CN101775643A - 一种整体“u”形硅芯的生产工艺 - Google Patents

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Abstract

一种整体“U”形硅芯的生产工艺,涉及硅芯拉制技术领域,具体包括以下步骤;将硅芯制成整体“U”形籽晶,将整体“U”形籽晶用上轴升降系统卡紧;将原料棒放置在下轴升降系统的料盘座上,原料棒接近高频加热线圈,操控高频加热线圈,加热原料棒端部;整体“U”形籽晶下降,其竖直段穿过高频加热线圈内孔,插入原料棒的熔区;整体“U”形籽晶缓缓上升,整体“U”形籽晶的两个籽晶头分别引导原料棒头部的熔态硅在籽晶端部结晶,在整体“U”形籽晶两头部持续拉制成硅芯;硅芯拉制到规定长度后,停炉,取出整体“U”形硅芯;采用本工艺拉制出的整体“U”形硅芯,有效降低了还原炉的设计、制造的复杂程度,降低多晶硅生产的单位能耗。

Description

一种整体“U”形硅芯的生产工艺
技术领域
本发明涉及硅芯拉制技术领域,尤其是涉及一种利用整体“U”形籽晶的籽晶头引导熔态硅在籽晶端部结晶,通过控制整体“U”形籽晶、原料棒的运动,最终直接拉制成整体“U”形硅芯的生产工艺。
背景技术
目前,在西门子法生产多晶硅的过程中普片采用的是搭接硅芯技术,它应用于多晶硅生产的一个环节——还原反应过程;还原反应是在一个密闭的还原炉中进行的,在装炉前先在还原炉内用多个硅芯搭接成若干个闭合回路,行话称为“搭桥”,每一个闭合回路的两个竖硅芯分别接在炉底上的两个电极上,两个电极分别接直流电源的正负极,一组搭接好的硅芯相当于一个大电阻,从而对硅芯进行加热,向密闭的还原炉内通入氢气和三氯氢硅,进行还原反应,这样,所需的多晶硅就会在硅芯表面生成。
如图1所示,每个闭合回路均由竖硅芯a(1)、横硅芯(2)、竖硅芯b(3)组成,其中图1显示的是横硅芯(2)搭接在竖硅芯a(1)、竖硅芯b(3)的“V”形口上,横硅芯(2)也可以搭接在竖硅芯a(1)、竖硅芯b(3)的“U”形口上。然而,不管采用哪种搭接技术都存在以下两种缺陷:1、搭接处接触面太小,造成搭接处接触不好电阻较大,还原反应时在此处得到的多晶硅质量较差,行话称为“拐弯料”;2、还原反应过程中,硅芯前后方向可以由U形或V形槽定位,但硅芯左右方向却无法定位,这样,在还原过程中容易造成硅芯倒伏。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种通过整体“U”形籽晶的竖直段结晶熔融态原料棒,直接拉制成整体“U”形硅芯的生产工艺,无需再次搭接单根硅芯,简化了工艺、提高了效率、节省生产成本,同时提升了产品质量。
为了实现上述发明的目的,本发明采用如下技术方案:
一种整体“U”形硅芯的生产工艺,具体包括以下步骤:
a)、将硅芯制成整体“U”形籽晶,具体见专利(1、一种整体“U”形硅芯结构,申请号为:200910066299;2、一种硅芯弯曲设备及其硅芯弯曲方法,申请号为:200910066297)记载内容;
b)、在一个密闭的保护气体环境中的硅芯炉内,将至少一根整体“U”形籽晶用上轴升降系统卡紧;所述整体“U”形籽晶即为专利(1、一种整体“U”形硅芯结构,申请号为:200910066299;2、一种硅芯弯曲设备及其硅芯弯曲方法,申请号为:200910066297)记载的,即整体“U”形籽晶仅为整体“U”形硅芯的两竖直段硅芯较短的形式;
c)、将原料棒放置在下轴升降系统的料盘座上,高频加热线圈下部;
d)、通过控制硅芯炉的下轴升降系统使原料棒接近高频加热线圈,以靠近高频加热线圈且不接触为上限;
e)、对高频加热线圈通高频电,加热原料棒上端部,使其形成熔区;
f)、控制上轴升降系统带动整体“U”形籽晶下降,使整体“U”形籽晶的竖直段穿过高频加热线圈内孔,插入原料棒的熔区;使籽晶端头熔融与原料棒端部熔区形成一体;
g)、通过控制上轴升降系统和下轴升降系统协调运动;使整体“U”形籽晶缓缓上升,整体“U”形籽晶的两个籽晶头分别引导原料棒头部的熔态硅在籽晶端部结晶,在整体“U”形籽晶两头部持续结晶拉制成硅芯;
h)、待硅芯拉制到规定长度后,停炉,从炉中取出整体“U”形硅芯。
所述的整体“U”形硅芯的生产工艺中的保护气体为氢气、氩气等。
由于采用了上述技术方案,本发明具有如下有益效果:
可以直接将本工艺方法拉制出的整体“U”形硅芯倒置在还原炉内,并将整体“U”形硅芯的两个端头接在还原炉的电极上,整个硅芯的电阻是均匀的,可使还原生产出的多晶硅的一级品率大大提高,同时可有效避免还原生产过程中的硅芯倒伏现象;通过采用本工艺方法拉制出的整体“U”形硅芯,有效降低了还原炉的设计、制造的复杂程度,降低多晶硅生产的单位能耗。
