 유도체 예를 들어, HPMCP [하이드록시프로필메틸셀룰로즈 프탈레이트] 또는 단백질일 수 있다.

상기 중합체는 탄화수소 중합체일 수 있다.

상기 중합체는 실리콘 예를 들어, 실리콘 검일 수 있다.

다수의 중합체가 원래 가지고 있는 성질은 항상 필요한 만큼의 경도를 갖도록 해 줄 수 있는 것은 아니므로, 가소제를 첨가하는 것이 유용할 수 있다.

일반적으로 사용되는 가소제 이외에, 예를 들어, 글리콜 에테르 (트리프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르(PPG3 메틸 에테르로서 알려짐; 다우 케미컬(DOW CHEMICAL)) 또는 글리세린, 임의의 비 휘발성 용매 예를 들어, 프로필렌 카보네이트, 알코올, 실리콘 또는 탄소계 오일을 포함할 수도 있다.

가소제의 양은 중합체 및 이 중합체가 원래 가지고 있는 성질에 따라서 다르게 계산한다. 통상의 수치는 다음과 같다(중합체 중량을 기준으로 한 백분율(%)):

	글리콜 에테르(%)	글리세린(%)
울트라홀드 스트롱 DR25(BASF)	5	10
멕소머(키멕스(Chimex))	4	8
AQ 48(이스트만 케미컬스)	1	2
루비셋 Si Pur(BASF)	3	5
VS 80(3M)	5	10

무기 또는 유기 입자는 본 발명의 조성물에 포함되어, 웨어 레이어의 성질을 잃게 만들지 않고 이 웨어 레이어의 수명을 연장할 수 있다. 입자는 피부를 당기지는 않지만, 플레이킹(flaking) 또는 볼링(balling) 현상을 일으킬 수 있다. 그러므로, 입자의 중량부 농도는 40%를 초과하지 않는 것이 바람직하다[응집할 수 있는 입자는 포함하지 않음].

도포를 용이하게 만드는 유동제를 포함할 수 있다.

또한, 전착제(spreading agent) 예를 들어, 비등점이 80∼200℃인 임의의 용매 또는 계면 활성제를 포함할 수도 있다. 이와 같은 용매는 시간이 경과 함에 따라서 본 발명의 조성물이 소멸될 때 이 조성물의 케이킹(caking)을 늦춘다는 이점을 갖는다.

건조 후 농도 및 두께

도포한 양을 고려하였을 때, 건조 후 두께가 전술한 바와 같아지도록 다수 성분의 농도를 조정할 수 있다.

예를 들어, 유체 조성물이 20㎎/㎠로 도포되어 펴 발라지고, 이 조성물이 건조 물질을 10%만큼 함유한다고 가정하면, 약 2㎎/㎠만큼 적층할 수 있다. 만일 밀도가 약 1이면, 두께는 약 20㎛에 해당한다.

다른 구체예에서, 만일 20%의 건조 물질을 포함하는 에어로졸 조성물을 얼굴에서 30㎝ 떨어진 위치에서 4초 동안 살포한다고 가정하면, 약 0.4g[그램]이 400㎠에 적층되는 것이다[즉, 1㎠당 1㎎]. 만일 상대 밀도가 약 1이면, 적층된 층의 두께는 약 10㎛일 것이다.

그러므로, 도포 방식과 갈레누스 형태에 따라서, 건조 물질의 농도는 1∼50%일 수 있다.

코팅 조성물은 건조될 수 있다.

기타 성분

전술한 성분들 이외에도, 각각의 조성물은 다음과 같은 성질들을 실현 가능하게 하거나 좀 더 용이하게 실현할 수 있도록 해주는 성분을 포함할 수 있다: 케라틴 물질 더욱 구체적으로, 피부에 분포하는 성질; 피부를 보호하거나 편안하게 하는 성질(예를 들어, 향 또는 소프너(Softner)); 세정시 용이하게 제거되게 해주는 성질(예를 들어, 하나 이상의 계면 활성제); 피부에 성분들이 침투하는 것을 제한하는 성질(예를 들어, 수렴제); 또는 기타 화장 기능(예를 들어, 보습, 색, 윤기)을 제공하고/제공하거나 자외선 스크리닝 영향력을 차단하는 성질(예를 들어, 자가-태닝 제제(self-tanning agent) 또는 비타민 D 활성화제).

메이크업 제거

메이크업을 제거할 때, 소진되지 않은 비 발색 열 안정성 광 변색 조성물이 미량 남을 수도 있다. 그러나, 이러한 미량의 조성물은 추후(예를 들어, 환경 광이 비추는 환경 하에서 수 시간 경과 후) 발색될 수 있다. 이러한 경우, 사용자가 메이크업을 다시 제거하기란 쉽지 않은 일일 수 있다.

이와 같은 문제점을 해결하기 위해서, 메이크업을 제거할 때 또는 제거한 후, 하나 이상의 파장 λ에서 스크린을 형성하고 열 안정성 광 변색 조성물을 발색시키는 역할을 하는 광학 제제 하나 이상을 도포하는 것이 유리할 수 있다.

적당한 경우, 상기 광학 제제는 수 회 다시 도포할 수 있다.

상기 광학 제제는 메이크업 제거용 조성물을 이루는 성분들 중 하나일 수 있다.

"파장 λ에서 스크린을 형성한다"라는 용어는, 광학 제제가 파장 λ인 광선을 팩터 2 이상만큼 감쇄시킨다는 의미로서, 이는 전술한 바와 같이, 파장 λ 부근에 파장이 몰려있는 조사 광선을 특정 영역에 한정함으로써 흡수 스펙트럼을 측정할 수 있는 장치를 이용하여 측정할 수 있다. 메이크업을 제거할 때, 바람직하게는 제거한 후, 광학 제제를 도포하면, 미량의 광 변색 제제가 발색하는 것을 막아주어, 케라틴 물질 또는 의복이 오염될 위험이 줄어든다.

케라틴 물질은 광학 제제를 도포한 후 일정 시간 동안 세정되어서는 안 된다. 이후, 사용자가 세정할 때, 이 광학 제제에 의해서 보호된 미량의 비 발색 광 변색 제제가 제거될 수 있다.

