CN101673914A - 旋转体与电极的电连接结构 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种接触可靠、使用寿命长的旋转体与电极的电连接结构，包括：电极、设置在旋转体一侧端面上的导电动环和与导电动环相配合的固定座、以及与电极电连接的导电静环，所述旋转体的主轴活动穿设在导电静环中，导电静环与固定座之间通过至少三根与旋转体的主轴相平行的弹簧设置在一起。本发明采用了导电动环和导电静环通过弹簧抵压在一起这种导电方式，增加了接触面积，并使得接触更加可靠，大大延长了使用寿命；除此之外，通过在导电静环上开设环形膏槽，在环形膏槽中注入导电膏，大大改善了导电动环和导电静环之间的导电性能。

Description

旋转体与电极的电连接结构
技术领域
本发明涉及到旋转体与电极的电连接结构。
背景技术
大家知道，旋转体通常都是通过电刷与电极电连接。如图1所示，在作为旋转体的滚筒1的一侧端面上设置有铜环2，铜环2与固定在碳刷座3上的碳刷4(电刷)相互抵压在一起。其工作原理为：滚筒1带动铜环2转动，碳刷4与铜环2端面相互摩擦(动接触)，将电极5与滚筒1接通，使滚筒1带电。由于碳刷4与铜环2之间的接触面积较小，当流过的电流较大时，就需要使用多个碳刷，使得滚筒1与电极4的电连接结构复杂，增加了装配难度；此外，碳刷在使用过程中非常容易摩损，需要定期更换；还有，灰尘、杂质等会进入到碳刷内，导致碳刷接触不良，影响到碳刷的导电性能，这种现象在电镀等使用环境相对恶劣行业中尤为明显。
发明内容
本发明所要解决的一个技术问题是：提供一种接触可靠、使用寿命长的旋转体与电极的电连接结构。
为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：旋转体与电极的电连接结构，包括：电极、设置在旋转体一侧端面上的导电动环和与导电动环相配合的固定座、以及与电极电连接的导电静环，所述旋转体的主轴活动穿设在导电静环中，导电静环与固定座之间通过至少三根与旋转体的主轴相平行的弹簧设置在一起。
在所述的导电静环与导电动环相邻的一侧端面上还设置有环形膏槽和与环形膏槽相连通的灌膏通道，环形膏槽中注满导电膏，灌膏通道在导电静环的外沿形成灌膏口。
所有的弹簧围绕着旋转体主轴的轴线均匀布置。
本发明的有益效果是：本发明采用了导电动环和导电静环通过弹簧抵压在一起这种导电方式，增加了接触面积，并使得接触更加可靠，大大延长了使用寿命；此外，通过在导电静环上开设环形膏槽，在环形膏槽中注满导电膏，大大改善了导电动环和导电静环之间的导电性能。
附图说明
图1是背景技术中所述的电刷与电极电连接的结构示意图；
图中：1、滚筒，2、铜环，3、碳刷座，4、碳刷，5、电极；
图2是本发明的结构示意图；
图3是图1中A部分的放大结构示意图；
图2、图3中：1、铁环，2、固定套，3、弹簧，4、灌膏口，5、环形膏槽，6、滚筒，7、主轴，8、导电动环，9、导电静环，10、电极，11、导电膏，12、灌膏通道。
具体实施方式
下面结合附图，详细描述本发明的具体实施方案。
如图2、图3所示，本发明所述的旋转体与电极的电连接结构，包括：电极10、设置在滚筒6(旋转体)一侧端面上的导电动环8和与导电动环8相配合的铁环1(固定座)、以及与电极10电连接的导电静环9，滚筒6的主轴活动穿设在导电静环9中，导电静环9与铁环1之间通过三根围绕着主轴7的轴线均匀布置弹簧3设置在一起；在所述的导电静环9与导电动环8相邻的一侧端面上还设置有环形膏槽和与环形膏槽相连通的灌膏通道12，环形膏槽中注满导电膏11，灌膏通道12在导电静环9的外沿形成灌膏口4。
本发明采用了导电动环8和导电静环9通过弹簧3抵压在一起这种导电方式，增加了接触面积，并使得接触更加可靠，大大延长了使用寿命；除此之外，通过在导电静环9上开设环形膏槽11，而且在环形膏槽11中注满导电膏13，大大改善了导电动环8和导电静环9之间的导电性能。

Claims (3)

1.旋转体与电极的电连接结构，包括：电极、设置在旋转体一侧端面上的导电动环和与导电动环相配合的固定座，其特征在于：还包括有与电极电连接的导电静环，所述旋转体的主轴活动穿设在导电静环中，导电静环与固定座之间通过至少三根与旋转体的主轴相平行的弹簧设置在一起。
2.如权利要求1所述的旋转体与电极的电连接结构，其特征在于：在所述的导电静环与导电动环相邻的一侧端面上还设置有环形膏槽和与环形膏槽相连通的灌膏通道，环形膏槽中注满导电膏，灌膏通道在导电静环的外沿形成灌膏口。
3.如权利要求1或2所述的旋转体与电极的电连接结构，其特征在于：所有的弹簧围绕着旋转体主轴的轴线均匀布置。
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Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20100317