CN101708594A - 研磨机盘面整形修正轮 - Google Patents
研磨机盘面整形修正轮 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101708594A CN101708594A CN200910263282A CN200910263282A CN101708594A CN 101708594 A CN101708594 A CN 101708594A CN 200910263282 A CN200910263282 A CN 200910263282A CN 200910263282 A CN200910263282 A CN 200910263282A CN 101708594 A CN101708594 A CN 101708594A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- wheel
- grinder
- gear ring
- reshaping
- grinding discs
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
Abstract
本发明是研磨机盘面整形修正轮，其结构是由传动轮与整形轮两部分组成，传动轮啮合在外齿圈与整形轮之间，从而保证整形轮沿着内齿圈做圆周运动，外齿圈接研磨机中心轴。整形轮在下研磨盘与上研磨盘之间。本发明的优点：通过整形轮沿着内齿圈做匀速圆周运动，可以在较短的时间内，使盘面的水平度和平整度达到要求，从而提高水晶片厚度率的一致性，提高水晶片品质。同时，传动轮与整形轮的运动，可以达到清洗内外齿圈的目的，从而减少游轮消耗。
Description
技术领域
本发明涉及的是研磨机盘面整形修正轮，应用于电子元器件晶体制造领域中的石英水晶片的加工，属于石英电子元器件制作的技术领域。
背景技术
随着电子信息技术的飞速发展，对于频率元件的要求越来越多。作为频率元件的一种，石英晶体也面临更高的品质要求。那么作为石英晶体的核心-水晶片同样也面临更高的可靠性要求。因为研磨机在加工过程中研磨盘面各处磨损不一，为提高研磨水晶片厚度的一致性，必须在研磨机研磨一段时间后对研磨盘的平整度进行修正，以保证研磨过程的品质。现有的研磨机盘面修正方法是由4个修正轮组成，将4个修正轮均匀地啮合在研磨机内外齿圈之间，使修正轮沿着研磨机内齿圈做圆周运动。由附图4可以看出，其无法将上下研磨盘盘面修正到水平位置，只能修正盘面的光洁度。
发明内容
本发明提出一种研磨机盘面整形修正轮，其目的旨在较短的时间内将研磨盘的盘面修复到标准以内，既能改善研磨水晶片厚度的一致性，又能缩短修盘时间，提高设备的使用效率。
本发明的技术解决方案：其特征是由传动轮与整形轮两部分组成，传动轮啮合在外齿圈与整形轮之间，从而保证整形轮沿着内齿圈做圆周运动。
本发明的优点：通过整形轮沿着内齿圈做匀速圆周运动，可以在较短的时间内，使盘面的水平度和光洁度达到要求，从而提高水晶片厚度率的一致性，提高水晶片品质。同时，传动轮与整形轮的运动，可以达到清洗内外齿圈的目的，从而减少游轮消耗。
附图说明：
附图1是本发明工作俯视示意图；
附图2是本发明工作剖示意图；
附图3是现有修正轮工作俯视图；
附图4是现有修正轮工作剖示意图。
图中的1为内齿圈、2为下研磨盘、3为整形轮、4为传动轮、5为外齿圈、6为研磨机中心轴、7是上研磨盘、8是修正轮。
具体实施方式
对照附图1、2，其结构是包括内齿圈1、外齿圈5、研磨机中心轴6、下研磨盘2、上研磨盘7、整形轮3和传动轮4，其中外齿圈5接研磨机中心轴6，传动轮4啮合在整形轮3与外齿圈5之间，从而保证整形轮3沿着内齿圈1做圆周运动。下研磨盘2与上研磨盘7之间是整形轮3，整形轮3可以先修复上研磨盘7和下研磨盘2凸凹起部分，然后再修整盘面的光洁度，将上下研磨盘盘面修正水平、光洁。
Claims (3)
1.研磨机盘面整形修正轮，其特征是由传动轮(4)与整形轮(3)两部分组成，传动轮(4)啮合在外齿圈(5)与整形轮(3)之间，从而保证整形轮(3)沿着内齿圈(1)做圆周运动。
2.根据权利要求1所述的研磨机盘面整形修正轮，其特征是传动轮(4)与外齿圈(5)和整形轮(3)的啮合是在整形轮(3)的内部。
3.根据权利要求1所述的研磨机盘面整形修正轮，其特征是整形轮(3)在下研磨盘(2)与上研磨盘(7)之间。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN200910263282A CN101708594A (zh) | 2009-12-18 | 2009-12-18 | 研磨机盘面整形修正轮 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN200910263282A CN101708594A (zh) | 2009-12-18 | 2009-12-18 | 研磨机盘面整形修正轮 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101708594A true CN101708594A (zh) | 2010-05-19 |
Family
ID=42401411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN200910263282A Pending CN101708594A (zh) | 2009-12-18 | 2009-12-18 | 研磨机盘面整形修正轮 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101708594A (zh) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103991033A (zh) * | 2013-02-15 | 2014-08-20 | 硅电子股份公司 | 修整同时双面抛光半导体晶片的抛光垫的方法 |
