CN101802576A - 红外传感器、焦平面阵列及其红外成像系统 - Google Patents

红外传感器、焦平面阵列及其红外成像系统 Download PDF

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Abstract

一种红外传感器包括:第一膜层结构(103),第二膜层结构(104),和形成于第一膜层结构(103)和第二膜层结构(104)之间的空隙。参照光从第一和第二膜层结构(103,104)中的一个入射。当空隙变化时,从一个膜层结构透射的参照光的强度发生变化,而且反射回来的参照光的强度发生变化。当红外线入射时,至少一个膜层结构吸收红外线而导致至少一个膜层结构的温度发生变化,从而导致空隙的距离发生变化。通过探测从另一膜层结构透射的参照光的强度变化或者通过探测反射回来的参照光的强度的变化,从而测量到红外线。

Description

红外传感器、 焦平面阵列及其红外成像系统 技术领域
本发明涉及红外传感器、 焦平面阵列及其红外成像系统, 尤其 和红外成像系统。 背景技术
红外传感器探测物体本身所发射的红外线,其波长在 8到 14微 米左右, 人眼和普通照相机不能观测到。 传统的红外传感器用窄带 半导体或微电阻器实现, 工艺难度高, 价格昂贵。 目前还存在几种 技术把红外信号转换为可见光信号, 通过观察可见光信号来计算出 红外信号, 从而得到红外图像。 一类技术是利用微机电系统(MEMS ) 的方法制造红外传感器阵列, 即焦平面阵列 (FPA ) 。 在这些结构 中, 由于构成悬梁臂的不同材料有不同的热膨胀系数, 在红外线入 射到吸热板上热量被吸收并传递到悬梁臂上导致其温度升高时悬 梁臂和吸热板(亦为反射板)发生偏转, 导致反射的可见光发生偏 转。 通过探测可见光偏转的角度, 可以推断出入射红外线的强度。 这种方法探测可见光的偏转, 读出光路较复杂。 具体生产过程中工 艺控制较难。
此外把红外信号转换为可见光信号的技术如专利 CN 1427251A , 需要利用光学晶体, 不利于生产, 成像系统复杂, 其红外光为照射 光源, 非物体本身发射的红外线。
所以, 需要一种简单、 高效、 灵敏又准确的红外传感器来探测 物体所发射的红外线。 发明内容
本发明的目的在于提供一种新颖的用于探测物体发出的红外线 的红外传感器、 焦平面阵列及其红外成像系统, 其消除了现有技术 确认本 中的缺点, 能够准确、 快速地探测到物体发出的红外线并转换成图 像。
根据本发明的一个方面, 提供红外传感器, 用于探测物体发出 的红外线, 其中, 所述红外传感器包括: 第一膜层结构; 第二膜层 结构; 形成于所述第一膜层结构和所述第二膜层结构之间的空隙; 其中: 参照光从所述第一膜层结构和所述第二膜层结构中的一个膜 层结构入射, 一部份参照光反射, 一部份参照光从另一膜层结构透 射出来; 当所述空隙距离变化时, 从所述另一膜层结构透射出的参 照光的强度发生变化, 而且所述反射回来的参照光的强度发生变 化; 并且其中: 当红外线入射时, 所述第一膜层结构和所述第二膜 层结构中的至少一个膜层结构吸收红外线而导致所述第一膜层结 构和所述第二膜层结构中的所述至少一个膜层结构的温度发生变 化, 从而导致所述空隙的距离发生变化; 通过探测从所述另一膜层 结构透射出的参照光的强度的变化或者通过探测所述反射回来的 参照光的强度的变化, 从而测量到红外线。
根据本发明的另一个方面, 所述传感器还包括: 衬底; 一个或 多个第一支撑机构, 用于将所述第一膜层结构支撑于所述衬底上; 并且其中所述第二膜层结构直接位于所述衬底上。
根据本发明的另一个方面, 所述传感器还包括: 衬底; 一个或 多个第一支撑机构, 用于将所述第一膜层结构支撑于所述衬底上; 并且还包括一个或多个第二支撑机构, 用于将所述第二膜层结构支 撑于所述衬底上。
根据本发明的另一个方面, 所述第一支撑机构或第二支撑机构 的膜层结构与其所支撑的所述第一膜层结构或第二膜层结构的膜 层结构相同。
根据本发明的另一个方面, 所述第二膜层结构与所述衬底是一 体结构。
根据本发明的另一个方面,所述衬底中间被掏空形成中空部分, 所述参照光从所述衬底的中空部分射入所述第一膜层结构和所述 第二膜层结构, 或从所述第一膜层结构和所述第二膜层结构中射出 后从所述衬底的中空部分射出。 红外线可从掏空部分或从相反方向 射入第一膜层结构或第二膜层结构。
根据本发明的另一个方面, 为了增强红外线的吸收, 本发明的 传感器, 其中: 所述第一膜层结构和所述第二膜层结构中离入射紅 外线远的那一膜层结构是红外反射膜, 或者所述第一膜层结构和所 述第二膜层结构中离入射红外线远的那一膜层结构的上表面或下 表面或层间有红外反射膜。 本发明所说的红外反射膜是指对红外线 有强反射的材料构成的膜, 包括所有导电材料, 如金属, 和本发明 中提到的 IT0等透明导电材料。 根据本发明的另一个方面, 在透射 工作模式时, 采用 IT0, InZnO或 ZnO等透明导电材料来做红外反 射膜。
根据本发明的另一个方面, 为了增强红外线的吸收, 本发明的 传感器, 其中: 所述第一膜层结构和所述第二膜层结构中离入射红 外线近的那一膜层结构是红外吸收膜, 或者所述第一膜层结构和所 述第二膜层结构中离入射红外线近的那一膜层结构的上表面或下 表面或层间有红外吸收膜。 本发明所说的红外吸收膜对 8到 14微 米的红外线有强的吸收的材料构成的膜, 包括了在 8到 14微米之 间对红外线有吸收峰的材料。
此外, 根据本发明的另一个方面, 本发明的传感器的第一支撑 机构, 具有: 臂身, 其一端与所述第一膜层结构相连接, 另一端连 接到所述衬底上、 或者连接到所述第二膜层结构上、 或者连接到所 述第二支撑机构上; 附加层, 所述附加层被结合在所述臂身上; 并 且其中所述第二支撑机构具有: 臂身, 其一端与所述第二膜层结构 相连接, 另一端连接到所述衬底; 附加层, 所述附加层被结合在所 述臂身上; 其中: 臂身由具有第一热膨胀系数的材料或材料组合构 成; 所述附加层由具有第二热膨胀系数的材料或材料组合构成, 其 中: 第一热膨胀系数与第二热膨胀系数不同。 所述第一与第二支撑 机构包括: 直单臂结构、 转折式单臂结构、 旋转对称的回旋式结构、 以及对称结构。
根据本发明的另一个方面, 所述臂身部分在上方有附加层, 部 分在下方有附加层。
根据本发明的另一个方面, 所述第一或第二支撑机构是微桥结 构, 用于支撑所述第一膜层结构或所述第二膜层结构, 其中所述微 桥结构包括至少两个臂, 臂身可以不含附加层。
根据本发明的又一个方面, 所述的红外传感器中, 其中所述第 一和第二支撑机构在环境温度变化时形变方向相同, 使得第一膜层 结构和第二膜层结构间的空隙不变。 本发明中所说的环境温度是指 红外传感器所在处的温度, 而非红外传感器所观察的景物的温度。
根据本发明的另一个方面, 所述第一膜层结构和所述第二膜层 结构分别为反射镜, 用于在所述第一膜层结构和所述第二膜层结构 之间形成相干效应。