附图说明
图1为三根硅芯“V”形口搭接的硅芯桥的结构示意图;
图2为本发明的整体“U”形籽晶结构示意图;
图3为本发明的整体“U”形硅芯结构示意图;
图4为本发明的一根整体“U”形硅芯拉制状态示意图;
图5为图4的俯视图;
图6为本发明的两根整体“U”形硅芯拉制状态示意图;
图7为本发明的整体“U”形籽晶另一种结构示意图;
图8为本发明的整体“U”形籽晶第三种结构示意图;
图9为本发明的整体“U”形籽晶第四种结构示意图;
图中:1、竖硅芯a;2、横硅芯;3、“V”形坡口;4、竖硅芯b;5、整体“U”形籽晶;6、整体“U”形硅芯;7、上轴升降系统;8、高频加热线圈;9、原料棒;10、下轴升降系统;11、双目高频加热线圈。
具体实施方式
参考下面的实施例,可以更详细地解释本发明;但是,需说明的是,本发明并不局限于下述实施例,只要通过整体“U”形籽晶,直接拉制成整体“U”形硅芯的工艺,均在本发明的保护范围之内。
实施例1:
如图4、图5所示,当在硅芯炉内拉制一根整体“U”形硅芯时,具体包括以下步骤;
a)、如图2所示,将硅芯制成一根整体“U”形籽晶5,具体见专利(1、一种整体“U”形硅芯结构,申请号为:200910066299;2、一种硅芯弯曲设备及其硅芯弯曲方法,申请号为:200910066297)记载内容;
b)、在一个密闭的氩气环境中的硅芯炉内,将一根整体“U”形籽晶5用上轴升降系统7卡紧;所述整体“U”形籽晶5即为专利(1、一种整体“U”形硅芯结构,申请号为:200910066299;2、一种硅芯弯曲设备及其硅芯弯曲方法,申请号为:200910066297)记载的,即整体“U”形籽晶5为整体“U”形硅芯6的两竖直段硅芯较短的形式;
c)、将两根原料棒9分别放置在下轴升降系统10的两个料盘座上,其中两根原料棒9分别置于两个高频加热线圈8的下部;
d)、通过控制硅芯炉的下轴升降系统10使两根原料棒9接近高频加热线圈8,以靠近高频加热线圈8且不接触为上限;
e)、对高频加热线圈8通高频电,加热原料棒9上端部,使其形成熔区;
f)、控制上轴升降系统7带动整体“U”形籽晶5下降,使整体“U”形籽晶5的两个竖直段分别穿过两个高频加热线圈8的内孔,并插入原料棒9的熔区;需注意的是,整体“U”形籽晶5下降时,不允许与高频加热线圈8发生接触引起打火现象;籽晶端头熔融与原料棒端部熔区形成一体;
g)、通过控制上轴升降系统7和下轴升降系统10协调运动;使整体“U”形籽晶5缓缓上升,整体“U”形籽晶5的两个籽晶头分别引导两个原料棒9头部的熔态硅在籽晶端部结晶,在整体“U”形籽晶5两头部持续结晶制成硅芯;
h)、待硅芯拉制到规定长度后,停炉,从炉中取出结晶后的整体“U”形硅芯6,如图3所示。
实施例2:
如图6所示,当在硅芯炉内拉制两根整体“U”形硅芯时,具体包括以下步骤;
a)、如图2所示,将硅芯制成两根整体“U”形籽晶5,具体见专利(1、一种整体“U”形硅芯结构,申请号为:200910066299;2、一种硅芯弯曲设备及其硅芯弯曲方法,申请号为:200910066297)记载内容;
b)、在一个密闭的氢气环境中的硅芯炉内,将两根整体“U”形籽晶5分别用上轴升降系统7卡紧;所述整体“U”形籽晶5即为专利(1、一种整体“U”形硅芯结构,申请号为:200910066299;2、一种硅芯弯曲设备及其硅芯弯曲方法,申请号为:200910066297)记载的,即整体“U”形籽晶5仅为整体“U”形硅芯6的两竖直段硅芯较短的形式;
c)、将两根原料棒9放置在下轴升降系统7的料盘座上,其中两根原料棒9分别置于两个双目高频加热线圈11的下部,具体见专利(1、可同时生产两根硅芯及其它晶体材料的高频线圈,专利号为:200810182000.2)记载内容;
d)、通过控制硅芯炉的下轴升降系统10使原料棒9分别接近两个双目高频加热线圈11,以靠近两个双目高频加热线圈11且不接触为上限;
e)、分别对两个双目高频加热线圈11通高频电,加热两根原料棒9上端部,使其形成熔区;
f)、控制上轴升降系统7带动两根整体“U”形籽晶5下降,使每根整体“U”形籽晶5的两个竖直段分别穿过双目两个高频加热线圈11对应的两个内孔,并插入原料棒9的熔区;籽晶端头熔融与原料棒端部熔区形成一体;
g)、通过控制上轴升降系统7和下轴升降系统10协调运动;使两根整体“U”形籽晶5缓缓上升,每根整体“U”形籽晶5的两个籽晶头分别引导一个原料棒9头部的熔态硅在籽晶端部结晶,在整体“U”形籽晶5两头部持续结晶制成硅芯;
h)、待硅芯拉制到规定长度后,停炉,从炉中取出结晶后的整体“U”形硅芯6,如图3所示。

