CN101735539A - 高分子化合物pvb降解塑料 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种高分子化合物PVB降解塑料的生产法,是以聚乙烯醇缩丁醛、淀粉为主要材料,加入偶联剂、增塑剂、相容剂、填充剂、润滑剂,通过高速混合、捏和,挤出造粒制成的一种降解塑料,可广泛应用农膜、地膜、食品包装、日用电器包装等,使用废弃后可生物降解。生产工艺简单,生产成本低。
Description
技术领域
本发明涉及到降解塑料中一种高分子化合物PVB降解塑料。
现在技术
近年来,为了消灭“白色污染”,解决石油化工产品聚乙烯、聚丙烯等材料的价格逐步上升问题,不少科研单位开发研制一种新型材料——降解塑料。其中有以天然淀粉为填充剂,或以天然淀粉及其衍生物共混体系为主要组分的都属此类降解塑料。除全淀粉热塑型塑料外,其它品种一般都是在相容剂或增容剂存在下,由淀粉与合成聚合物共混而制得。
去年江苏浙江研制成功的一种PLA全降解塑料,这种塑料的制造工艺是将淀粉水解成葡萄糖,然后制成L-乳酸,再制成聚乳酸。但生产这种塑料是以L-乳酸为原料,纯度高达90%以下,从设备上、工艺上,目前难以批量生产,而且价格偏高。
发明内容
本发明的目的提供一种生产工艺简单,成本低的一种高分子化合物PVB降解塑料的生产方法。
本发明是这样实现的:
聚乙烯醇缩丁醛是聚乙烯醇与丁醛作用而成的高分子化合物,熔点低与淀粉相容性好,熔点相近,从而增加了成膜强度,提高了韧性、透明度,制成的颗粒状塑料能达到塑料的力学性能和物理性能,其重量配比为:
聚乙烯醇缩丁醛 35-40%
淀粉 35-40%
丙三醇 12-16%
偶联剂 2-6%
相容剂 5-8%
增塑剂 7-12%
润滑剂 2-4%
填充剂 2-4%
其生产步骤是:
1、将淀粉送入高速混合机内,在300转/分混合下,至淀粉含水率低于8%时,喷洒偶联剂,搅拌5-10分钟,加入丙三醇,在300转/分下混合,至料温到100℃时,停止混合,室温静置24小时。
2、将静置好的混合料送入S型捏和机,在100℃下依次加入聚乙烯醇缩丁醛、相容剂、增塑剂、填充剂、润滑剂捏和30分钟,成为捏和料。
3、将捏和料送入双螺杆挤出机,控温135-145℃,以水循环切粒方式,造出颗粒,制成高分子化合物PVB降解塑料。
实施例
一、将35公斤淀粉送入高速混合机内,在300转/分混合下,混合至淀粉含水率低于8%时,喷洒偶联剂0.2公斤,混合5分钟,加入丙三醇12公斤,在300转/分下混合,至料温升到100℃时停止混合,室温静置24小时,将静置好的原料送入S型捏和机,依次加入聚乙烯醇缩丁醛35公斤、相容剂5公斤、增塑剂7公斤、填充剂2公斤,在100℃下捏和30分钟,然后送入双螺杆挤出机,控温135-140℃之间,水循环造粒即成为高分子化合物PVB降解塑料。
二、将40公斤淀粉送入高速混合机内,在300转/分混合下,至淀粉含水率低于8%时,加入偶联剂0.6公斤,混合10分钟,加入丙三醇16公斤,在300转/分下混合,至料温升到100℃时,停止混合,室温静置24小时;将静置好的原料送入S型捏和机,在100℃下依次加入聚乙烯醇缩丁醛40公斤、相容剂8公斤、增塑剂12公斤、填充剂4公斤,在100℃下捏和30分钟,加入润滑剂;将捏和料送入双螺杆挤出机,控温135℃-140℃,水循环造粒制成为高分子化合物PVB降解塑料。
三、本配方使用的偶联剂是钛酸酯偶联剂。
四、相容剂是乙烯-丙烯酸乙酯共聚物。
五、增塑剂是聚己内酯,分子量50000的产品。
六、填充剂是纳米碳酸钙。
七、润滑剂是聚乙烯蜡。
八、淀粉为200目玉米、木薯食用级淀粉。
Claims (2)
1.一种高分子化合物PVB降解塑料它的重量配比是:
聚乙烯醇缩丁醛35-40%
淀粉 35-40%
丙三醇 12-16%
偶联剂 2-6%
相容剂 5-8%
增塑剂 7-12%
润滑剂 2-4%
填充剂 2-4%
它的生产步骤是:
将淀粉送入高速混合机内,在300转/分混合下,至淀粉含水率8%以下,加入偶联剂混合10分钟后加入丙三醇,在300转/分下混合,至料温100℃时,停止混合,室温下静置24小时;将静置好的原料送入S型捏和机,在控温100℃下,依次加入聚乙烯醇缩丁醛、相容剂、增塑剂、填充剂、润滑剂,捏和30分钟;将捏和料送入双螺杆造粒机,控温135-145℃之间,水循环切粒即制成高分子化合物PVB降解塑料。
2.如权利要求1所述,高分子化合物PVB降解塑料,它的技术特征是:
①本产品使用的偶联剂是钛酸酯偶联剂。
②相容剂是乙烯-丙烯酸乙酯共聚物。
③增塑剂是分子量50000的聚乙内酯树酯。
④填充剂是纳米碳酸钙。
⑤润滑剂是聚乙烯蜡。
⑥淀粉是300目玉米、木薯食用级淀粉。
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C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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