광학 제제를 도포하는 것과 관련된 다른 이점으로서는, 감광 메이크업 외관을 새로 표현하였을 때, 여전히 남아있는 선행 감광 메이크업의 임의의 비 발색 성분들이, 상기 새로이 연출한 메이크업 외관을 표현할 때 사용된 광선에 노출될 경우 발색되는 것을 막을 수 있다는 점이다.

광학 제제는 메이크업을 제거한 후에 도포될 수 있다. 광학 제제는 또한 메이크업 제거에 사용되는 메이크업 제거용 조성물 제제의 한 성분을 이룰 수도 있다.

파장 λ는 UV 또는 근 UV 스펙트럼(290∼400㎚) 특히, 320∼440㎚에 속할 수 있다.

메이크업 제거용 조성물은 열 안정성 광 변색 조성물을 구성하는 화합물에 맞춘 특정 메이크업 제거용 제품 또는 계면 활성제를 주성분으로 하는 종래의 메이크업 제거 제품일 수 있으며, 또한 용매 예를 들어, 에틸 또는 부틸 아세테이트, 아세톤, 에탄올 또는 이것들의 혼합물을 포함할 수 있고, 더욱 일반적으로는 화장품에 사용될 수 있는(내성, 독성 및 감촉 등이 허용되는) 유기 용매로부터 선택된 임의의 용매를 포함할 수 있다. 이와 같은 유기 용매는 총 조성물 중량의 0∼98%를 차지할 수 있다. 상기 용매는 친수성 유기 용매, 친지성 유기 용매, 양친매성 용매, 그리고 이것들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 친수성 유기 용매로서는 1∼8개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 저급 모노 알코올 예를 들어, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 이소프로판올 또는 이소부탄올; 6∼80개의 산화에틴렌 부를 함유하는 폴리에틸렌 글리콜; 폴리올 예를 들어, 프로필렌 글리콜, 이소프렌 글리콜, 부틸렌 글리콜, 글리세롤 또는 솔비톨; 1∼5개의 탄소 원자를 함유하는 알킬기의 모노- 또는 디-알킬 이소솔비드; 글리콜 에테르 예를 들어, 디에틸렌 글리콜 모노-메틸 또는 모노-에틸 에테르, 그리고 프로필렌 글리콜 에테르 예를 들어, 디프로필렌 글리콜 메틸 에테르를 예로 들 수 있다.

예로 들 수 있는 양친매성 유기 용매의 예로서는 폴리올 예를 들어, 폴리프로필렌 글리콜(PPG) 유도체 예를 들어, 폴리프로필렌 글리콜 및 지방산의 에스테르, 또는 PPG 및 지방산 예를 들어, PPG-23 올레일 에테르 또는 PPG-36 올레이트가 있다. 예로 들 수 있는 친지성 유기 용매의 예로서는 지방산 에스테르 예를 들어, 디이소프로필 아디페이트, 디옥틸 아디페이트, 알킬 벤조에이트, 이소프로필 미리스테이트, 이소프로필 팔미테이트, 부틸 스테아레이트, 헥실 라우레이트, 이소노닐 이소노나노에이트, 2-에틸헥실 팔미테이트, 2-헥실데실 라우레이트, 2-옥틸데실 팔미테이트, 2-옥틸도데실 미리스테이트, 디-(2-에틸헥실) 숙시네이트, 디이소스테아릴 말레이트, 2-옥틸도데실 락테이트, 글리세린 트리이소스테아레이트 또는 디글리세린 트리이소스테아레이트가 있다.

메이크업 제거용 조성물은 또한 다음과 같은 성분들을 포함할 수도 있다:

ㆍ오일 예를 들어, 마이크로에멀젼 형태의 오일

ㆍ광 변색 제제 또는 제제들이 피부에 존재하도록 유지시키는데 사용된 화합물 또는 화합물들이 pH-감수성인 경우에는 pH 제제 예를 들어, 카보폴; 또는

ㆍ이온성 액체.

단독으로 사용할 수 있거나 또는 메이크업 제거용 조성물과의 혼합물로서 사용할 수 있는, 구체적으로 예로 들 수 있는 음이온성 계면 활성제의 예로서는 다음과 같은 화합물의 알칼리성 염, 암모늄 염, 아민 염 또는 아미노 알코올 염이 있다: 알코일설페이트, 알코일에테르 설페이트, 알코일아미드 설페이트 및 에테르 설페이트, 알코일아릴폴리에테르설페이트, 모노글리세리드 설페이트, 알코일설포네이트, 알코일아미드 설포네이트, 알코일아릴설포네이트, α-올레핀 설포네이트, 파라핀 설포네이트, 알코일설포숙시네이트, 알코일에테르설포숙시네이트, 알코일아미드 설포숙시네이트, 알코일설포숙시나메이트, 알코일설포아세테이트, 알코일폴리글리세롤 카복실레이트, 알코일포스페이트/알코일에테르포스페이트, 아실사코시네이트, 알코일폴리펩티데이트, 알코일아미도폴리펩티데이트, 아실이세티오네이트 및 알코일라우레이트.

상기 화합물 전부에 존재하는 알코일 또는 아실 라디칼은 일반적으로 12∼18개의 탄소 원자를 함유하는 사슬을 지칭한다.

또한, 비누 및 지방산 염 예를 들어, 올레산, 리시놀산, 팔미트산, 스테아르산, 코프라 오일 산 또는 수소화된 코프라 오일 산, 특히, 아민의 염 예를 들어, 아민 스테아레이트; 8∼20개의 탄소 원자를 함유하는 아실 라디칼의 아실 락틸레이트; 그리고 다음과 같은 화학식을 가지는 폴리글리콜산 에테르의 카복실산(산 또는 염의 형태): Alk-(OCH₂-CH₂)_n-OCH₂-COOH

[상기 식 중, 치환기 Alk는 12∼18개의 탄소 원자를 함유하는 직쇄에 해당하고, n은 5∼15의 정수임]

를 예로 들 수 있다.