根据本发明的另一个方面, 所述第一膜层结构、 所述第二膜层 结构包括多层材料, 所述多层材料包括材料对称结构, 即材料的种 类上下对称, 厚度可以对称或者不对称, 如 l OOnm SiNx/l OOnm SiO2/200nm a-Si/120nm SiO2/80nm SiNx。
根据本发明的另一个方面, 所述第一膜层结构、 所述第二膜层 结构由一层或多层材料构成, 所述一层或多层材料包括氧化硅、 氮 化硅或无定形硅。
根据本发明的另一个方面, 所述第一膜层结构、 所述第二膜层 结构包括多层材料, 所述多层材料包括材料对称五层结构: 无定形 硅 /氧化硅 /无定形硅 /氧化硅 /无定形硅, 或氮化硅 /氧化硅 /无定形 硅 /氧化硅 /氮化硅。
根据本发明的另一个方面, 所述第一膜层结构、 所述第二膜层 结构由一层或多层材料构成, 所述一层或多层材料的每一层厚度为 四分之一参照光介质波长。
根据本发明的又一个方面, 其中所述第一支撑机构或第二支撑 机构包括如下部分: 一个或多个臂身, 由具有第一热膨胀系数的材 料或材料组合构成; 被结合在所述臂身上的多个附加层, 所述多个 附加层由具有第二或更多热膨胀系数的材料或材料组合构成; 其中 这样布置所述附加层: 使得当所述红外传感器本身环境温度变化时 所述第一支撑机构或第二支撑机构发生形变, 其各部分形变相叠加 的结果导致空隙距离不变; 而当红外线入射时, 所述第一膜层结构 和所述第二膜层结构中的至少一个膜层结构因吸收红外线而温度 变化, 导致所述第一支撑机构或第二支撑机构发生形变, 其各部分 形变相叠加的结果使空隙距离变化。
根据本发明的又一个方面, 其中所述第一或第二支撑机构分为 三部分: 接近衬底或与衬底有良好热接触的部分, 接近其所支撑的 层或与其所支撑的层有良好热接触的部分, 和位于这两部分之间的 绝热部分。 根据本发明的又一个方面, 第一或第二支撑机构接近衬 底或与衬底有良好热接触处的部分和接近其所支撑的层或与其所 支撑的层有良好热接触的部分在温度变化时形变方向相反。
根据本发明的另一个方面, 第一或第二支撑机构上含第一附加 层或附加层组和第二附加层或附加层组, 所述第一附加层或附加层 组和第二附加层或附加层组分别包括两部分, 其中所述总共四个部 分分别按照第一附加层或附加层组的第一部分、 第一附加层或附加 层组的第二部分、 第二附加层或附加层组的第一部分以及第二附加 层或附加层组的第二部分的顺序粘合在臂身上, 其中第一附加层或 附加层组的第一部分与第二附加层或附加层组的第二部分位于臂 身的同侧表面上, 第一附加层或附加层组的第二部分与第二附加层 或附加层组的第一部分位于臂身的相反的同侧表面上。
根据本发明的另一个方面, 所述第一膜层结构和所述第二膜层 结构中的所述至少一个膜层结构吸收红外光之外某一波长的光, 用 于构成针对该波长光的传感器。
根据本发明的又一个方面, 其中所述衬底上包含其它器件或电 路, 如 CMOS或 CCD成像器件和电路。
根据本发明的再一个方面, 当本发明的红外传感器工作于透射 模式时, 所述红外反射膜为对参照光透明的材料; 当所述红外传感 器工作于反射模式时, 所述红外反射膜为对参照光透明的材料或者 金属材料。
根据本发明的还有一个方面, 提供一种盲元, 用于感测器件环 境温度, 所述盲元包括: 衬底; 第一膜层结构; 第二膜层结构; 形 成于所述第一膜层结构和所述第二膜层结构之间的空隙; 其中: 参 照光从所述第一膜层结构和所述第二膜层结构中的一个膜层结构 入射, 从另一膜层结构透射出来; 当所述空隙变化时, 所述反射回 来的参照光或从另一膜层结构透射出的参照光的强度发生变化; 所 述第一膜层结构和所述第二膜层结构中的至少一个膜层结构吸收 红外线并与所述衬底热连接; 当红外线入射所述第一膜层结构和所 述第二膜层结构时, 所述第一膜层结构和所述第二膜层结构之间的 空隙不发生变化; 并且其中: 当环境温度变化时, 所述空隙的距离 发生变化; 通过探测从所述第二膜层结构透射出的参照光的强度的 变化, 从而测量到器件环境温度。 此外, 盲元中的所述支撑机构为 高热导的材料; 或者所述支撑机构有较大宽度或厚度或者具有较大 横截面积, 或者所述支撑机构包括多个臂, 以增加所述第一膜层结 构或所述第二膜层结构到所述衬底的热传导。
根据本发明的还有一个方面, 所述盲元中所述第一膜层结构和 所述第二膜层结构中靠近入射红外线的那一膜层结构是红外反射 膜, 或者在所述第一膜层结构和所述第二膜层结构中靠近入射红外 线的那一膜层结构的上表面或下表面或层间有红外反射膜。
另一种盲元的结构包括: 衬底, 位于衬底上的第一膜层结构, 位于第一膜层结构上的介质, 以及介质之上的第二膜层结构, 所述 第一膜层结构、 所述介质以及所述第二膜层结构共同构成干涉仪; 其中: 当红外线入射所述第一膜层结构和所述第二膜层结构时, 所 述介质的折射率不发生变化; 当环境温度变化时, 所述介质的折射 率发生变化, 导致从所述第一膜层结构或第二膜层结构透射出的参 照光的强度发生变化, 而且从所述第一膜层结构或第二膜层结构反 射回来的参照光的强度发生变化; 通过探测从所述第二膜层结构透 射出的参照光的强度的变化或者探测所述反射回来的参照光的强 度的变化, 从而测量到器件环境温度。
根据本发明的还有一个方面, 所述干涉仪通过支撑机构与衬底 连接, 同时与衬底有良好的热接触。
根据本发明的还有一个方面, 其中所述干涉仪的上表面或下表 面或层间有红外反射膜。
根据本发明的又一个方面, 提供一种焦平面阵列, 该焦平面阵 列包含任何一种或多种本发明的红外传感器阵列。 另外, 还提供另 一种焦平面阵列, 其包括任何一种或多种红外传感器和一种或多种 本发明的盲元。
根据本发明的另一个方面, 提供一种红外成像系统, 包括: 参 照光光源; 根据本发明的焦平面阵列; 以及检测器, 用于检测参照 光的读出光波光强。 其中参照光光源可以是发光二极管, 检测器可 以是 CCD或 CMOS成像芯片。
本发明利用光学干涉的原理, 灵敏度高。 直接探测透射或反射 光强度, 而不是偏转, 容易实现。 并且本发明利用空隙作为谐振腔, 悬浮反射层只是一个反射膜层, 热容小, 响应时间短, 并且空隙的 距离随温度变化大, 温度分辨率高。 附图说明
当结合附图考虑下述详细说明时, 将可以理解本发明的优选实 施方式, 并可以得到其众多目的、 特征以及优势, 其中:
图 1A-C示出了根据本发明一个实施方式的红外传感器的示意 图; 图; ; ^ 、
图 1G示出了根据本发明一个实施方式的红外传感器光谱和参 照光光谱; 图 1H示出了根据本发明进一步实施方式的红外传感器光谱; 图 2A-C示出了根据本发明一个实施方式的红外传感器的回旋 式悬梁臂;
图 3A-C示出了根据本发明一个实施方式的红外传感器的单臂 型悬梁臂;
图 4A-B示出了根据本发明一个实施方式的红外传感器的两种 转折式悬梁臂;
图 5A-5B示出了根据本发明一个实施方式的红外传感器的微桥 结构悬梁臂的俯视图和侧视图示意;
图 6示出了根据本发明一个实施方式的红外传感器中用于增强 红外线反射的红外反射膜的位置图;
图 7A-C示出了根据本发明一个实施方式的红外传感器中用于 温度补偿的悬梁臂结构; 虚线表示悬梁臂温度均匀变化时的变形。
