CN101759305A - 一种高硬度、高含铁量的水质阻垢剂 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种高硬度、高含铁量的水质阻垢剂，其制备包括由羟基亚乙基二膦酸、丙烯酸-丙烯酸甲酯共聚物、柠檬酸铵、六亚甲基二胺四亚甲基磷酸以及纯水混合制成有机磷酸盐及聚合物，所述羟基亚乙基二膦酸配比重量份为20％、所述聚丙烯酸重量份为12％、所述柠檬氨配比重量份为10％、所述六亚甲基二胺四亚甲基磷酸配比重量份为10％，上述配料与48％重量份的纯水混合制成。本发明有益效果为：通过新型材料的配置使其在传统单一阻垢分散剂具有螯合、络合性能的基础上，增加了专门的络合分散铁和缓蚀的功能，并且具有低廉的成本和增效的作用；成本较低，对膜系统不会造成二次污染。

Description

一种高硬度、高含铁量的水质阻垢剂
技术领域
本发明涉及一种用于膜法水处理的防止膜系统结垢的分散剂，具体地说是一种高硬度、高含铁量的水质阻垢剂。
背景技术
水中的含铁物质对现在常规使用的膜元件都会造成不可恢复的污染，控制铁离子在水中的影响成为难题，然而控制铁离子方法主要有：离子交换、添加絮凝剂、加阻垢分散剂等方法；其中的离子交换软化法一般采用钠型阳树脂交换水中的铁，使其浓度度降低，树脂饱和后，用工业盐进行再生，将树脂中的铁离子随再生液流出。这种方法的缺点是需要投入较大的交换设备，并定期更换老化的树脂，成本较高，再生时浪费了大量的水资源，另外铁对于数值也有不可逆转的破坏作用；添加絮凝剂法对以铁离子具有很好的效果，但如有操作问题很容易会是絮凝剂进入膜系统；加阻垢分散剂法利用其良好的螯合、络合性能，对胶体污堵、钙镁污染、有机物污染具有良好的的防治效果；目前阻垢分散剂的主要原料为有机磷酸盐、磷酸酯、聚合物等，在含有大量铁离子的水质中，一般采用阻垢分散剂的量较大，效果不是很好，且阻垢分散剂本身的有机成分对膜系统的二次污染。
发明内容
针对以上缺陷，本发明提供一种成本较低、对高含铁水阻垢处理效果好、对膜系统不会造成二次污染的高硬度水质阻垢剂，从而可在有效阻垢的同时而达到良好缓蚀效果的目的。
为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种高硬度、高含铁量的水质阻垢剂，一种高硬度水质阻垢剂，其制备包括由羟基亚乙基二膦酸、丙烯酸-丙烯酸甲酯共聚物、柠檬酸铵、六亚甲基二胺四亚甲基磷酸以及纯水混合制成有机磷酸盐及聚合物，所述羟基亚乙基二膦酸配比重量份为20％、所述聚丙烯酸重量份为12％、所述柠檬氨配比重量份为10％、所述六亚甲基二胺四亚甲基磷酸配比重量份为10％，上述配料与48％重量份的纯水混合制成。
本发明所述的高硬度、高含铁量的水质阻垢剂的有益效果为：通过新型材料的配置使其在传统单一阻垢分散剂具有螯合、络合性能的基础上，增加了专门的络合分散铁和缓蚀的功能，并且具有低廉的成本和增效的作用；成本较低，对膜系统不会造成二次污染。
具体实施方式
实施例1
本发明实施例所述的高硬度、高含铁量的水质阻垢剂，其制备包括由羟基亚乙基二膦酸、丙烯酸-丙烯酸甲酯共聚物、柠檬酸铵、六亚甲基二胺四亚甲基磷酸以及纯水混合制成有机磷酸盐及聚合物，所述羟基亚乙基二膦酸配比重量份为20％、所述聚丙烯酸重量份为12％、所述柠檬氨配比重量份为10％、所述六亚甲基二胺四亚甲基磷酸配比重量份为10％，上述配料与48％重量份的纯水混合制成。
实施例2
本发明实施例所述的高硬度、高含铁量的水质阻垢剂，其制备包括由羟基亚乙基二膦酸、丙烯酸-丙烯酸甲酯共聚物、柠檬酸铵、六亚甲基二胺四亚甲基磷酸以及纯水混合制成有机磷酸盐及聚合物，所述羟基亚乙基二膦酸配比重量份为19.5％、所述聚丙烯酸重量份为11.5％、所述柠檬氨配比重量份为10.5％、所述六亚甲基二胺四亚甲基磷酸配比重量份为10.5％，上述配料与48％重量份的纯水混合制成。
实施例3
本发明实施例所述的高硬度、高含铁量的水质阻垢剂，其制备包括由羟基亚乙基二膦酸、丙烯酸-丙烯酸甲酯共聚物、柠檬酸铵、六亚甲基二胺四亚甲基磷酸以及纯水混合制成有机磷酸盐及聚合物，所述羟基亚乙基二膦酸配比重量份为20.4％、所述聚丙烯酸重量份为12.6％、所述柠檬氨配比重量份为9.6％、所述六亚甲基二胺四亚甲基磷酸配比重量份为9.4％，上述配料与48％重量份的纯水混合制成。

Claims (1)

1.一种高硬度、高含铁量的水质阻垢剂，其特征在于：包括由羟基亚乙基二膦酸、丙烯酸-丙烯酸甲酯共聚物、柠檬酸铵、六亚甲基二胺四亚甲基磷酸以及纯水混合制成有机磷酸盐及聚合物，所述羟基亚乙基二膦酸配比重量份为20％、所述聚丙烯酸重量份为12％、所述柠檬氨配比重量份为10％、所述六亚甲基二胺四亚甲基磷酸配比重量份为10％，上述配料与48％重量份的纯水混合制成。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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