단독으로 또는 혼합물로서 사용될 수 있는 비 이온성 계면 활성제로서는 특히 다음과 같은 것들을 예로 들 수 있다: 알코올, 알코일페놀 및 폴리에톡실화, 폴리프로폭실화 또는 폴리글리세롤화 지방산(8∼18개의 탄소 원자를 함유하는 지방 사슬 포함); 산화에틸렌과 산화프로필렌의 공중합체, 산화에틸렌과 산화프로필렌의 지방 알코올 상 축합체, 폴리에톡실화 지방 아미드, 폴리에톡실화 지방 아민, 에탄올아미드, 지방산과 글리콜의 에스테르, 지방산과 솔비탄의 에스테르로서, 임의로는 옥시에틸렌화될 수 있는 에스테르, 지방산과 사카로스의 에스테르, 지방산과 폴리에틸렌 글리콜의 에스테르, 인산 트리에스테르, 지방산과 글루코즈 유도체의 에스테르; 아민화 당의 알킬폴리글리코시드 및 알킬아미드; α-디올, 모노알코올, 알코일페놀, 아미드 또는 디글리콜아미드와, 글리시돌 또는 글리시돌 전구체의 축합 생성물.

광학 제제를 함유하는 메이크업 제거용 조성물은 헹굴 때 광학 제제가 예를 들어, 코아세르베이트 효과에 의해서 침착될 수 있도록 제조될 수 있는데, 이 효과는, 침착 과정을 촉진하는 상보성 이온 성질 보유 중합체와 계면 활성제 예를 들어, PC/PA, TC/TA, TC/PA, TA/PC, 가능하게는 양쪽성 및 비 이온성 계면 활성제를 사용할 경우 얻을 수 있다. PC는 통상적으로 화합물 예를 들어, 양이온성 구아 검(예를 들어, 재규어(Jaguar) C13S) 또는 인조 화합물 예를 들어, JR 400 또는 이오넨이다. TC는 통상적으로 4차 사슬 화합물(특히, 트리메틸암모늄 기) 및 지방 사슬 화합물(C₆∼C₃₀)이다. PA는 다중 음이온 중합체 예를 들어, 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 중합체 또는 공중합체 또는 설폰 기를 함유하는 중합체일 수 있다. TA는 음이온성 계면 활성제 예를 들어, 카복실산 또는 설페이트 또는 설폰산 계면 활성제(LES, LS)이다.

메이크업 제거용 조성물은 임의의 적당한 지지체 특히, 흡수성이 있는 지지체 예를 들어, 섬유로 된 메이크업 제거 디스크 예를 들어, 직물 또는 부직포, 펠트, 면-울, 플로킹된 필름(flocked film), 스펀지 또는 물수건을 사용하여 도포할 수 있으며; 메이크업 제거에 사용된 지지체는 메이크업 제거 과정이 종결된 이후에 떼어내는 것이 유리하다.

메이크업 제거용 조성물은 용기 내에 보관되어 있다가 메이크업을 제거할 때마다 덜어내어 쓸 수 있다. 변형 예에서, 메이크업 제거용 조성물은 메이크업 제거에 사용되는 지지체에 담지되어 있는 상태로 있으며, 이후, 상기 지지체는 예를 들어, 밀봉된 포장 내에 포장될 수 있다. 메이크업 제거용 조성물을 사용한 후, 케라틴 물질은 헹굴 필요가 없다, 변형 예에서는 이 물질을 헹굴 수 있다. 헹굼은 예를 들어, 흐르는 물에 비누를 사용하지 않고 수행할 수 있다.

이미지 투영 및 투영된 이미지를 추적하여 표현한 메이크업 외관

본 발명에 따라서 투영된 이미지에 따라서 다르게 수행되는 화장 처리 방법이 메이크업일 때, 이미지 투영 결과는 임의의 광선 조사기이되, 바람직하게는 상기 정의한 바와 같은 어드레스 가능 전자 매트릭스 화상기에 의해 표현될 수 있다.

메이크업 처리 방법은 수 시간 소요되므로, 상기 화상기를 얼굴을 추적하는 추적 시스템과 합체하여, 투영된 이미지 예를 들어, 투영 축을 실시간으로 수정할 수 있다. 이를 위해서, 상기 추적 시스템은 예를 들어, 광학 데이터 습득 장치에 의해 하나 이상의 기준점들을 파악할 수 있다.

구체적으로, 메이크업 외관을 시뮬레이션하기 위해 투영이 행하여질 때, 그 결과는 실사 컬러(real color) 또는 허위 컬러(false color)일 수 있다. 허위 컬러는 사용자가 투영 결과를 명확하게 확인할 수 있도록 해준다. 상기 색은 얼굴 색과 뚜렷하게 콘트라스트를 이루는 색이므로, 예를 들어, 투영 색은 녹색, 백색, 청색 또는 밝은 적색일 수 있다. 특히, 밝은 투영 이미지는 사용자가 얼굴에 투영된 이미지를 명확하게 관찰할 수 있도록 해준다.

바람직하게, 사용자가 암실이나 조명이 희미한 방에 있을 때에도 투영이 진행되어, 투영된 이미지가 더욱 뚜렷하게 표현된다.

사용된 투영 시스템에는 투영 결과의 진하기를 조정할 수 있는 수단이 제공되는 것이 바람직하다. 적당한 경우, 조정 과정은 광학 데이터 습득 장치 예를 들어, 환경 광을 분석하고, 투영된 광선의 세기를 조정하여 이 광선의 세기가 환경 광의 세기를 초과하도록 조정하는 센서를 사용하여 자동으로 진행될 수 있다.

사용된 투영 시스템에는 이하에 기술된 바와 같이 감광 메이크업 처리 시스템에 사용하기 위한 투영 이미지를 선택할 수 있도록 해주는 수단이 제공되는 것이 바람직하다. 본 발명의 하나의 구체예에서는, 감광 메이크업을 받을 예정인 개체, 또는 모델 예를 들어, 유명인이나 특정 스타일의 개체로부터 얻은 이미지를 다듬은 이미지를 사용하는데, 이 경우, 이 이미지는 메이크업한 사람 또는 메이크업하지 않은 사람으로부터 얻을 수 있다. 뿐만 아니라, 그림, 표, 스케치 또는 캐리커처로부터 얻은 이미지를 사용하여 투영된 이미지를 생성할 수도 있다.