图 8示出了根据本发明一个实施方式的红外传感器中用于温度 补偿的第一悬浮反射层和第二悬浮反射层的结构; 以及
图 9A-C示出了根据本发明一个实施方式的红外成像系统中用 于温度补偿的盲元结构。 具体实施方式
下面将结合附图详细描述本发明的实施方式。
图 1A- C示出了根据本发明一个实施方式的红外传感器的示意 图。 参见图 1A - C, 该红外传感器包括: 衬底 101; 反射层 103, 该 反射层可以位于衬底 101的上面, 或者可以悬浮于衬底 101之上; 悬浮反射层 104, 悬浮反射层 104悬浮于反射层 103之上, 从而在 悬浮反射层和反射层 103之间形成一个空隙; 以及悬梁臂 106, 它 用于将悬浮反射层 104支撑于衬底 101上。 替换地, 悬梁臂 106也 可将悬浮反射层 104支撑于位于衬底上表面的反射层 103上, 如图 5B所示。 接着参考图 1A - C, 衬底 101可使用硅片或其他半导体衬 底。 如果该红外传感器工作在透射模式, 村底 101需对入射参照光 102透明, 优选地, 衬底 101可选用玻璃衬底, 但是也可以选用其 它透明材料, 或选用不透明材料, 在衬底需透光的部分掏空。 下层 反射层 103位于衬底 101上,其通常用两种不同折射率的材料交替, 其中每层厚度相当于四分之一参照光在介质中的波长, 即真空波长 除以折射率, 从而形成布拉格反射镜, 其对参照光有高反射。 反射 层 103的材料可以是氧化硅( Si02 )、 无定形硅(a-Si)等。 优选地, 反射层 103例如可使用五层结构: a- Si/Si02/a- Si/Si02/a- Si, 每 层厚度为四分之一参照光在介质中的波长。 悬浮反射层 104的设计 与衬底 101上的反射层 103类似, 悬浮反射层 104与反射层 103之 间有一个空隙 105, 共同形成一个法布里 -珀罗 (FP)干涉仪。 悬浮 反射层 104通常用两种或两种以上的不同折射率的材料交替, 其中 每层厚度相当于四分之一参照光在介质中的波长, 其材料例如可以 为氧化硅 (Si02) 、 氮化硅(SiNx)、 无定形硅(a-Si)等。 为了使悬 浮反射层 104对红外线有良好的吸收, 在悬浮反射层 104中可以有 具有对红外线有良好吸收的材料, 在本发明中称为红外吸收材料, 其构成的膜称为红外吸收膜。 在 8到 14微米间的某些波长有强的 吸收峰的材料是红外吸收材料, 例如氮化硅, 在 11.4微米附近有 对的红外线的吸收峰。 优选地, 悬浮反射层 104例如可使用五层结 构: SiNx/Si02/a-Si/Si02/SiNxo 悬浮反射层 104和反射层 103及 其之间的空隙所形成的干涉仪还选择性透射某一波长的光, 所透射 的光为本发明中的参照光。 悬浮反射层 104和反射层 103分别为反 射镜。 悬梁臂 106可以有一个或多个, 每一个悬梁臂 106的一端固 定到衬底 101, 或者固定到与衬底 101上表面上的反射层 103上, 而另一端与悬浮反射层 104连接, 起到支撑悬浮反射层 104和绝热 的作用, 悬梁臂 106的横截面积越小、 臂身越长、 热导率越小, 则 绝热效果越显著。 在本发明中, 悬梁臂 106上另有一层附加层 107, 该附加层 107的热膨胀系数与悬梁臂 106臂身的热膨胀系数不同。 优选情况下, 附加层 107的热膨胀系数大于悬梁臂 106臂身的热膨 胀系数, 例如附加层 107的热膨胀系数比悬梁臂 106臂身热膨胀系 数大百分之五十以上, 或者, 小百分之三十五以上。 优选地, 附加 层 107为金属层, 悬梁臂 106为非金属层。 由于悬梁臂 106具有绝 热作用, 从而在悬浮反射层 104吸收红外线导致温度上升后, 其热 量不会马上传到衬底,而是在悬梁臂 106及其附加层 107温度上升, 从而从悬浮反射层到衬底之间形成温度梯度, 因此当悬浮反射层 104吸收红外线 108而导致温度升高时, 悬梁臂 106和附加层 107 的温度也升高,发生热膨胀。 由于不同材料膨胀量不同, 悬梁臂 106 往上或往下弯曲。 由于悬梁臂 106对角对称分布, 如图 1B所示, 导致悬浮反射层 104平行于衬底 101上下移动, 从而形成于悬浮反 射层 104和反射层 103之间的空隙发生变化, 则悬浮反射层 104、 反射层 103以及它们之间的空隙形成的 FP干涉仪中的谐振波长发 生偏移, 因此从该 FP干涉仪透射或反射的参照光的强度发生改变。 因此, 通过探测参照光透射或反射的强度的变化, 可以知道悬浮反 射层 104偏移的距离, 从而检测出入射红外线 108的强度。 此外, 该红外传感器的一种替换形式如图 1D所示。 该红外传感器不包括 反射层, 而只包括: 衬底 101; 悬浮在衬底 101之上的悬浮反射层 104, 从而在悬浮反射层 104和衬底 101之间形成一个空隙; 以及 悬梁臂 106, 它用于将悬浮反射层 104支撑于衬底 101上。 在这种 替换方式中, 在衬底 101和悬浮反射层 104之间的空隙形成干涉效 应, 从而按照与前述实施例相同的原理, 在红外线入射时, 悬浮反 射层 104吸收红外线导致温度变化, 从而引起空隙距离的变化, 从 而测量到参照光透射或反射的强度变化来检测入射红外线 108的强 度。
根据本发明的红外传感器还可以有许多种不同的结构。 图 1D- 1F示出了其中一些替换结构。 在图 1D中, 红外传感器包括悬浮反 射层 104, 衬底 101, 以及悬梁臂 106。 在这个替换结构中, 衬底 101充当了反射层的角色, 或者说衬底 101与反射层成为一体。 红 外线 108射入悬浮反射层 104,从而悬浮反射层 104温度发生变化, 导致悬浮反射层 104与衬底 101之间的空隙发生变化, 结果, 透射 或反射的参照光发生变化, 通过测量透射或反射的参照光来测量红 外线。 在图 1E中, 衬底 101位于悬浮反射层 104和反射层 103的 上方, 其中衬底 101在传感器反射层中部为中空的, 用于从衬底上 方入射参照光或红外线。 其中反射层 103可以位于衬底 101的下表 面上, 也可以呈悬浮状, 通过支撑机构而被支撑于衬底 101的下表 面上。 悬浮反射层 104被支撑于衬底 101的下表面上。 与前面的原 理相同, 从而当红外线从反射层 103的方向入射时, 反射层 103比 悬浮反射层 104吸收更多的热量, 从而形成于悬浮反射层 104和反 射层 103之间的空隙发生变化, 则悬浮反射层 104、 反射层 103以 及它们之间的空隙形成的 FP干涉仪中的谐振波长发生偏移, 因此 该 FP干涉仪透射或反射参照光的光量发生变化, 从而透射或反射 参照光 109的强度发生改变。图 1F中的结构与图 1E中的结构类似, 所不同之处在于反射层 103直接位于衬底 101的下表面上, 在红外 线从反射层 103的方向入射时, 设计反射层使得红外线较多穿过反 射层 103, 被悬浮反射层 104吸收, 导致悬浮反射层 104形变, 导 致空隙发生变化。 图 1F的红外传感器的原理与图 1E的相类似, 在 此不再重复累述。