Claims (3)

1.一种整体“U”形硅芯的生产工艺,其特征是:所述生产工艺具体包括以下步骤;
a)、将硅芯制成整体“U”形籽晶(5);
b)、在一个密闭的保护气体环境中的硅芯炉内,将至少一根整体“U”形籽晶(5)用上轴升降系统(7)卡紧;
c)、将原料棒(9)放置在下轴升降系统(10)的料盘座上,高频加热线圈(8)下部;
d)、通过控制硅芯炉的下轴升降系统(10)使原料棒(9)接近高频加热线圈(8),以靠近高频加热线圈(8)且不接触为上限;
e)、对高频加热线圈(8)通入高频电,加热原料棒(9)上端部,使其形成熔区;
f)、控制上轴升降系统(7)带动整体“U”形籽晶(5)下降,使整体“U”形籽晶(5)的竖直段穿过高频加热线圈(8)内孔,插入原料棒(9)的熔区;籽晶端头熔融与原料棒端部熔区形成一体;
g)、通过控制上轴升降系统(7)和下轴升降系统(10)协调运动;使整体“U”形籽晶(5)缓缓上升,整体“U”形籽晶(5)的两个籽晶头分别引导原料棒头部的熔态硅在籽晶端部结晶,在整体“U”形籽晶(5)两头部持续拉制成硅芯;
h)、待硅芯拉制到规定长度后,停炉,从炉中取出结晶后的整体“U”形硅芯(6)。
2.根据权利要求1所述的整体“U”形硅芯的生产工艺,同时拉制两根及其以上整体“U”形硅芯(6)均在本发明权利要求之内,如图6所示。
3.根据权利要求1所述的整体“U”形籽晶(5)不仅只是图2一种形式,如图7所示,本发明给出整体“U”形籽晶(5)的结构为两个圆弧三个直线段的形式;如图8所示,本发明给出整体“U”形籽晶(5)的结构为三个圆弧四个直线段的形式;如图9所示,本发明给出整体“U”形籽晶(5)的结构为四个圆弧五个直线段的形式;这说明本发明可以产生出多种变化,由于变化较多,本发明并不在此一一详述;整体“U”形籽晶(5)的特征为:整体“U”形籽晶(5)至少有两个直线段,两直线段之间至少有一个圆弧,且直线和圆弧为一体结构。
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