사용된 시스템은 예를 들어, 광학 데이터 습득 장치를 사용하여 이미지를 얻거나, 임의로는 처리될 영역에 상응하는 부분을 추출하고, 적당한 경우, 이 이미지를 수정하여 일단 투영된 결과를 개선하도록 환경 설정될 수 있다.

사용된 시스템은, 얼굴에 투영된 이미지를 바탕으로 하여, 예를 들어, 1차원 또는 2차원으로 확대 또는 축소함으로써 사용자가 형태를 수정할 수 있도록 환경 설정된 것이 바람직하다. 변형 과정은 더욱 복잡할 수도 있다. 그러므로, 예를 들어, 이미지의 일부를 수정하고, 특정 영역을 확장하여, 라인의 크기를 바꿀 수 있다. 이를 위해서, 일반적으로 이미지 생성 및 편집용 소프트웨어에 존재하는 도구 예를 들어, 포토샵^®을 이용할 수 있다. 적당한 경우, 이미지는 광학 데이터 습득 장치를 통해 피드백하여 편집될 수 있다.

사용된 투영 시스템은 투영된 이미지를 개체의 얼굴에 집중시킬 수 있도록 환경이 설정되는 것이 바람직하다.

사용된 투영 시스템은 이미지를 연속된 이미지의 형태로, 또는 점진적으로 바뀌는 애니메이션 이미지의 형태로 바꿀 수 있다. 투영 결과에 변화를 가하면, 메이크업을 도포하는 개체가 연속된 획을 계속해서 그어 나갈 수 있게 된다. 적당한 경우, 투영된 이미지는 처리시 영역의 이미지를 분석한 결과를 바탕으로 하여 바꿀 수 있다. 예를 들어, 사용된 시스템은, 영역 전체가 막 처리 완료되었음을 파악할 수 있으므로, 상이한 도포기 및/또는 조성물로 상이한 영역을 처리할 수 있게 해주거나, 또는 동일한 영역을 처리할 수 있게 해주는 정보를 디스플레이할 수 있다. 상기 시스템은 이와 같은 정보[즉, 감광 메이크업 도포시 각 단계에서 사용자가 어떤 색과 메이크업 도구를 사용해야 하는지를 설명해주는 정보]를 시각적 방식 또는 청각적 방식으로 전달할 수 있다.

메이크업 도구는 통상적으로 사용되는 것이거나 맞추어 제작한 도구이다. 예를 들어, 상기 도구는 이동하여 처리될 영역과 접촉함으로써, 이 영역에 화장료 조성물 구체적으로, 메이크업을 적층하는 도구이다. 바람직하게, 상기 도구는 처리되는 영역에 지나치게 어두운 음영을 형성하지 않도록 최소한 부분적으로 투명하거나 반투명한 형태로 제조된다. 도 17에 도시한 바와 같이, 이 도구는 예를 들어, 임의로는 불투명하고 가는 스템(stem)(201)에 얹혀진 뭉치 또는 선단부가 소포형인 것과 같은 도포기 부재일 수 있으며, 바람직하게는 광학적 경로를 바꾸지 않는 형태(예를 들어, 편평한 단면)를 가진다. 적당한 경우, 도포는 불투명하지 않은 도포기 부재(200) 예를 들어, 투명하거나 반투명한 재료로 만들어진 부재를 사용하여 수행된다. 본 도면에서, 사용자는 화상기에 의해 투영된 라인 T를 따라서 도포하는 도포기(202)를 사용하여 본 발명의 조성물을 적층한다.

이미지를 투영할 때 수행된 처리는 또한 살포 방법에 의해 화장료 조성물 또는 관리 제품 특히, 메이크업을 원거리에서 도포하여 이루어질 수도 있다.

처리되는 영역과 접촉하여 적층되거나, 또는 일정 거리를 두고 살포되는 본 발명의 조성물은 또한 미리 도포한 층 내에서 반응을 일으키는 조성물일 수도 있다. 그러므로, 이미지는 시스템에 의하여 영역 즉, 발색 제제와 접촉시 외관을 바꿀 수 있는 조성물로 코팅된 영역에 투영될 수 있는데, 여기서, 상기 조성물은 폴딩(folding)에 감수성이거나, 또는 금속염에 감수성인 착색 인디케이터를 포함한다. 발색제는 투영된 이미지에 따라서(예를 들어, 한정된 윤곽선을 따라서) 사용자가 케라틴 물질에 선택적으로 도포한다.

전술한 바와 같이, 이미지 투영시 수행된 처리에서는, 조성물을 발색시켜 메이크업 외관을 바꾸는 에너지를 선택적으로 적용할 수 있다. 예를 들어, 처리될 영역은 열 안정성 광 변색 조성물로 코팅되며, 전술한 바와 같이, 감광 메이크업 외관은 감광 메이크업 처리 시스템을 이용하여 상기 조성물을 상이한 장소에서 적당한 조명(예를 들어, UV)으로 비춤으로써 표현된다. 변형 예에서, 광선은 또한 이미지를 투영하는데 사용된 광선 조사기와 구분되는 사용자 조작 휴대용 조사기로부터 유래할 수도 있다.

실시예

제제 1(광 변색 조성물)

ㆍ디아릴에텐^*(야마다 케미컬(일본)에 의해 제품명 DAE-TZ로 시판중): 0.4%

ㆍPMMA(폴리메틸 메타크릴레이트)(와코 퓨어 케미컬 인더스트리스 엘티디(Wako Pure Chemical Industries, Ltd.(일본))로부터 시판중): 10%

ㆍ아세톤: qs 100%

*:

네거티브

네거티브는 다음과 같이 감광 메이크업용으로 제조할 수 있다. 그리드[그리드를 구성하는 각각의 사각형(square)의 측면 길이는 약 3㎜임]를 제시하는 파워포인트^® 파일을 제작하였다. 이후, 레이저 프린터를 사용하여 투명 판 위에 이 파일을 프린트하였다. 프린트되지 않았을 경우, 투명 판 위에 UV[UVA 활성화 대역(UVA activation band), 약 365㎚]가 통과하도록 하였다.