另外, 本发明的红外传感器还可以是其它形式的结构, 例如图 1F中反射层位于悬浮反射层的上方,只要选择反射层透射更多红外 线, 悬浮反射层吸收更多红外线, 从而使二者及其之间的空隙所形 成的干涉效应能随着红外线发生变化从而观测到参照光的变化来 进行检测。 而且, 悬浮反射层的支撑机构可以支撑于衬底上, 也可 以支撑于反射层上, 或者支撑于反射层的支撑机构上, 只要保持悬 浮反射层为悬浮状即可。 此外, 还可以根据具体需要来选择衬底, 例如衬底可以是 CMOS或 CCD成像芯片或晶圆。 而且, 除了本发明 的红外传感器之外, 衬底上也可以有其它电路和器件, 例如成像电 路, 控制电路等等。
图 1G示出了根据本发明一个实施方式的红外传感器光谱和参 照光光谱。 红外传感器在无红外线射入时的参照光透射光谱如曲线 121所示。 当有红外线射入时, 悬浮反射层 104的温度因为吸收红 外线而发生变化, 从而悬浮反射层 104以及悬梁臂 106发生膨胀, 导致悬浮反射层 104上下移动, 从而悬浮反射层 104与反射层 103 之间的空隙的高度随之变化, 得到光谱如曲线 122所示。 在两个光 谱之间, 除谐振波长不同之外, 形状也可能不同。 用作读出的参照 光的光谱如曲线 123所示。 红外传感器在无红外线射入时, 参照光 的读出光波透射过像素的光强为参照光光强乘以透射率, 用曲线 121和曲线 123的相交面积 124代表。 红外传感器在有红外线射入 时, 参照光的透射过的读出光波光强增强了, 增加的那部分用面积 125代表。 因此, 利用 MEMS的制作方法, 在悬浮反射层 104和反射 层 103之间形成以空气或真空为谐振腔的 FP干涉仪并使用由不同 材料构成的悬梁臂 106, 当红外线 108入射时悬浮反射层 104和悬 梁臂 106温度上升发生形变, 导致悬浮反射层 104和反射层 103之 间的空隙, 即谐振腔的高度发生变化, 使 FP谐振波长改变, 参照 光 102的透射强度随之变化。 本发明的红外传感器具有灵敏度高, 响应频率快, 容易生产, 均匀性好, 成像系统简单等优点。
利用 FP谐振的原理,参照光的透射或反射强度随空隙距离的变 化很敏感。 在不需要很高灵敏度的情况下, 可以设计反射膜使得 FP 的谐振峰较宽, 参照光的透射或反射随空隙距离的变化较不敏感。 或者不必是严格的 FP干涉仪, 只需设计上下反射膜使得空隙距离 的变化会引起参照光的透射或反射的变化即可。 因此, 如图 1H所 示, 在本发明的另一个实施方式中, 如此来设计红外传感器的反射 层与悬浮反射层: 衬底为玻璃, 下层反射层为一层无定形硅, 厚度 为 200nm。 悬浮反射层从下到上依次为: 50nm无定形硅 /1 OOnm氟化 镁 /400nm氮化硅。 空隙为 1200nm。 此结构中, 反射层和悬浮反射 层均非严格的布拉格反射镜。 此结构的透射光谱如图 1H所示。 该 图仅是示意性的, 仅用于说明的目的, 在实践中透射光谱可能由于 材料参数等因素而会有所不同。 模拟结果表明, 空隙的距离发生改 变时, 此结构的光谱会发生变化。 对于此种结构, 参照光的波长可 在图 1 H中虚线所示的波长附近选择。 在这些波长附近, 空隙距离 变化时参照光的透射或反射同样会发生变化, 从而可以应用本发 明。
在本发明的又一个实施方式中, 根据本发明的红外传感器也可 被修改为用于其它波长, 比如被实现为用于探测紫外线的紫外传感 器。 例如, 悬浮反射层可对某一波长的光有吸收, 对参照光没有吸 收, 而悬浮反射层和反射层及这二者之间的空隙所形成的干涉仪透 射或反射参照光, 用于构成针对该波长光的传感器。 优选地, 所述 某一波长的光为紫外光。 因此, 可以按照具体需要选择反射层与悬 浮反射层的层数以及材料, 从而使得悬浮反射层对于某一特定波长 的光进行吸收, 实现对于该特定波长光波的测量; 也可以按照需要 选择反射层与悬浮反射层的层数以及材料, 从而使得反射层和悬浮 反射层为非布拉格反射镜, 同样可以实现对于某个特定波长光波的 测量。 上述内容同样不偏离本发明的精神和范围。
在本发明的红外传感器中, 悬梁臂 206将悬浮反射层 204支撑 于衬底上, 其采用各种结构以使悬浮反射层 204在温度上升时上下 平移。 图 2A-C示出了根据本发明一个实施方式的红外传感器的回 旋式悬梁臂 206。 回旋式悬梁臂 206其臂身围绕着悬浮反射层 204 的周围回旋, 形成具有旋转对称性的回旋式结构。 悬梁臂 206包括 臂身和附加层 210, 图 2A和 2C中每个悬梁臂 206上有一个附加层 21 0 , 该附加层 210可位于每个悬梁臂 206的上表面或下表面。 图 2B中每个悬梁臂 206上有两个附加层 210, 每个悬梁臂 206上的两 个附加层 21 0可位于每个悬梁臂 206的同侧表面上, 例如上表面或 下表面。 图 2A-C所示的结构中, 悬梁臂 206中的附加层 210通常 采用热膨胀系数大的金属, 因此热导大。为增加悬梁臂 206的热阻, 使悬浮反射层 204的温度在相同的红外线入射情况下升高较大温 度, 从而增强像素的响应度, 可增加悬梁臂 206的长度, 采用回旋 式结构, 其中悬梁臂 206的一部分没有金属, 使之热阻较大。 回旋 臂结构具有旋转对称性,温度变化时悬浮反射层 204上下平行移动。 其中悬浮反射层 204可以是各种形状,例如正方形、正六边形等等。 图 3A-C示出了根据本发明另一实施方式的单臂型悬梁臂 306的 红外传感器。 该红外传感器包括衬底 301, 反射层 303 , 悬浮反射 层 304 , 悬梁臂 306 , 位于悬梁臂 306上的附加层 310和 310, 。 用 单臂结构时金属附加层的一部分 310在悬梁臂 306上面, 金属附加 层的另一部分 31 0, 在悬梁臂 306下面, 如图 3B所示。 温度变化时 两部分的偏转量相叠加, 而偏转角相抵消, 悬浮反射层 (未在图中 示出) 上下平行移动。 单臂结构的优点是应力和热导较小。 单臂结 构可以采用直单臂结构, 如图 3A所示; 或者采用转折单臂结构, 如图 3C所示, 该转折式单臂结构是在悬浮反射层 304的一侧来回 转折, 形成紧凑、 规矩的平面结构。
图 4A示出了根据本发明再一实施方式的红外传感器的对角对 称的转折式悬梁臂 406A。 悬梁臂 406A可多次转折, 每段悬梁臂的 位移相叠加, 可加大悬浮反射层的位移。 图 4A中的结构同时也是 一种回旋式结构, 所以图 4A中的悬梁臂 406A是一种回旋转折式悬 梁臂。 图 4B示出了根据本发明实施方式的红外传感器的镜面对称 的转折式悬梁臂 406B。
