CN101781831A - 一种针织机沉降片的改进结构 - Google Patents

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邵仁俊
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Abstract

本发明公开了一种针织机沉降片的改进结构,其基体呈几何平面状,它由片鼻、片喉、片颚和片踵组成;在片鼻、片喉、片颚的厚度方向两边下凹,形成中间低、两边高的对称凹陷的凹槽;在片踵的厚度方向两边下凹,形成中间低、两边高的对称凹陷的凹槽。由于本发明对位于基体后部的片踵进行了改进,将片踵厚度方向两边下凹,形成中间低、两边高的对称凹陷的凹槽,从而减少沉降片与沉降片圆环槽的摩擦面积,由原来的整个面接触变为局部的线接触,而产生足够的间隙,减少摩擦面积。而且因为两边凹槽和沉降片圆环槽所产生的间隙变大,可以包含更多的润滑油在其中,增加润滑功能,使得沉降片、针筒的使用寿命更长。

Description

一种针织机沉降片的改进结构
技术领域
本发明涉及一种针织机,特别是涉及一种针织机沉降片的改进结构。
背景技术
针织机的织针在具有规律性的升降运动的瞬间、线纱的退圈、套圈、连圈、脱圈、成圈等过程是由织机的沉降片所控制,只有当沉降片保持在稳定、规律的运动过程中,才能够很好的实现线纱的脱圈、退圈等功能。沉降片的基体为平面几何状,习用沉降片(如图1所示)仅在前端1’设有凹面11’,在尾端2’并没有制成凹面,这样就导致沉降片与沉降片圆环槽之间的空间非常紧密,而且随着的每英寸针槽的数量增加,沉降片与沉降片圆环槽之间的空间就越来越紧密,这样容易产生沉降片的尾端与沉降片圆环槽产生摩擦,降低其使用寿命。
发明内容
本发明的目的在于提供一种摩擦力小、使用寿命长的针织机沉降片的改进结构。
为实现上述目的,本发明的技术解决方案是:
本发明是一种针织机沉降片的改进结构,其基体呈几何平面状,它由片鼻、片喉、片颚和片踵组成;所述的片鼻、片喉、片颚设置在片踵的前端;在片鼻、片喉、片颚的厚度方向两边下凹,形成中间低、两边高的对称凹陷的凹槽;在片踵的厚度方向形成一凹槽。
在片踵的厚度方向侧边下凹,形成中间低、两边高的凹槽。
在片踵的厚度方向两边下凹,形成中间低、两边高的对称凹陷的凹槽。
采用上述方案后,由于本发明对位于基体后部的片踵进行了改进,将片踵厚度方向形成一凹槽,从而减少沉降片与沉降片圆环槽的摩擦面积,由原来的整个面接触变为局部的线接触,而产生足够的间隙,减少摩擦面积,使得织布作业运动更加顺畅,而且因为两边凹槽和沉降片圆环槽所产生的间隙变大,可以包含更多的润滑油在其中,增加润滑功能,提升了机器运转的速度,尤其针对细针距针织机,由于其带动的沉降片和织针比一般针距的设备来得多,因此设备运转的负荷更大。综上所述,本发明是通过改进沉降片局部厚度来达到降低摩擦,增加润滑功能,同时因为润滑油的在织造动作中的功能充分发挥使得本身为损耗件的沉降片以及针筒的使用寿命来得更长久。
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步的说明。
附图说明
图1是习用针织机沉降片正视图;
图2是本发明的正视图;
图3是本发明的俯视图;
图4是本发明装配示意图;
图5是本发明装配示意立体图。
具体实施方式
如图2所示,本发明是一种针织机沉降片的改进结构,沉降片10的基体呈几何平面状,它由片鼻1、片喉2、片颚3和片踵4组成。
所述的片鼻1、片喉2、片颚3设置在片踵4的前端。在片鼻1、片喉2、片颚3的厚度方向两边下凹,形成中间低、两边高的对称凹陷的凹槽6(如图3所示);在片踵4的厚度方向两边下凹,形成中间低、两边高的对称凹陷的凹槽7(如图3所示)。
本发明也可在片踵的厚度方向单个侧边下凹,形成中间低、两边高的凹槽。只要通过凹槽可增大沉降片10与沉降片圆环槽20间隙,可以包含更多的润滑油在其中,增加润滑功能即可。
本发明的工作原理:
由于本发明沉降片10在前部和后部皆设有凹槽6、7,沉降片10与沉降片圆环槽20(如图4、图5所示)所产生的间隙变大,并可以包含更多的润滑油在其中,增加润滑功能,使得摩擦力更小。
本发明的结构特别适用于细针距的针织机,细针定义为针筒周长每英寸包含32针(32个针槽)以上的设备。如:筒径为34英寸的单面机,针距为针筒周长,每英寸32针,则总针数约为3408枚上下,沉降片约为3408枚上下。(数量因各家厂商而有些许不同。)
本发明的重点就在于:将沉降片的前端与尾端皆设凹面。

Claims (3)

1.一种针织机沉降片的改进结构,其基体呈几何平面状,它由片鼻、片喉、片颚和片踵组成;所述的片鼻、片喉、片颚设置在片踵的前端;在片鼻、片喉、片颚的厚度方向两边下凹,形成中间低、两边高的对称凹陷的凹槽;其特征在于:在片踵的厚度方向形成一凹槽。
2.根据权利要求1所述的一种针织机沉降片的改进结构,其特征在于:在片踵的厚度方向侧边下凹,形成中间低、两边高的凹槽。
3.根据权利要求1所述的一种针织机沉降片的改进结构,其特征在于:在片踵的厚度方向两边下凹,形成中间低、两边高的对称凹陷的凹槽。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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