조사기

다음의 부재들을 포함하며 도 6에 도시한 것과 같은 조사기를 제조하였다: UV 발광 램프(이 램프는 백색광을 발광함); 녹색 필터; 조정 가능한 시준 광학 장치; 및 이동식 거울(304).

지지체

사용된 지지체는 피부의 질감을 나타내는 백색 폴리우레탄 재료이다[보락스(Beaulax) 사로부터 상품명 바이오스킨(Bioskin) ref #화이트 061031-2로 시판중임].

테스트

환경 광이 존재하고 밀폐된 방 안에서 테스트를 수행하였다.

실시예 1

본 발명의 광 변색 조성물을 지지체 상에 도포한 다음, 1분 동안 건조하였다. 지지체로부터 20㎝ 떨어진 곳에서 투영을 수행하였다. 첫 번째 스위치를 사용하여 가시 광선 하에서 시뮬레이션 투영을 개시하였다. 표면상에 투영된 이미지를 관찰하였다. 초점과 위치 설정을 조정한 후, UV를 발광시키는 두 번째 스위치를 작동시켜 감광 메이크업을 수행하고, 본 발명의 광 변색 조성물로 네거티브를 디자인하였다.

실시예 2

장치로부터 녹색 필터를 제거하고, 네거티브를 이용한다는 것을 제외하고는 상기한 바와 동일한 조사기를 사용하였다.

필터 조성물(파솔 1789)과 입술을 네거티브로 나타내는 스텐실 형태의 이미지, 이 필터로 덮이지 않은 입술의 표면을 이용하여, 상기 네거티브를 투명 매체 상에 형성하였다.

이후, 펠트 팁 펜으로 4개의 적색 점(입술의 양 모서리와 입술의 가장 높은 지점 및 가장 낮은 지점을 나타내는 점)을 투명 매체 상에 찍었다.

입술을 시뮬레이션한 지지체 상에 광 변색 조성물을 도포한 다음, 조사기를 이 지지체로부터 20㎝ 떨어진 곳에 배치하였다.

첫 번째 스위치를 이용하여 이 시뮬레이션 결과를 투영하였다. 표면상에 투영된 이미지는 4개의 적색 점으로 구성되었다. 상기 4개의 적색 점이 모여서 입술의 모양을 이루도록 초점과 위치 설정을 조정하였다. 이후, 두 번째 스위치를 작동시켜, 감광 메이크업을 수행하고, 광 변색 조성물로 입술 모양을 디자인하였다.

실시예 3

실시예 1에서 사용한 조사기와 동일한 조사기를 사용하였다.

네거티브는 다음과 같이 제조하였다.

얼굴에 소수의 적색 마크와 핑크색 마크가 표시된 개체의 사진을 찍어서 종이에 프린트하였다. 투명 매체를 그 위에 놓고 상기 마크가 표시된 부분을 제외한 매체의 전체 표면을 검게 만들었다.

본 실시예에 있어서, 광 변색 조성물은 청색의 디아릴에텐 및 황색의 디아릴에텐 예를 들어, 상기한 바와 같은 것들이었다.

본 발명의 광 변색 조성물을 마크가 표시된 표면상에 도포한 다음, 조사기를 이 표면으로부터 20㎝ 떨어진 곳에 배치하였다.

첫 번째 스위치를 사용하여 시뮬레이션 결과를 투영하였다. 표면상에 투영된 이미지를 밝은 색 점으로 표시하였다. 상기 밝은 색 점의 초점과 위치 설정을 조정하여 이 밝은 점을 모아 실사 마크로 표현하였다. 그 다음, 두 번째 스위치를 작동시켜, 감광 메이크업을 수행하였다.

상기 마크 상에 녹색을 정확하게 발색시켜, 마크의 가시성을 한정하였다.

실시예 4

투명 매체 상 이미지가 입술의 윤곽선만을 나타냈다는 점을 제외하고, 실시예 2와 동일한 테스트를 수행하였다.

조사기를 사용하여, 입술 윤곽선이 적색으로 연출되는 감광 메이크업을 표현하였다. 상기 윤곽선의 내부는 립스틱으로 채웠다.

이 방법의 이점은 메이크업을 자기가 원하는 대로 정확하게 표현하는데 어려움을 겪는 사람들이, 만족할 정도의 메이크업 외관을 표현해 낼 수 있다는 점이다.

실시예 5

사용된 광 변색 조성물이 청색 디아릴에텐을 주성분으로 한다는 점을 제외하고는 실시예 2와 동일한 테스트를 수행하였다.

표현된 감광 메이크업은 입술의 윤곽선만을 청색 점선의 형태로 나타내었다. 이 패턴을 이용하여 메이크업 외관을 표현하였다.

실시예 6

로지텍 퀵 캠 프로 9000(Logitech Quick Cam Pro 9000) 카메라와 UV 매트릭스 투영기를 휴대용 컴퓨터에 연결시켰다.

상기 투영기에 의해 발광된 광선이 거울을 통과하도록 반투명 60/40 거울을 배치하고, 이 투영기와 평행으로 입사하는 입사광을 카메라에 대해 90°로 반사시켰다.

UV 매트릭스 투영기는 다음과 같은 5개의 부품을 포함한다:

- UV 광선에 의해 작동하도록 환경이 설정된 DLP 부품 예를 들어, DMD 0, 7인치 XGA(텍사스 인스트루먼츠(Texas Instruments));

- 340∼400㎚의 광선을 발광하는 10 와트 UV 램프;

- DLP의 거울을 제어하는 제어기 예를 들어, DDC 4100 디지털 제어기(텍사스 인스트루먼츠);

- 상기 부품들에 사용되는 인터페이스 및 동력 공급 장치 예를 들어, 텍사스 인스트루먼츠 DAD 2000 DMP 파워 앤 리셋 드라이버(Texas Instruments DAD 2000 DMP Power and Reset Driver);

- 매트릭스 투영기로부터 유래하는 광선을 약 30㎝ 떨어진 곳에 집광하는 광학 시스템.