以上提到的各种悬梁臂的结构中, 悬梁臂中不同材料的热膨胀 系数不同导致在温度改变时发生形变。 而本发明的另一个实施方式 中的微桥结构的悬梁臂与之不同。 微桥结构中, 悬浮反射层以及悬 梁臂的热膨胀本身引起悬浮反射层的上下移动, 其悬梁臂的构成可 以只包括由相同的一种材料或者包括由多种材料所构成的相同的 混合材料, 不需要附加层。 图 5A- 5B示出了根据本发明实施方式的 红外传感器的微桥结构悬梁臂的俯视图和侧视图。 微桥结构的悬梁 臂 506可以只包括相同材料,优选地,该材料可以是热的不良导体。 悬浮反射层 504在吸收红外线后, 温度升高, 从而悬浮反射层以及 悬梁臂的热膨胀引起悬浮反射层 504上下移动,导致空隙发生变化, 进而透射或反射的参照光的强度发生变化, 因此可以通过测量透射 或反射的参照光来测量入射的红外线。 本发明的红外传感器的悬浮反射层吸热后产生可探测的信号。 在相同的红外线入射强度下, 吸收越多, 悬浮反射层的温度升高越 多, 产生的信号越强。 红外线入射到悬浮反射层上, 一部分被反射, 一部分被吸收而产生信号, 其余部分的红外线被透射。 透射部分到 达衬底后, 一部分红外线进入衬底被吸收 (不产生有用的信号) , 一部分红外线反射回来, 被悬浮反射层吸收, 以此类推。 被反射回 来的红外线越多, 被悬浮反射层再次吸收的越多。 为了提高悬浮反 射层对于红外线的吸收, 本发明的另一实施方式如图 6所示。 图 6 示出了根据本发明一个实施方式的红外传感器中用于增强红外线 反射的红外反射膜 607的位置图。 本发明中所说的红外反射膜是指 对红外线有强的反射的材料构成的膜, 包括所有的导电材料, 如金 属, Ι Τ0, InZnO和 ZnO等。红外反射膜 607对红外线有高反射性能, 因此, 如图 6所示, 本发明的红外传感器采用红外反射膜 607来将 从悬浮反射层透射的红外线再反射回悬浮反射层, 从而尽可能多地 让悬浮反射层吸收更多的红外线。 氧化铟锡( I TO)是在液晶显示领 域里广泛使用的透明电极。 其特点是既透明又导电。 其他具有类似 性质的材料有氧化铟锌(InZnO)和氧化锌(ZnO)等, 所以本发明中的 红外反射膜 607优选地可以是 IT0、 InZnO或 ZnO等。 由于导电, 这些材料对红外线有强的反射。 因此, 可以在衬底上镀 IT0等透明 导电薄膜来增强悬浮反射层对入射红外线的吸收。 IT0等透明导电 薄膜作为红外反射膜 607可以直接镀在衬底 601上, 或作为下层反 射层 603中的一层或多层, 或位于下层反射膜层 603的上表面或下 表面,如图 6所示。 当根据本发明的红外传感器工作于反射模式时, 由于不需要从反射层 603或者衬底 601透射参照光以便读取读出 光, 而是通过读取参照光的反射光来检测入射红外线, 所以反射模 式时, 反射层 603或者衬底 601可以是不对参照光透明的材料, 例 如金属。
在上述各种结构中, 当环境温度变化时, 该结构本身温度的升 高将导致形变, 产生信号。 因此该结构温度的升高可能是由入射红 外线引起, 也可能是其本身所在环境的温度变化引起。 基于 MEMS 结构的红外传感器通常不能区分自身环境温度和物体温度所引起 的变化。 以双层材料结构为例, 像素在吸收物体发出的红外线时会 发生形变。 同样, 当其自身微小的温度变化时也会发生形变, 这种 形变如果不能被正确区分,就产生伪图像。 因此为防止这种伪图像, 可以把像素精确控制在某个温度, 难度较大。 或者, 制作一种像素, 使其在本身温度变化时不产生形变, 只有在吸收物体红外线时才发 生形变。 为了实现更好的效果, 必须对环境温度进行补偿, 以使本 发明的红外传感器只对入射红外线引起的温度升高进行测量从而 实现更准确的红外传感器。 本发明的一个实施方式如图 7A - 7C所 示。 图 7A是该实施方式的一种简单的示意图, 其中可以看到悬梁 臂分成三部分: 与衬底连接处接近的第一部分含有附加层; 与悬浮 反射层接近的第二部分含有另一附加层; 介于这两部分之间的无附 加层的第三部分, 用于绝热。 所以环境温度变化时含有附加层的两 部分的形变相反, 效果相抵消, 从而悬浮反射层不发生偏移。 另外, 如图 7B所示, 所述悬梁臂可以是直臂结构, 并且悬梁臂上的多个 附加层的材料可以不同。 例如, 悬梁臂上侧的附加层的材料与悬梁 臂下侧的附加层的材料不同。 图 7A和 7B中的虚线表示在环境温度 变化时悬梁臂的变形, 在理想情况下悬梁臂在支撑悬浮反射层的一 端不发生位移, 即本发明中所说的各形变抵消。 而在红外线入射时, 从悬浮反射层到衬底存在温度梯度, 各形变不能完全抵消。 下面参 见图 7C详细描述另一种形式。 其中的悬梁臂有三部分: 与衬底连 接处接近的第一部分含有附加层 710; 与悬浮反射层 704接近的第 二部分含有另一附加层 711 ; 以及介于这两部分之间的无附加层的 第三部分, 用于隔热。 当环境温度变化时, 第一部分和第二部分所 发生的形变正好相反, 两者效果抵消, 悬浮反射层 704上下不发生 偏移。 而当红外线入射到悬浮反射层 704时, 从悬浮反射层 704到 衬底有温度梯度。 靠近悬浮反射层 704的悬梁臂第二部分的温度与 悬浮反射层 704接近而发生形变; 接近衬底连接处的悬梁臂第一部 分的温度和衬底接近, 没有形变或形变较小, 两者不能充分抵消, 因此悬浮反射层 704上下偏移, 产生信号。 为了实现悬梁臂第一部 分与第二部分的形变相反,则附加层 710和附加层 711的布置相反。 具体布置如下: 附加层 710包括第一附加层 710'和第二附加层 710" , 附加层 711包括第三附加层 711, '和第四附加层 711" 。 附 加层 710中与附加层 711中相互靠近的两个附加层位于同一侧, 即 附加层 710的第二附加层 710" 与附加层 711的第三附加层 711, 位于臂身的同一侧, 例如位于臂身的下表面; 而附加层 710中与附 加层 711中相互远离的两个附加层位于相反的同一侧,即附加层 710 的第一附加层 710, 与附加层 711的第四附加层 711" 位于臂身的 同一侧, 例如位于臂身的上表面, 从而实现温度补偿。 此外, 所述 附加层的数目可以任意选择, 只要接近于悬浮反射层 704的一个或 多个附加层的形变与接近于村底 701的一个或多个附加层的形变相 反。
本发明的另一个实施方式是用双悬浮层来实现温度补偿, 从而 使红外传感器的灵敏度更准确。 图 8示出了根据本发明实施方式的 红外传感器中用于温度补偿的双悬浮层结构。 该结构是将下层的反 射层也做成悬浮状, 也由与图 1A中的实施方式中结构相同的悬梁 臂支撑。 第一悬浮反射层 804、 第二悬浮反射层 806和它们之间的 空隙形成干涉仪, 其中第一悬浮反射层 804由悬梁臂 810支撑于衬 底上。 第二悬浮反射层 806由悬梁臂 811支撑于衬底上。 当环境温 度变化时,第一悬浮反射层 804与第二悬浮反射层 806的变化一样, 从而保持两者之间空隙距离不变。 而当红外线入射时, 第一悬浮反 射层 804的吸收大于第二悬浮反射层 806的吸收,两者的形变不同, 空隙距离发生变化, 产生信号。 因此, 这种结构对红外传感器所在 环境的温度的变化没有响应, 而对入射红外线有响应, 从而实现温 度补偿。 在这种结构中, 为使第一悬浮反射层 804和第二悬浮反射 层 806对红外线的吸收区别更大以增强对入射红外线的响应, 可在 第二悬浮反射层 806中加入金属或 IT0等透明导电薄膜来增强反射 红外线。 这样, 第一悬浮反射层 804对入射红外线的吸收增强, 而 第二悬浮反射层 806对入射红外线的吸收很少或者基本为零。 从而 达到更好的温度补偿。 另外, 图 8中所示为示意性的, 在实际实施 中, 第一悬浮反射层 804和第二悬浮反射层 806的悬梁臂的长度可 以任意选择。 优选地, 第一悬浮反射层 804和第二悬浮反射层 806 的悬梁臂通常为相同长度和结构。 但是也可以根据具体的实施选择 相同或者不同长度和结构的悬梁臂。