| CN103386649B (zh) * | 2012-05-09 | 2015-11-25 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 整理盘、研磨垫整理器及研磨装置 |
| CN105437078A (zh) * | 2014-09-12 | 2016-03-30 | 南昌欧菲光学技术有限公司 | 研磨盘清洁装置 |
| CN107520754A (zh) * | 2017-08-11 | 2017-12-29 | 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 | 一种研磨机清洗机构 |
-
2009
- 2009-12-18 CN CN200910263282A patent/CN101708594A/zh active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103386649B (zh) * | 2012-05-09 | 2015-11-25 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 整理盘、研磨垫整理器及研磨装置 |
| CN103991033A (zh) * | 2013-02-15 | 2014-08-20 | 硅电子股份公司 | 修整同时双面抛光半导体晶片的抛光垫的方法 |
| US9296087B2 (en) | 2013-02-15 | 2016-03-29 | Siltronic Ag | Method for conditioning polishing pads for the simultaneous double-side polishing of semiconductor wafers |
| CN103991033B (zh) * | 2013-02-15 | 2016-10-05 | 硅电子股份公司 | 修整同时双面抛光半导体晶片的抛光垫的方法 |
| CN105437078A (zh) * | 2014-09-12 | 2016-03-30 | 南昌欧菲光学技术有限公司 | 研磨盘清洁装置 |
| CN107520754A (zh) * | 2017-08-11 | 2017-12-29 | 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 | 一种研磨机清洗机构 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN201105406Y (zh) | 一种行星仿形抛光磨头 | |
| CN101708594A (zh) | 研磨机盘面整形修正轮 | |
| CN202825512U (zh) | 研磨垫及化学机械研磨机台 | |
| CN105538110B (zh) | 一种用于基片加工的研磨与抛光两用柔性加工装置 | |
| CN106312718A (zh) | 四驱双面晶片磨光机 | |
| CN104114322A (zh) | 晶片的双面研磨方法 | |
| JP2008254166A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク製造方法および磁気ディスク用ガラス基板 | |
| CN206084735U (zh) | 玻璃平面定位研磨治具 | |
| CN204893676U (zh) | 一种振动光饰机 | |
| US20100247978A1 (en) | Method of manufacturing a substrate for a magnetic disk | |
| CN204913546U (zh) | 一种磨锅机用打磨装置 | |
| CN110871385A (zh) | 双面抛光机与抛光方法 | |
| CN202964416U (zh) | 一种修整双面抛光机大盘的修盘装置 | |
| CN102814725B (zh) | 一种化学机械研磨方法 | |
| CN201815934U (zh) | 玻璃珠磨抛机的上、下磨抛盘的配合结构 | |
| CN202804910U (zh) | 晶体频率片研磨机 | |
| CN203918808U (zh) | 一种蓝宝石抛光用铜盘 | |
| CN203282356U (zh) | 一种抛光磨轮 | |
| JP6148345B2 (ja) | 非磁性基板の製造方法 | |
| JP6830614B2 (ja) | 板ガラスの製造方法、板ガラスの製造装置 | |
| CN204868496U (zh) | 振动光饰机 | |
| CN215240140U (zh) | 一种致冷件侧面瓷板研磨装置 | |
| CN114523340A (zh) | 研磨抛光成套装备、研磨抛光方法 | |
| JP2015067507A (ja) | コロイダルシリカ砥粒の製造方法および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
| CN209793309U (zh) | 一种人造石英石板打磨机、打磨头及磨具 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20100519 |