카메라 이미지를 캡쳐하고, 상기 이미지를 처리하여 얼굴을 감지한 다음, 처리할 영역(예를 들어, 이마 및 양 볼)을 결정한 후, 각 영역 내 가장 어두운 영역을 감지하도록 휴대용 컴퓨터를 프로그래밍하였다. 캡쳐한 이미지를 스크린상에 디스플레이하고, 가장 어두운 영역이 존재하면 이 영역을 부각시켰다. 만일 소프트웨어가 어두운 영역을 감지하지 못하면, "처리 불가능"이라는 메세지를 디스플레이하였다.

상기 소프트웨어는 사용자가 상기 영역을 처리하는 것을 승인하거나 거절하도록 환경을 설정하였다. 만일 사용자가 승인하면, 소프트웨어는 DLP가 어두운 영역들 사이에 위치하는 밝은 영역들을 선택적 방식으로 조사하도록 제어하였다. 그 다음, DLP에 의해 디스플레이된 이미지를 UV 광선으로 투영하였다.

제어 패널은 사용자가 조사를 중지하거나, 광선의 세기를 줄이거나 또는 광선 조사를 재개하도록 할 수 있다.

작동 전, 사용자는 광학 시스템이 카메라와 UV 투영기를 광학적으로 배열하여, 작동 영역이 겹쳐져서 확대 현상이 일어났는지 여부를 체크할 수 있도록 설정하였다.

광학 변색 제품(어두운 환경에 보관):

제품명 DAE-TZ로 시판중인 디아릴에텐 마젠타(야마다 케미컬스) 0.06g

제품명 DAE 2BT로 시판중인 디아릴에텐 옐로우(야마다 케미컬스) 0.28g

제품명 DAE 2BT로 시판중인 디아릴에텐 블루(야마다 케미컬스) 0.06g

PMMA(메틸 메타크릴레이트 중합체)(와코 퓨어 케미컬스 엘티디) 10g

아세톤 89.6g

보호 제품:

썬 DNA 가드 SP50(Sun DNA Guard SP50)(랑콤(LANCOME)).

본 방법은 피부에 결함(예를 들어, 베이지 피부이상변색)이 있는 사람을 대상으로 수행하였다.

본 발명의 광 변색 제품은 결함이 있는 영역 한 군데 또는 여러 군데와, 결함이 있는 영역에 한정되지 않는 전체 영역에 도포하였다[예를 들어, 이마같은 영역에는 0.5g 도포]. UV 투영기와 카메라(투영기에 대해서 90°오프셋 배치)의 광축을 따라서 처리될 대상 개체를 위치시켰다.

이 대상 개체의 눈을 감게 한 다음 이미지 습득을 개시하였다.

"제안된 영역"이라는 메시지를 표시한 인터페이스를 통하여, 처리될 영역을 한 군데 이상 선택할 수 있다. 이후, 조사를 개시하였다. 원하는 경우, 작동자는, 메이크업 진행 과정을 모니터하면서 색이 균일해지기 시작할 때 즉, 피부 결함이 있는 영역이 나머지 영역과 유사하거나 동일한 색을 띠게 될 때, 제어 패널을 이용하여 광선 조사 세기를 줄였으며, 이후, 작동자는 이 제어 패널을 이용하여 광선 조사를 중지하였다. 결과가 만족스럽다면, 작동자는 광학 보호 제품을, 광학 변색 제품이 도포된 영역 전체에 도포하였다.

실시예 7

실험 실시자는 실시예 6에서 사용된 것과 동일한 장치를 사용하였다.

컴퓨터는

- 카메라로부터 이미지를 캡쳐하고,

- 이 이미지를 처리하여 얼굴의 범위를 정하고, 이마와 양쪽 볼을 감지하여,

- 상기 영역 내 가장 밝은 영역을 감지하고,

- 카메라로 얻은 이미미를 스크린상에 디스플레이한 후, 필요에 따라서 가장 밝은 영역을 부각시키도록 프로그래밍하였다.

만일 상기 프로그램이 이러한 영역을 감지하지 못한다면, 해당 메시지가 디스플레이되었다.

상기 소프트웨어는 사용자가 상기 영역을 처리하는 것을 승인하거나 거절하도록 환경을 설정하였다. 만일 사용자가 승인하면, 소프트웨어는 DLP가 어두운 영역들 사이에 위치하는 밝은 영역들을 선택적 방식으로 조사하도록 제어하였다. 그 다음, DLP에 의해 디스플레이된 이미지를 UV 광선으로 투영하였다.

제어 패널은 사용자가 조사를 중지하거나, 광선의 세기를 줄이거나 또는 광선 조사를 재개하도록 할 수 있다.

작동 전, 사용자는 광학 시스템이 카메라와 UV 투영기를 광학적으로 배열하여, 작동 영역이 겹쳐져서 확대 현상이 일어났는지 여부를 체크할 수 있도록 설정하였다.

색소 탈실(백반증)이 일어난 개체를 처리하였다.

결함 부분을 표적화하되, 이 부분의 경계선을 약 2㎝정도까지는 넘지 않도록(양으로 환산하면 약 0.1g/㎠) 확장시켜, 실시예 1에서 사용한 것과 동일한 광 변색 제품을 결함이 있는 영역 한 군데 이상에 도포하였다.

UV 투영기와 카메라(투영기에 대해서 90°오프셋 배치)의 광축을 따라서 처리될 대상 개체를 위치시켰다.

이 대상 개체의 눈을 감게 한 다음 이미지 습득을 개시하였다.

"제안된 영역"이라는 메시지를 표시한 인터페이스를 통하여, 처리될 영역을 한 군데 이상 선택할 수 있었다. 이후, 조사를 개시하였다. 원하는 경우, 작동자는 메이크업 진행 과정을 모니터하면서, 색이 균일해지기 시작할 때 즉, 피부 결함이 있는 영역이 나머지 영역과 유사하거나 동일한 색을 띠게 될 때, 제어 패널을 이용하여 광선 조사 세기를 줄였으며, 이후, 작동자는 이 제어 패널을 이용하여 광선 조사를 중지하였다. 결과가 만족스럽다면, 작동자는 보호 제품을, 광학 변색 제품이 도포된 영역 전체에 도포하였다.