本发明的再一个实施方式是用盲元结构来实现温度补偿。 在没 有温度补偿的情况下, 或在温度补偿不完全的情况下, 如果知道红 外传感器像素的温度, 则可以计算出伪图像, 将伪图像去掉, 得到 真实的红外图像。 为了检测红外传感器像素所处环境本身的温度, 可以在红外传感器阵列中制作盲元。 本发明中所说的 "盲元" 是指 对入射红外线没有响应或很小响应、 而对环境温度有明显响应的红 外线传感器像素结构。 根据盲元的这种响应性质来检测环境本身的 温度。 因为红外传感器阵列本身的温度可能不均勾, 可以在红外传 感器阵列中插入盲元阵列, 比如每 10x 10的红外传感器像素阵列中 制作一个盲元, 通过测量每个盲元的温度, 可以得出整个阵列的温 度分布。 在这个例子中, 传感器阵列中有百分之一的像素是盲元, 盲元所在位置的红外图像可以从周围正常的红外传感器像素插值 得到。 盲元只对本身温度变化有响应, 对入射红外线没有响应。 根 据本发明的盲元具有如下结构: 如图 9A, 衬底 901 ; 反射层 904 ; 位于所述衬底 901上的反射层 903以及两个反射层 903和 904之间 的介质 905 ,所述反射层 903、 904以及之间的介质 905形成干涉仪。 当环境温度变化时, 介质的折射率发生变化, 使得干涉仪的光谱发 生变化, 导致参照光的透射或反射强度发生变化, 因此可用于检测 环境温度。 而当红外线入射时, 由于盲元与衬底有良好的热接触, 其温度不因为吸收入射红外线而升高, 因此对入射红外线没有响 应。 另一种盲元结构如图 9B所示, 通过使悬浮反射层 904与衬底 热连接, 或不吸收入射红外线, 使入射红外线不引起盲元的温度升 高。该结构与本发明的红外传感器的结构相类似,其不同之处在于: 加大悬梁臂 906的热导, 使入射红外线不引起悬浮反射层温度的升 高, 因此不产生信号。 增加热导的方法可以是增加悬梁臂 906的宽 度, 厚度, 横截面积或数量等, 或釆用热导高的材料, 如金属; 可 以直接以双层金属层构成悬梁臂 906 ,使之对本身温度变化有响应。 因此当环境温度变化时, 所述空隙的距离发生变化, 从所述第一膜 层结构或第二膜层结构透射出的参照光的强度发生变化, 而且从所 述第一膜层结构或第二膜层结构反射回来的参照光的强度发生变 化; 通过探测从所述第二膜层结构透射出的参照光的强度的变化或 者探测所述反射回来的参照光的强度的变化, 从而测量到器件环境 温度。 再如, 在悬浮反射层 904上镀上 IT0等红外反射膜 907 , 其 对红外线有高反射性能, 如图 9C所示, 使入射红外线被反射, 没 有吸收, 因此不产生信号, 而其本身温度升高时仍然有响应。 图 9C 中, 红外反射膜也可以位于悬浮反射层 904之下或之中。 为了简洁 起见, 图中未示出反射层以及悬梁臂。
红外反射膜也可加在图 9A - 9C中的盲元或其他任何一种盲元 结构中, 使得盲元不吸收入射红外线。
在本发明的以上实施例中, 附加层可以是独立的一部分与臂身 相结合; 也可以位于臂身之中, 属于臂身的一部分而构成。
利用本发明的上述红外传感器结构, 可以排列所述红外传感器 从而形成焦平面阵列, 其中红外传感器可以是本发明任何实施例中 的红外传感器。 或者, 焦平面阵列可以包括任一种红外传感器和本 本发明的红外传感器和盲元结构共同形成的焦平面阵列还可以应 用于红外成像系统之中。 本发明的红外成像系统包括参照光光源; 本发明的焦平面阵列以及用于检测参照光的读出光波光强的检测 器。 在本发明的红外成像系统中, 像素吸收入射红外线后, 经焦平 面阵列透射或反射的参照光光强发生变化, 由读出检测器检测并成 像, 从而容易地测量到红外线。 本发明中所说的材料组合, 既指不同材料混合在一起, 也指不 同材料依次构成的膜层结构。 本发明中所说的臂身或附加层均可以 含多种或多层材料, 这些材料的热膨胀系数可以不同。 在这种情况 下, 可把由多种或多层材料构成的臂身当成一个整体, 具有一个整 体的热膨胀系数, 因此在本发明中称之为具有第一热膨胀系数的材 料组合, 而把由多种或多层材料构成的附加层当成一个整体, 称之 为具有第二热膨胀系数的材料组合。
另外, 本发明中提到的附加层广义地从功能上定义, 在温度变 化时, 此附加层与其他层的形变导致支撑机构的变形。 因此, 本发 明所说的附加层可以指在臂身材料以外的附加层; 另外, 此附加层 也可以是这样的层: 如果臂身本身含有两层或以上材料, 则臂身其 中的任何一层都可理解为此附加层, 而把其余各层看作一个整体, 即臂身。
以上结合附图详细描述了根据本发明的红外传感器通过探测 参照光透射的读出光来检测入射的红外线, 但是本发明同样可以通 过探测参照光反射的读出光来检测入射的红外线。 反射模式的工作 原理与上述实施例相似, 所不同之处仅仅在于观测的是参照光的反 射读出光的变化而非参照光的透射读出光的变化。 为了简洁的缘 故, 在此不详细描述反射模式的具体细节, 以免模糊本发明。
本发明的各个实施方式已经进行了详细描述, 但是本发明的范 围不限于此。 例如悬梁臂可以是除实施方式之外的其它方式, 比如 各种悬梁臂结构的组合等等, 且其形状、 厚度以及长度可以根据具 体的情况而选择不同。 悬浮反射层、 反射层的形状也可以是各种形 状, 并且悬浮反射层、 反射层的层数以及材料可以根据具体情况进 明公开的内容下, 本领域技术人员能够想到各种修改和附加, 但都 没有背离本发明的精神和范围。 可以理解: 本发明不限于在此作为 说明所阐述的特定实施方式, 而是包括如下述权利要求书范围内的 所有这种修改、 组合以及置换。 因此, 本发明的优选实施方式的描 述是为了说明而不是为了限制。

Claims (53)

  1. 权 利 要 求
    1. 一种红外传感器, 用于探测物体发出的红外线, 其中, 所 述红外传感器包括: 第一膜层结构; 第二膜层结构; 形成于所述第 一膜层结构和所述第二膜层结构之间的空隙; 其中: 参照光从所述 第一膜层结构和所述第二膜层结构中的一个膜层结构入射, 一部份 参照光反射, 一部份参照光从另一膜层结构透射出来; 当所述空隙 距离变化时, 从所述另一膜层结构透射出的参照光的强度发生变 化, 而且所述反射回来的参照光的强度发生变化; 并且其中: 当红 外线入射时, 所述第一膜层结构和所述第二膜层结构中的至少一个 膜层结构吸收红外线而导致所述第一膜层结构和所述第二膜层结 构中的所述至少一个膜层结构的温度发生变化, 从而导致所述空隙 的距离发生变化; 通过探测从所述另一膜层结构透射出的参照光的 强度的变化或者通过探测所述反射回来的参照光的强度的变化, 从 而测量到红外线。
  2. 2. 根据权利要求 1所述的红外传感器, 还包括: 衬底; 一个 或多个第一支撑机构, 用于将所述第一膜层结构支撑于所述衬底 上; 并且其中所述第二膜层结构直接位于所述衬底上。
  3. 3.根据权利要求 2所述的红外传感器, 其中: 所述第一支撑机 构的膜层结构和所述第一膜层结构的膜层结构相同。
  4. 4. 根据权利要求 2所述的红外传感器, 其中: 所述第一支撑 机构具有: 臂身, 其一端与所述第一膜层结构相连接, 另一端连接 到所述衬底上或者连接到所述第二膜层结构上; 附加层, 所述附加 层被结合在所述臂身上。
  5. 5. 根据权利要求 4所述的红外传感器, 其中: 所述臂身由具 有第一热膨胀系数的材料或材料组合构成; 所述附加层由具有第二 热膨胀系数的材料或材料组合构成, 其中: 第一热膨胀系数与第二 热膨胀系数不同。
  6. 6. 根据权利要求 5所述的红外传感器, 其中: 所述附加层为 金属层、 或具有比所述臂身热膨胀系数大百分之五十.以上或小百分 之三十五以上的材料层或材料层组。
  7. 7.根据权利要求 2所述的红外传感器, 其中所述衬底中间被掏 空形成中空部分。
  8. 8. 根据权利要求 1所述的红外传感器, 还包括: 衬底; 一个 或多个第一支撑机构, 用于将所述第一膜层结构支撑于所述衬底 上; 并且还包括一个或多个第二支撑机构, 用于将所述第二膜层结 构支撑于所述衬底上。
  9. 9. 根据权利要求 8所述的红外传感器, 其中: 所述第一支撑 机构或第二支撑机构的膜层结构与其所支撑的所述第一膜层结构 或第二膜层结构的膜层结构相同。
  10. 1 0. 根据权利要求 1 0所述的红外传感器, 其中: 所述第一支 撑机构具有: 臂身, 其一端与所述第一膜层结构相连接, 另一端连 接到所述衬底上、 或者连接到所述第二膜层结构上、 或者连接到所 述第二支撑机构上; 附加层, 所述附加层被结合在所述臂身上; 并 且其中所述第二支撑机构具有: 臂身, 其一端与所述第二膜层结构 相连接, 另一端连接到所述衬底; 附加层, 所述附加层被结合在所 述臂身上。
  11. 1 1. 根据权利要求 1 0所述的红外传感器, 其中: 所述臂身由 具有第一热膨胀系数的材料或材料组合构成; 所述附加层由具有第 二热膨胀系数的材料或材料组合构成, 其中: 第一热膨胀系数与第 二热膨胀系数不同。
  12. 12. 根据权利要求 1 1所述的红外传感器, 其中: 所述附加层 为金属层、 或具有比所述臂身热膨胀系数大百分之五十以上或小百 分之三十五以上的材料层。
  13. 1 3. 根据权利要求 8所述的红外传感器, 其中所述衬底中间被 掏空形成中空部分。
  14. 14. 根据权利要求 1 , 2 , 8中任一个所述红外传感器, 其中所 述第一膜层结构和所述第二膜层结构中离入射红外线近的那一膜 层结构是红外吸收膜, 或者所述第一膜层结构和所述第二膜层结构 中离入射红外线近的那一膜层结构的上表面或下表面或层间有红 外吸收膜。
  15. 1 5.根据权利要求 1 - 1 3任一个所述的红外传感器, 其中: 所 述第一膜层结构和所述第二膜层结构中离入射红外线远的那一膜 层结构是红外反射膜, 或者所述第一膜层结构和所述第二膜层结构 中离入射红外线远的那一膜层结构的上表面或下表面或层间有红 外反射膜。
  16. 16. 根据权利要求 15所述的红外传感器, 其中: 红外反射膜 为透明导电材料。
  17. 17. 根据权利要求 2 - 7任一个所述的红外传感器, 其中: 所 述第一支撑机构是如下结构之一: 直单臂结构、 转折式单臂结构、 旋转对称的回旋式结构、 以及对称结构。
  18. 18. 根据权利要求 2 - 7任一个所述的红外传感器, 其中: 所 述第一支撑机构分别是微桥结构, 所述微桥结构包括至少两个臂, 所述至少两个臂支撑所述第一膜层结构。
  19. 19. 根据权利要求 8 - 1 3任一个所述的红外传感器, 其中: 所 述第一和第二支撑机构的任何一个分别是如下结构之一: 直单臂结 构、 转折式单臂结构、 旋转对称的回旋式结构、 以及对称结构。
  20. 20. 根据权利要求 8 - 1 3任一个所述的红外传感器, 其中: 所 述第一和第二支撑机构分别是微桥结构, 用于支撑所述第一膜层结 构和所述第二膜层结构, 其中所述微桥结构包括至少两个臂。
  21. 21. 根据权利要求 8 - 1 3任一个所述的红外传感器, 其中: 所 述第一和第二支撑机构在环境温度变化时形变方向相同, 使得第一 膜层结构和第二膜层结构间的空隙不变。
  22. 22. 根据权利要求 4 - 6、 1 0 - 12任一个所述的红外传感器, 其中: 所述臂身部分在上方有附加层, 部分在下方有附加层。
  23. 2 3. 根据权利要求 1 - 1 3任一个所述的红外传感器, 其中: 所 述第一膜层结构和所述第二膜层结构分别为反射镜, 用于在所述第 一膜层结构和所述第二膜层结构之间形成相干效应。
  24. 24. 根据权利要求 1 , 2或 8任一个所述的红外传感器, 其中 所述第一膜层结构、 所述第二膜层结构包括多层材料, 所述多层材 料包括材料对称结构, 即材料的种类上下对称。
  25. 25. 根据权利要求 1, 2或 8任一个所述的红外传感器, 其中 所述第一膜层结构、 所述第二膜层结构由一层或多层材料构成, 所 述一层或多层材料包括氧化硅、 氮化硅或无定形硅。
  26. 26. 根据权利要求 1, 2或 8任一个所述的红外传感器, 其中 所述第一膜层结构、 所述第二膜层结构包括多层材料, 所述多层材 料包括材料对称五层结构: 无定形硅 /氧化硅 /无定形硅 /氧化硅 /无 定形硅, 或氮化硅 /氧化硅 /无定形硅 /氧化硅 /氮化硅。
  27. 27. 根据权利要求 1, 2或 8任一个所述的红外传感器, 其中 所述第一膜层结构、 所述第二膜层结构由一层或多层材料构成, 所 述一层或多层材料的每一层厚度为四分之一参照光介质波长。
  28. 28. 根据权利要求 2所述的红外传感器, 其中: 所述第二膜层 结构与所述衬底是一体结构。
  29. 29. 根据权利要求 1或 8所述的红外传感器, 所述衬底是对参 照光透明的材料, 半导体材料, 或者红外高反射材料。
  30. 30. 根据权利要求 2 - 7任一个所述的红外传感器, 其中: 所 述第一支撑机构包括如下部分: 一个或多个臂身, 由具有第一热膨 胀系数的材料或材料组合构成; 被结合在所述臂身上的多个附加 层, 所述多个附加层由具有第二或更多热膨胀系数的材料或材料组 合构成; 其中这样布置所述附加层: 使得当所述红外传感器本身环 境温度变化时所述第一支撑机构发生形变, 其各部分形变相叠加的 结果导致空隙距离不变; 而当红外线入射时, 所述第一膜层结构和 所述第二膜层结构中的至少一个膜层结构因吸收红外线而温度变 化, 导致所述第一支撑机构发生形变, 其各部分形变相叠加的结果 使空隙距离变化。