실시예 8

실시예 6에서 사용한 것과 동일한 장치를 사용하였다.

컴퓨터를, 카메라로 얻은 이미지를 캡쳐하여, 얼굴, 입술, 눈 및 눈썹의 윤곽선을 감지하도록 환경을 설정하였다.

이로써 다음과 같은 결과물을 얻을 수 있었다:

- 입술 모양에 상응하는 마스크로서, 입술이 가지고 있는 자연 그대로의 윤곽선을 가지는 이미지인 마스크; 및/또는

- 눈과 눈썹 사이 영역에 상응하는 마스크로서, 하단 말단부는 상안검의 가장 높은 부분으로, 그리고 상단 말단부는 눈썹의 가장 낮은 부분으로 윤곽선의 경계가 정해진 이미지인 마스크.

마스크 이미지는 가시 광선으로 투영되었다. 작동자는 제안된 이미지의 질을 체크할 수 있다.

컴퓨터에는, 각각의 마스크를 다듬을 수 있는(예를 들어, 이미지 윤곽선을 다시 그릴 수 있는) 이미지 터치-업 소프트웨어가 장착되었다.

이 프로그램은, 사용자가 이미지에 대한 필 패턴(fill pattern)을 선택할 수 있도록 환경이 설정될 수 있었으며, 여기서, 이미지의 필 패턴은 균일하거나 기하학적 패턴을 포함할 수 있다.

인터페이스는, 사용자가 한 군데 이상의 영역 처리를 승인하거나 거절할 수 있도록 할 수 있다.

작동 전, 사용자는 광학 시스템이 카메라와 UV 투영기를 광학적으로 배열하여, 작동 영역이 겹쳐져서 확대 현상이 일어났는지 여부를 체크할 수 있도록 설정하였다.

본 발명의 광 변색 제품을 입술에 예를 들어, 약 0.5g의 양만큼 도포하였다.

본 발명의 광 변색 제품을 눈과 눈썹 사이의 영역에 도포하였다. 상안검에 이 제품을 발랐다.

청색 광 변색 제품(어두운 환경에 보관):

제품명 DAE 2BT로 시판중인 디아릴에텐 블루(야마다 케미컬스) 0.3g

PMMA(메틸 메타크릴레이트 중합체)(와코 퓨어 케미컬스 엘티디) 10g

아세톤 89.7g

적색 광 변색 제품(어두운 환경에 보관):

제품명 DAE-TZ로 시판중인 디아릴에텐 마젠타(야마다 케미컬스) 0.06g

제품명 DAE 2BT로 시판중인 디아릴에텐 옐로우(야마다 케미컬스) 0.28g

보호 제품:

썬 DNA 가드 SP50(랑콤).

아세톤 99.66g

UV 투영기와 카메라(투영기에 대해서 90°오프셋 배치)의 광축을 따라서 처리될 대상 개체를 위치시켰다.

본 발명의 적색 또는 청색 광 변색 제품을 입술(예를 들어, 약 0.5g) 및 눈과 눈썹 사이의 영역에 도포하였다. 상안검에도 이 제품을 발랐다.

이 대상 개체의 눈을 감게 한 다음 이미지 습득을 개시하였다.

"제안된 영역"이라는 메시지를 표시한 인터페이스를 통하여, 처리될 영역을 한 군데 이상 선택할 수 있다. 필요에 따라서, 사용자는 상기 인터페이스에 의해 이미지를 부분적으로 다시 수정할 수 있었다.

이후, 광선 조사를 시작하였다. 작동자는 메이크업 진행 과정을 모니터하면서, 원할 때에는 제어 패널을 이용하여 광선 조사 세기를 줄이기도 하였다. 색이 원하는 색으로 표현되기 시작하면, 작동자는 이 제어 패널을 이용하여 광선 조사를 중지하였다. 만일 결과가 만족스러웠다면, 작동자는 광 변색 제품이 도포된 영역 전체에 상기 보호 제품을 도포하였다.

실시예 9:

본 실시예에서 사용된 장치는 실시예 6에서 사용된 장치와 동일하였으며, 본 실시예에서 사용된 프로그램은 실시예 8에서 사용된 프로그램과 동일하였다.

뿐만 아니라, 컴퓨터에는 얼굴을 이루는 요소들을 고려하여 위치를 설정할 장식 이미지를 바탕으로 하는 마스크를 제조하는 프로그램을 설치하였다.

예를 들어, 눈을 감지하고, 마스크는 이 눈의 윤곽선을 따라 형성되는 선 또는 눈과 함께 정렬되어 배치된 패턴을 이용하여 제조하였다. 후자의 경우, 프로그램은, 눈의 외부 모서리, 눈 모서리에 인접하여 존재하는 패턴 그리고 주축을 따라서, 각각의 눈 위치를 감지하여 눈의 주축과 위치를 식별한다. 투영기는, 마스크를 투영하여, 장식적인 이미지를 표현할 수 있도록 제어하였다.

UV 매트릭스 투영기는 다음과 같이 5개의 부품을 포함한다:

- UV 광선에 의해 작동하도록 환경이 설정된 DLP 부품 예를 들어, DMD 0, 7인치 XGA(텍사스 인스트루먼츠);

- 340∼400㎚의 광선을 발광하는 10 와트 UV 램프;

- DLP의 거울을 제어하는 제어기 예를 들어, DDC 4100 디지털 제어기(텍사스 인스트루먼츠);

- 상기 부품들에 사용되는 인터페이스 및 동력 공급 장치 예를 들어, 텍사스 인스트루먼츠 DAD 2000 DMP 파워 앤 리셋 드라이버;

- 매트릭스 투영기로부터 유래하는 광선을 약 30㎝ 떨어진 곳에 집광하는 광학 시스템.

모든 부품들은 USB 케이블을 통해 휴대용 컴퓨터에 연결하였다.