  31. 31. 根据权利要求 30所述的红外传感器, 所述支撑机构分为 三部分: 接近衬底或与衬底有良好热接触的部分, 接近其所支撑的 膜层结构或与其所支撑的膜层结构有良好热接触的部分, 和位于这 两部分之间的绝热部分。
  32. 32. 根据权利要求 30或 31所述的红外传感器, 支撑机构接近 衬底或与衬底有良好热接触处的部分和接近其所支撑的膜层结构 或与其所支撑的膜层结构有良好热接触的部分在温度变化时形变 方向相反。
  33. 33. 根据权利要求 2-7任一个所述的红外传感器, 其中: 所述 第一支撑机构包括如下部分: 一个或多个臂身, 由具有第一热膨胀 系数的材料或材料组构成; 被结合在所述臂身上的第一附加层或附 加层组和第二附加层或附加层组, 所述第一附加层或附加层组和第 二附加层或附加层组分别由具有第二或更多热膨胀系数的材料或 材料组构成, 其中所述第一附加层或附加层组被结合在所述臂身上 接近所述衬底或与所述衬底有良好热接触处, 第二附加层或附加层 组被结合在所述臂身上接近所述第一膜层结构或与所述第一膜层 结构有良好热接触处; 其中: 第一热膨胀系数与第二或更多热膨胀 系数不同。
  34. 34. 根据权利要求 33所述的红外传感器, 其中: 第一附加层 或附加层组和第二附加层或附加层组分别包括两部分, 其中所述总 共 个部分分别按照第一附加层或附加层组的第一部分、 第一附加 层或附加层组的第二部分、 第二附加层或附加层组的第一部分以及 第二附加层或附加层组的第二部分的顺序粘合在臂身上, 其中第一 附加层或附加层组的第一部分与第二附加层或附加层组的第二部 分位于臂身的同侧表面上, 第一附加层或附加层组的第二部分与第 二附加层或附加层组的第一部分位于臂身的与所述同侧表面相反 的另一同侧表面上。
  35. 35. 根据权利要求 1 - 13任一个所述的红外传感器, 其中所述 第一膜层结构和所述第二膜层结构中的所述至少一个膜层结构吸 收红外光之外某一波长的光, 用于构成针对该波长光的传感器。
  36. 36. 根据权利要求 2 - 1 3任一个所述的红外传感器, 其中所述 衬底上包含其它器件或电路。
  37. 37. 根据权利要求 2 - 1 3任一个所述的红外传感器, 其中所述 衬底是 CMOS或 CCD成像器件和电路。
  38. 38.—种盲元, 用于感测器件环境温度, 所述盲元包括: 衬底, 位于衬底上的第一膜层结构, 位于第一膜层结构上的介质, 以及在 介质之上的第二膜层结构, 所述第一膜层结构、 所述介质以及所述 第二膜层结构共同构成干涉仪; 其中: 当红外线入射所述干涉仪时, 所述干涉仪的温度不因此而变化或变化很小, 所述介质的折射率不 发生变化; 当环境温度变化时, 所述介质的折射率发生变化, 导致 从所述第一膜层结构或第二膜层结构透射出的参照光的强度发生 变化, 而且从所述第一膜层结构或第二膜层结构反射回来的参照光 的强度发生变化; 通过探测从所述第一膜层结构或第二膜层结构透 射出的参照光的强度的变化或者探测所述反射回来的参照光的强 度的变化, 从而测量到器件环境温度。
  39. 39. 根据权利要求 38所述的盲元, 所述干涉仪通过支撑机构 与衬底连接, 所述支撑机构具有高热导。
  40. 40. 根据权利要求 38所述的盲元, 所述干涉仪上、 下或中间 有红外反射膜层。
  41. 41. 一种盲元, 用于感测器件环境温度, 所述盲元包括: 衬底; 第一膜层结构; 第二膜层结构; 形成于所述第一膜层结 构和所述第二膜层结构之间的空隙; 其中: 参照光从所述第一膜层 结构和所述第二膜层结构中的一个膜层结构入射, 从另一膜层结构 透射出来; 当所述空隙变化时, 从所述另一膜层结构透射出的参照 光的强度发生变化; 当红外线入射所述第一膜层结构和所述第二膜 层结构时, 所述第一膜层结构和所述第二膜层结构之间的空隙不发 生变化; 并且其中: 当环境温度变化时, 所述空隙的距离发生变化, 从所述第一膜层结构或第二膜层结构透射出的参照光的强度发生 变化, 而且从所述第一膜层结构或第二膜层结构反射回来的参照光 的强度发生变化; 通过探测从所述第二膜层结构透射出的参照光的 强度的变化或者探测所述反射回来的参照光的强度的变化, 从而测 量到器件环境温度。
  42. 42. 根据权利要求 41所述的盲元, 还包括: 一个或多个支撑 机构, 用于将所述第一膜层结构或所述第二膜层结构支撑于衬底 上、 或者用于将所述第一膜层结构和所述第二膜层结构支撑于衬底 上, 以保持所述第一膜层结构与所述第二膜层结构之间具有所述空 隙。
  43. 43. 根据权利要求 42所述的盲元, 其中: 所述支撑机构具有: 臂身, 其一端与所述第一膜层结构和第二膜层结构中的其中一层相 连接, 另一端连接到所述衬底上或者连接到所述第一膜层结构和第 二膜层结构中的另一膜层结构上, 或其他支撑机构上; 附加层, 所 述附加层被结合在所述臂身上。
  44. 44. 根据权利要求 43所述的盲元, 其中: 所述臂身由具有第 一热膨胀系数的材料或材料组合构成; 所述附加层由具有第二热膨 胀系数的材料或材料组合构成, 其中: 第一热膨胀系数与第二热膨 胀系数不同。
  45. 45. 根据权利要求 39 , 42 - 44任一个所述的盲元, 其中, 所 述第一膜层结构和所述第二膜层结构中靠近入射红外线的那一膜 层结构是红外反射膜, 或者在所述第一膜层结构和所述第二膜层结 构中靠近入射红外线的那一膜层结构的上表面或下表面或层间有 红外反射膜。
  46. 46. 根据权利要求 45所述的盲元, 其中, 所述红外反射膜是 透明导电材料。
  47. 47. 一种焦平面阵列, 包括如权利要求 1-40中任何一种或多 种所述红外传感器的排列。
  48. 48. 一种焦平面阵列, 包括如权利要求 41- 46中任何一个所述 的盲元。
  49. 49. 根据权利要求 48所述的焦平面阵列, 还包括如权利要求 1-40中任何一种或多种所述红外传感器,其中所述盲元的所述支撑 机构的热导大于在同一焦平面上的所述红外传感器的所述第一支 撑机构或所述第二支撑机构的热导。
  50. 50. 根据权利要求 48所述的焦平面阵列, 还包括如权利要求 1-40中任何一种或多种所述红外传感器,其中所述盲元的所述支撑 机构的横截面积大于在同一焦平面上的所述红外传感器的所述第 一支撑机构或所述第二支撑机构的横截面积, 或者所述支撑机构短 于在同一焦平面上的所述红外传感器的所述第一支撑机构或所述 第二支撑机构, 或者所述支撑机构的臂身数量多于在同一焦平面上 的所述红外传感器的所述第一支撑机构或所述第二支撑机构的臂 身数量。
  51. 51.—种红外成像系统, 包括: 参照光光源; 如权利要求 47 - 50 任一个所述的焦平面阵列; 以及检测器, 用于检测参照光的读出光 波光强。
  52. 52. 根据权利要求 51所述的红外成像系统, 其中参照光光源 是发光二极管。
  53. 53. 根据权利要求 52所述的红外成像系统, 其中检测器是 CCD 或 CMOS成像芯片。
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