이 컴퓨터는

- 사용자가 이미지나 사진 은행(photograph bank)으로부터 이미지를 선택할 수 있고,

- 네트워크를 통하여 이미지를 엑세스할 수 있으며,

- 이미지를 표현하거나 수정할 수 있도록

환경이 설정되었다.

컴퓨터는 또한 매트릭스 투영기를 제어하여 가시 광선이나 비 가시 광선 및 UV 광선 하에 선택된 이미지를 투영하도록 환경이 설정되었다.

작동 전, 사용자는 광학 시스템이 카메라와 UV 투영기를 광학적으로 배열하여, 작동 영역이 겹쳐져서 확대 현상이 일어났는지 여부를 체크할 수 있도록 설정하였다.

실험자는 광 변색 제품 예를 들어, 디아릴에텐 예를 들어, 제품명 DAE-TZ, DAE-2BT 하에 시판중인 것들을 사용할 수 있다. 이 제품은 약 0.001∼약 10중량%의 농도로 사용될 수 있으며, 바람직하게는 총량 0.1∼30%로 사용될 수 있다.

환경 UV광이 없는 조건 하에서 광 변색 제제(들)를 함유하는 조성물을 메이크업 처리될 대상 개체에 도포하였다. 바람직하게는 가시 광선 하에서 이미지를 선택한 후, 대상 개체를 투영하여 이 개체의 피부에 이미지를 생성하였다. 상기 이미지의 초점을 맞추고, 상기 투영에 사용된 광선을 가시 광선에서 UV 광선으로 바꾸어 준 다음, 대상 개체가 색의 진하기에 만족해 할 때 투영을 중지하였다.

UV 보호 조성물은 처리를 종결할 때 도포할 수 있다.

실시예 10

다른 실시예에서는, 스케너를 컴퓨터에 연결하였다. 이 스캐너를 사용하여 이미지를 캡쳐한 다음, 이 이미지를 몸에 투영시켰다.

투영된 이미지를 다음과 같은 다양한 이미지로부터 선택하였다:

- 메이크업을 재현하는 이미지 예를 들어, 블러쉬 효과를 재현하는 수 센티미터의 점, 또는 입술 메이크업을 재현하는 색 표면;

- 자연스러운 효과를 재현하는 이미지 예를 들어, 주근깨를 모사하는 작은 피부 결함;

- 장식 효과를 재현하는 이미지 예를 들어, 보통 영구적이거나 일시적인 방식으로 문신 새겨진 이미지, 그리고 자연에 존재하는 것들을 조사하여 얻은 이미지 예를 들어, 동물이나, 꽃, 캐릭터, 문자, 문장, 기하학적 패턴 등.

"하나의 ~를 포함하는"이란 표현은 "하나 이상의 ~를 포함하는"과 동일한 의미로 해석해야 할 것이다.

명백하게, 본 발명은 본원에 개시된 예에 한정되는 것은 아니다. 특히, 얼굴을 제외한 신체의 영역에도 메이크업 처리를 할 수 있다. 얼굴을 처리하는 것에 관한 예들은 모두 기타 부위를 처리하는 것에도 적용할 수 있다.

Claims (15)

1. a) 처리될 영역에 이미지를 투영하는 단계;
   b) 컨텐츠를 수정하고/수정하거나 투영된 이미지를 조정하는 단계; 및
   c) 상기와 같은 방식으로 수정 및/또는 조정된 이미지에 따라서 상기 영역을 화장 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.
2. 제1항에 있어서,
   상기 투영된 이미지는 처리될 영역을 한정하는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
   상기 투영된 이미지는 하나 이상의 기준점 및/또는 윤곽선을 포함하고, 상기 처리는 이 기준점 및/또는 윤곽선을 따라서 수행되는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,
   상기 단계 a)를 수행하기 이전에, 처리될 영역에 열 안정성 광 변색 조성물을 도포하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.
5. 제4항에 있어서,
   상기 단계 a)에서 투영된 이미지를 형성하는 광선은 열 안정성 광 변색 조성물을 활성화하지 않는 것으로 선택하고,
   또한, 상기 방법은
   d) 단계 a)에서 투영된 이미지에 따라서 열 안정성 광 변색 조성물을 여기시키기 위해 상기 영역을 조사하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서,
   상기 광선은 상기 단계 a)와 단계 d) 사이에서 바꾸고, UV 광원은 상기 단계 d)에서 사용하는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.
7. 제4항 내지 제6항 중 어느 하나의 항에 있어서,
   상기 열 안정성 광 변색 조성물은 열 안정성 광 변색 조성물을 발색시킬 때, 하나 이상의 기준점 및/또는 하나 이상의 윤곽선 특히, 메이크업이나 보호 제품을 도포하는데 사용되는 견본을 생성하는 방식으로 조사되는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.
8. 제7항에 있어서,
   상기 영역은 상기와 같이 생성된 기준점 및/또는 윤곽선을 사용하여 처리되는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.
9. 제8항에 있어서,
   상기 처리는 기준점 및/또는 윤곽선에 따라서 메이크업을 손으로 도포하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.
10. 제8항에 있어서,
    상기 처리는 구체적으로, 처리될 영역 위로 이동하는 도구를 사용하는 것과 같이, 기준점 및/또는 윤곽선을 자동으로 감지하여 수행되는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.
11. 제1항 내지 제10항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 처리될 영역에서 일어나는 임의의 움직임을 감지하여, 이미지 투영시 처리될 영역의 움직임에 따라서, 투영된 이미지를 자동으로 수정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.
12. 제1항 내지 제11항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 투영된 이미지는 어드레스 가능 전자 매트릭스 화상기에 의해 생성되는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.
13. 제1항 내지 제12항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 투영된 이미지는 처리가 진행될 대상 개체에 관한 습득 이미지 하나 이상으로부터 생성되는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.
14. 제1항 내지 제13항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 투영된 이미지는 상기 영역 중 도드라진 부분에 의해 유발되는 이미지 왜곡 현상을 보정하는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.
15. 제1항 내지 제14항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 방법은 이미지의 애니메이션 시퀀스(animated sequence)를 투영하는 것을 특징으로 하는 사람의 케라틴 물질을 처리하는 처리 방법.

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